JP2008051846A - Ffsモードの液晶表示パネル - Google Patents

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Abstract

【課題】高精細化されておりながら画素容量が大きくてクロストークやフリッカが少なく
、表示画質が良好なFFSモードの液晶表示パネルを提供すること。
【解決手段】平行に設けられた複数の走査線12及びコモン配線13と、走査線12と直
交する方向に設けられた複数の信号線17と、走査線12及び信号線17の交差部近傍に
設けられたTFTと、複数の走査線12及び信号線17で区画された領域に形成された共
通電極14と、共通電極14上に設けられた絶縁膜を介して形成された画素電極21と、
画素電極21に設けられた複数のスリット20と、を有するFFSモードの液晶表示パネ
ルにおいて、前記絶縁膜は複層構造を有し、TFTのドレイン電極Dの画素容量形成領域
D1が複層構造の絶縁膜間を共通電極14の周縁に沿って形成され、画素電極21はドレ
イン電極Dとコンタクトホール19を経て電気的に接続されていることを特徴とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、フリンジ・フィールド・スィッチング(Fringe Field Switching:以下、「
FFS」という。)モードの液晶表示パネルに関し、特に高精細化されておりながら画素
容量が大きくてクロストークやフリッカが少なく、表示画質が良好なFFSモードの液晶
表示パネルに関する。
近年、情報通信機器のみならず一般の電気機器においても液晶表示パネルが多く利用さ
れている。従来から多く用いられている液晶表示パネルは、表面に電極等が形成された一
対のガラス等からなる基板と、この一対の基板間に形成された液晶層と、からなり、両基
板上の電極に電圧が印加されることにより、液晶を再配列させて光の透過率を変えること
により種々の映像を表示する、言わば縦方向電界モードともいうべきものである。このよ
うな縦方向電界モードの液晶表示パネルは、TN(Twisted Nematic)モードやVA(Ver
tical Alignment)モードのものが存在するが、視野角が狭いという問題点が存在するた
め、MVA(Multidomain Vertical Alignment)モード等種々の改良された縦方向電界モ
ードの液晶表示パネルが開発されている。
一方、上述の縦方向電界モードの液晶表示パネルとは異なり、一方の基板にのみ電極を
備えた横方向電界モードと言うべき液晶表示パネルも、IPS(In-Plane Switching)モ
ードの液晶表示パネルとして知られている(下記特許文献1及び2参照)。ここでこのI
PSモードの液晶表示パネルの動作原理を図6及び図7を用いて説明する。なお、図6は
IPSモードの液晶表示パネルの1画素分の模式平面図であり、図7は図6のC−C線に
沿った断面図である。
このIPSモードの液晶表示パネル50は、アレイ基板ARとカラーフィルタ基板CF
とを備えている。アレイ基板ARは、第1の透明基板51の表面にそれぞれ平行に複数の
走査線52及びコモン配線53が設けられ、これら走査線52及びコモン配線53に直交
する方向に複数の信号線54が設けられている。そして、各画素の中央部にコモン配線5
3から帯状に、図6においては例えば櫛歯状の対向電極55が設けられ、この対向電極5
5の周囲を挟むように同じく櫛歯状の画素電極56が設けられており、この画素電極56
の表面は例えば窒化硅素からなる保護絶縁膜57及びポリイミド等からなる配向膜58に
よって被覆されている。
そして、走査線52と信号線54との交差点近傍にはスイッチング素子としてのTFT
(Thin Film Transistor:薄膜電界効果トランジスタ)が形成されている。このTFTは
、走査線52と信号線54との間に半導体層59が配置され、半導体層59上の信号線部
分がTFTのソース電極Sを構成し、半導体層59の下部の走査線部分がゲート電極Gを
構成し、また、半導体層59の一部分と重なる画素電極56の部分がドレイン電極Dを構
成している。
また、カラーフィルタ基板CFは、第二の透明基板60の表面にカラーフィルタ層61
、オーバーコート層62及び配向膜63が設けられた構成を有している。そして、アレイ
基板ARの画素電極56及び対向電極55とカラーフィルタ基板CFのカラーフィルタ層
61側とが互いに対向するようにアレイ基板AR及びカラーフィルタ基板CFを対向させ
、その間に液晶LCを封入するとともに、両基板のそれぞれ外側に偏光板64及び65を
偏光方向が互いに直交する方向となるように配置することにより、IPSモードの液晶表
示パネル50が形成される。
このIPSモードの液晶表示パネル50は、図7に示したように、画素電極56と対向
電極55との間に電界を形成すると、水平方向に配向していた液晶が水平方向に旋回する
ことによりバックライトからの入射光の透過量を制御することができるようになる。この
IPSモードの液晶表示パネル50は、広視野角で、高コントラストであるという長所が
あるが、対向電極55がコモン配線53ないし走査線52と同じ金属材料で形成されるた
めに開口率及び透過率が低く、又、視角による色変化があるという問題点が存在する。
このようなIPSモードの液晶表示パネルの低開口率及び低透過率という問題点を解決
するために、いわゆる斜め電界方式ともいうべきFFSモードの液晶表示パネルが開発さ
れている(下記特許文献3〜5参照)。このFFSモードの液晶表示パネルの動作原理を
図8及び図9を用いて説明する。なお、図8はFFSモードの液晶表示パネルの1画素分
の模式平面図であり、図9は図8のD−D線に沿った断面図である。
このFFSモードの液晶表示パネル70Aは、アレイ基板ARとカラーフィルタ基板C
Fとを備えている。アレイ基板ARは、第1の透明基板71の表面にそれぞれ平行に複数
の走査線72及びコモン配線73が設けられ、これら走査線72及びコモン配線73に直
交する方向に複数の信号線74が設けられている。そして、走査線72及び信号線74で
区画された領域のそれぞれを覆うようにコモン配線73に接続されたITO(Indium Tin
Oxide)等からなる透明材料で形成された共通電極(「対向電極」ともいわれる)75が
設けられ、この共通電極75の表面にゲート絶縁膜76を介してストライプ状に複数のス
リット77Aが形成されたITO等の透明材料からなる画素電極78Aが設けられている
。そして、この画素電極78A及び複数のスリット77Aの表面は配向膜80により被覆
されている。
そして、走査線72と信号線74との交差位置の近傍にはスイッチング素子としてのT
FTが形成されている。このTFTは、走査線72の表面に半導体層79が配置され、半
導体層79の表面の一部を覆うように信号線74の一部が延在されてTFTのソース電極
Sを構成し、半導体層79の下部の走査線部分がゲート電極Gを構成し、また、半導体層
79の一部分と重なる画素電極78Aの部分がドレイン電極Dを構成している。
また、カラーフィルタ基板CFは、第二の透明基板82の表面にカラーフィルタ層83
、オーバーコート層84及び配向膜85が設けられた構成を有している。そして、アレイ
基板ARの画素電極78A及び共通電極75とカラーフィルタ基板CFのカラーフィルタ
層83とが互いに対向するようにアレイ基板AR及びカラーフィルタ基板CFを対向させ
、その間に液晶LCを封入するとともに、両基板のそれぞれ外側に偏光板86及び87を
偏光方向が互いに直交する方向となるように配置することにより、FFSモードの液晶表
示パネル70Aが形成される。
このFFSモードの液晶表示パネル70Aは、画素電極78Aと共通電極75の間に電
界を形成すると、図9に示したように、この電界は画素電極78Aの両側で共通電極75
に向かうため、スリット77Aに存在する液晶だけでなく画素電極78A上に存在する液
晶も動くことができる。そのため、FFSモードの液晶表示パネル70Aは、IPSモー
ドの液晶表示パネル50よりも広視野角かつ高コントラストであり、更に高透過率である
ため明るい表示が可能となるという特徴を備えている。加えて、FFSモードの液晶表示
パネル70Aは、IPSモードの液晶表示パネル50よりも平面視で画素電極78Aと共
通電極75との重複面積が大きいためにより大きな保持容量が副次的に生じ、別途補助容
量線を設ける必要がなくなるという長所も存在する。
なお、FFSモードの液晶表示パネルにおいては、下記特許文献1に開示されているI
PSモードの液晶表示パネルの場合と同様に、表示特性上、ラビング方向は信号線と直交
するのがよく、また画素電極とラビング方向とは微小角度の傾きを設けた方がよいことか
ら、図10に示したFFSモードの液晶表示パネル70Bのように画素電極78Bに設け
るストライプ状のスリット77Bを走査線72ないしコモン配線73に対して傾いた構造
とすることが行われており、同じく、視角によって色変化が認められなくなるようにする
ため、図11に示したFFSモードの液晶表示パネル70Cのように、画素電極78Cに
設けるストライプ状のスリット77Cを「く」字状となるように配置してデュアルドメイ
ン化することも、更には、図12に示したFFSモードの液晶表示パネル70Dのように
、信号線72に対向する部分に設けられるカラーフィルタ基板のブラックマトリクスが直
線状とならないようにし、ブラックマトリクスが目立たない画像表示に適したものとする
ために、信号線72を走査線74と直交する方向にクランク状に設けて複数の共通電極及
び画素電極78Dをデルタ配置とすることも行われている。
なお、図10及び図11に示したFFSモードの液晶表示パネル70B及び70Cは、
図8に示したFFSモードの液晶表示パネル70Aとは画素電極78Bないし78Cに設
けるスリット77Bないし77Cの傾きが相違するのみであり、更に、図12に示したF
FSモードの液晶表示パネル70Dは、図8に示したFFSモードの液晶表示パネル70
Aとは画素電極78Dに設けるスリット77Dの傾き及び複数の共通電極及び画素電極7
8Dをデルタ配置とした点が相違するのみであるので、図8に示したFFSモードの液晶
表示パネル70Aと同一の構成部分については同一の参照符号を付与してその詳細な説明
は省略する。
また、図8〜図12に示したFFSモードの液晶表示パネル70A〜70Dにおいては
、画素電極に設ける複数のスリットをいずれも走査線に対して横方向に互いに平行に設け
た例を示したが、走査線に対して縦方向に互いに平行に設けることも行われている(図示
せず)。
特開平10−319371号公報(段落[0005]、[0053]、[0065]〜[0077]、図2、図5、図6) 特開2002−131767号公報(特許請求の範囲、段落[0006]〜[0009]、[0018]〜[0077]、図1、図3) 特開2002− 14363号公報(特許請求の範囲、段落[0002]〜[0010]、[0019]〜[0026]、図1、図2) 特開2002−244158号公報(特許請求の範囲、段落[0002]〜[0013]、[0023]〜[0032]、図1〜図4) 特開2003−195352号公報(請求項1〜10、段落[0013]、[0153]〜[0164]、図1〜図3)
上述のように、FFSモードの液晶表示パネルは、IPSモードの液晶表示パネルより
も広視野角かつ高コントラストであるとともに、高透過率であるため明るい表示が可能と
なり、更に低電圧駆動ができるとともにより大きな保持容量が副次的に生じるために別途
補助容量線を設けなくても表示画質が良好となるという特徴を備えている。
しかしながら、近年の液晶表示パネルの高精細化に伴って各画素のサイズが非常に小さ
くなってきているが、FFSモードの液晶表示パネルにおいては別途補助容量線を設けて
補助容量を形成しないために画素容量を増やすことができない。そのため、FFSモード
の液晶表示パネルは高精細化が進むにつれてクロストークやフリッカなどの表示不良が目
立つようになってきた。
本発明者等は、このようなFFSモードの液晶表示パネルのクロストークやフリッカな
どの表示不良の問題点を解決すべく種々検討を重ねた結果、FFSモードの液晶表示パネ
ルは画素電極に設けられたスリットとこのスリットの両側に位置する画素電極部分とが有
効な表示領域として機能し、共通電極の周辺領域は有効な表示領域として機能しないこと
から、この共通電極の周辺領域に新たに画素容量を形成することによりクロストークやフ
リッカなどの表示不良を大きく減少させることができることを見出し、本発明を完成する
に至ったのである。
すなわち、本発明は、高精細化されておりながら画素容量が大きくてクロストークやフ
リッカが少なく、表示画質が良好なFFSモードの液晶表示パネルを提供することを目的
とする。
上記目的を達成するため、本発明のFFSモードの液晶表示パネルは、平行に設けられ
た複数の走査線及びコモン配線と、前記走査線と直交する方向に設けられた複数の信号線
と、前記走査線及び信号線の交差部近傍に設けられた薄膜トランジスタと、複数の前記走
査線及び信号線で区画された領域に形成されているとともに前記コモン配線に接続された
共通電極と、前記共通電極上に設けられた絶縁膜を介して形成された画素電極と、前記画
素電極に互いに平行に設けられた複数のスリットと、を有するフリンジ・フィールド・ス
ィッチングモードの液晶表示パネルにおいて、前記絶縁膜は複層構造を有し、前記薄膜ト
ランジスタのドレイン電極から延在された画素容量形成領域が前記複層構造の絶縁膜間を
前記共通電極の周縁に沿って形成され、前記画素電極は前記絶縁膜に形成されたコンタク
トホールを経て前記ドレイン電極と電気的に接続されていることを特徴とする。
また、本発明は、上記FFSモードの液晶表示パネルにおいて、前記スリットは両端が
閉じており、前記ドレイン電極の画素容量形成領域は環状に形成されていることを特徴と
する。
また、本発明は、上記FFSモードの液晶表示パネルにおいて、前記スリットは両端が
閉じており、前記ドレイン電極の画素容量形成領域は前記コモン配線側を除いてU字状に
形成されていることを特徴とする。
また、本発明は、上記FFSモードの液晶表示パネルにおいて、前記スリットは一方端
側が開いており、前記ドレイン電極の画素容量形成領域は前記スリットの開いた側を除い
てコ字状に形成されていることを特徴とする。
また、本発明は、上記FFSモードの液晶表示パネルにおいて、前記スリットは一方端
側が開いており、前記ドレイン電極の画素容量形成領域は前記スリットの開いた側及び前
記コモン配線側を除いてL字状に形成されていることを特徴とする。
また、本発明は、上記FFSモードの液晶表示パネルにおいて、前記ドレイン電極の画
素容量形成領域は前記画素電極のスリットと平面視において重ならないことを特徴とする
また、本発明は、上記FFSモードの液晶表示パネルにおいて、前記信号線は、前記走
査線と直交する方向にクランク状に設けられており、前記複数の共通電極及び画素電極は
デルタ配置されていることを特徴とする。
本発明は、上記のような構成を備えることにより、以下に述べるような優れた効果を奏
する。すなわち、本発明のFFSモードの液晶表示パネルによれば、薄膜トランジスタの
ドレイン電極の画素容量形成領域が複層構造の絶縁膜間を共通電極の周縁に沿って形成さ
れているため、このドレイン電極の画素容量形成領域と共通電極との間に画素容量が形成
され、しかも、ドレイン電極の画素容量形成領域と共通電極との間の距離は画素電極と共
通電極との間の距離よりも短いため、ドレイン電極の画素容量形成領域と共通電極との間
に大きな画素容量が形成される。したがって、高精細化されることによって各画素のサイ
ズが小さくなっても、効率よく画素容量を大きくでき、クロストークやフリッカが少なく
、表示画質が良好なFFSモードの液晶表示パネルが得られる。また、ドレイン電極の画
素容量形成領域を共通電極の周縁に沿って形成したため、ドレイン電極が遮光性材料から
なるものであっても実質的に透過率を落とすことなく画素容量を大きくできるようになる
また、本発明のFFSモードの液晶表示パネルによれば、スリットの両端が画素電極に
よって閉じられた形状をしていれば、共通電極の周辺領域全周を有効な画素容量形成領域
として利用できるため、最も大きな画素容量を形成でき、よりクロストークやフリッカが
少なく、表示画質が良好なFFSモードの液晶表示パネルが得られる。
また、共通電極の一部はコモン配線と接続されているため、共通電極の周辺領域の全周
に亘ってドレイン電極の画素容量形成領域を形成すると、平面視でコモン配線とドレイン
電極の画素容量形成領域とが重なるため、画素電極の表面に大きな段差が生じ、この箇所
でディスクリネーションが生じる可能性がある。しかしながら、本発明のFFSモードの
液晶表示パネルによれば、ドレイン電極の画素容量形成領域を共通電極の周辺領域のうち
コモン配線側を除いてU字状に延在するように形成したため、前述のように画素電極に大
きな段差が生じることがなくなり、ディスクリネーションが発生し難い良好な表示画質の
FFSモードの液晶表示パネルが得られる。
また、本発明のFFSモードの液晶表示パネルによれば、スリットの一方端側が開いた
形状をしていれば、このスリットが開いた側を除いたコ字状の共通電極の周辺領域を有効
な画素容量形成領域として利用して大きな画素容量を形成できるため、クロストークやフ
リッカが少なく、表示画質が良好なFFSモードの液晶表示パネルが得られる。
また、本発明のFFSモードの液晶表示パネルによれば、スリットの一方端側が開いた
形状であっても、ドレイン電極の画素容量形成領域を共通電極の周辺領域のうちコモン配
線側を除いてL字状に形成したため、ディスクリネーションが発生し難く、しかもクロス
トークやフリッカが少なく、表示画質が良好なFFSモードの液晶表示パネルが得られる
また、本発明のFFSモードの液晶表示パネルによれば、延在された画素容量形成領域
は画素電極のスリットと平面視において重ならないようになされているため、各画素の透
過率を減少させずに画素容量を増加させることができるようになる。
また、本発明のFFSモードの液晶表示パネルによれば、信号線を走査線と直交する方
向にクランク状に設けて複数の共通電極及び画素電極をデルタ配置(トライアングル配置
ということもある)としたため、信号線に対向する部分に設けられるブラックマトリクス
が直線状とならないために目立たず、前記の本発明の効果を奏しながらも画像表示に適し
たFFSモードの液晶表示パネルが得られる。
以下、図面を参照して本発明の最良の実施形態を説明する。但し、以下に示す実施形態
は、本発明の技術思想を具体化するためのFFSモードの液晶表示パネルを例示するもの
であって、本発明をこのFFSモードの液晶表示パネルに特定することを意図するもので
はなく、特許請求の範囲に含まれるその他の実施形態のものも等しく適応し得るものであ
る。
実施例1のFFSモードの液晶表示パネル10Aを製造工程順に図1〜図3を用いて説
明する。なお、図1は実施例1のFFSモードの液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を
透視して表した2画素分の概略平面図であり、図2は図1のA−A線に沿った断面図であ
り、また、図3は図1のB−B線に沿った断面図である。
この実施例1のFFSモードの液晶表示パネル10Aのアレイ基板ARは、ガラス基板
等の透明基板11の表面全体に亘って下部がAl金属からなり表面がMo金属からなる2
層膜を形成した後、フォトリソグラフィー法及びエッチング法によってMo/Alの2層
配線からなる複数の走査線12及び複数のコモン配線13を互いに平行になるように形成
されている。アルミニウムは抵抗値が小さいという長所を持っているが、その反面、腐食
しやすい、ITOとの接触抵抗が高いなどの欠点があるため、アルミニウムをモリブデン
で覆った多層構造にすることでそうした欠点を改善できる。なお、ここではコモン配線1
3を走査線に沿って設けた例を示したが、隣り合う走査線12の中間に設けてもよい。
次いで、走査線12及びコモン配線13を形成した透明基板11の表面全体に亘って例
えばITOからなる透明導電性層を被覆し、同じくフォトリソグラフィー法及びエッチン
グ法によって共通電極14を形成する。この共通電極14はコモン配線13とは電気的に
接続されているが、走査線12ないしゲート電極Gとは接続されていない。更に、この表
面全体に窒化硅素層ないしは酸化硅素層からなるゲート絶縁膜15を被覆し、次いで、C
VD法によりたとえばアモルファス・シリコン(以下「a−Si」という。)層をゲート
絶縁膜15の表面全体に亘って被覆した後に、同じくフォトリソグラフィー法及びエッチ
ング法によって、TFT形成領域にa−Si層からなる半導体層16を形成する。この半
導体層16が形成されている位置の走査線12の領域がTFTのゲート電極Gを形成する
次いで、Mo/Al/Moの3層構造の導電性層を半導体層16を形成した透明基板1
1の表面全体に亘って被覆し、同じくフォトリソグラフィー法及びエッチング法によって
、信号線17及びドレイン電極Dを形成する。この信号線17のソース電極S部分及びド
レイン電極D部分は、いずれも半導体層16の表面に部分的に重なっている。また、ドレ
イン電極Dは更に共通電極14の表面に設けられたゲート絶縁膜15上を平面視で共通電
極14の周縁に沿って環状に延在され、画素容量形成領域D1が形成されている。更に、
この基板の表面全体に窒化硅素層からなる絶縁膜18を被覆する。
次いで、ドレイン電極Dに対応する位置の絶縁膜18にコンタクトホール19を形成し
てドレイン電極Dの一部を露出させる。更に、この表面全体に亘って例えばITOからな
る透明導電性層を被覆し、同じくフォトリソグラフィー法及びエッチング法によって、図
1に示したパターンとなるように、走査線12及び信号線17で囲まれた領域の絶縁膜1
8上に両端が閉じたスリット20を有する画素電極21を形成する。そうすると、この画
素電極21はコンタクトホール19を介してドレイン電極Dと電気的に接続される。
さらに、この表面全体に亘り所定の配向膜24を形成することによりアレイ基板ARが
完成される。そして、このようにして製造されたアレイ基板ARと別途製造されたカラー
フィルタ基板とを対向させ、周囲をシール材でシールして両基板間に液晶を注入すること
により実施例に係るFFSモードの液晶表示パネル10Aが得られる。なお、カラーフィ
ルタ基板の構成は上述した従来例のものと実質的に差異はないので、その詳細な説明は省
略する。
このようにして得られた実施例1のFFSモードの液晶表示パネル10Aにおいては、
TFTのドレイン電極Dはゲート絶縁膜15の表面を共通電極14の周縁に沿って延在さ
れて画素容量形成領域D1が形成されている。そうすると、実施例1のFFSモードの液
晶表示パネル10Aにおいては、共通電極14はゲート絶縁膜15と絶縁膜18を介して
画素電極21と対向しており、また、ゲート絶縁膜15を介してドレイン電極Dの画素容
量形成領域D1と対向していることになる。したがって、実施例1のFFSモードの液晶
表示パネル10Aにおいては、共通電極14と画素電極21との間に画素容量が形成され
るとともに、新たに共通電極14とドレイン電極Dの画素容量形成領域D1との間にも画
素容量が形成されることとなる。
このドレイン電極Dの画素容量形成領域D1は平面視で画素電極21の一部を共通電極
14から遮蔽する形になるが、共通電極14とドレイン電極Dの画素容量形成領域D1と
の間に形成される容量は、共通電極14とドレイン電極Dの画素容量形成領域D1との間
の距離が画素電極21と共通電極14との間の距離よりも短いので、大きな容量が得られ
る。したがって、実施例1のFFSモードの液晶表示パネル10Aは、高精細化されるこ
とによって各画素のサイズが小さくなっても、効率よく画素容量を大きくでき、クロスト
ークやフリッカが少なく、良好な表示画質が得られるようになる。
加えて、実施例1のFFSモードの液晶表示パネル10Aにおいては、画素電極21の
周縁部ないし共通電極14の周縁部は動作原理上実質的に有効な画像表示には利用されて
いない領域であるから、ドレイン電極Dの画素容量形成領域D1を共通電極14の周縁に
沿って形成したため、ドレイン電極Dが遮光性材料で形成されても、実質的に透過率を落
とすことなく画素容量を大きくできるようになる。
実施例1のFFSモードの液晶表示パネル10Aにおいては、画素電極21に設けるス
リット20を両端が閉じたものとし、ドレイン電極Dの画素容量形成領域D1を共通電極
14の周縁に沿って形成した例を示したが、共通電極14の一部はコモン配線と接続され
ているため、共通電極14の周辺領域の全周に亘ってドレイン電極Dの画素容量形成領域
D1を形成すると、平面視でコモン配線13とドレイン電極Dの画素容量形成領域D1と
が重なるため、画素電極21の表面が大きく盛り上がる箇所が生じ、この箇所でディスク
リネーションが生じる可能性がある。
そこで、画素電極の表面が大きく盛り上がる箇所が生じないようにした実施例2のFF
Sモードの液晶表示パネル10Bを図4を用いて説明する。なお、図4は実施例2のFF
Sモードの液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して表した2画素分の概略平面図
である。また、実施例2の液晶表示パネル10Bにおいては図1〜図3に示した実施例1
のFFSモードの液晶表示パネル10Aと同一の構成部分については同一の参照符号を付
与してその詳細な説明は省略する。
この実施例2のFFSモードの液晶表示パネル10Bが実施例1の液晶表示パネル10
Aと構成が相違する点は、ドレイン電極Dの画素容量形成領域D1を共通電極14の周辺
領域のうちコモン配線13側を除いてU字状に延在するように形成した点である。
この実施例2のFFSモードの液晶表示パネル10Bによれば、平面視でコモン配線1
3とドレイン電極Dの画素容量形成領域D1とが重なっていないため、画素電極21の表
面が大きく盛り上がることがなくなり、ディスクリネーションが生じる可能性が減少する
。なお、信号線17に沿ったU字状のドレイン電極Dの画素容量形成領域D1の延在部分
の長さは、必ずしも図4に示したようにコモン配線13の近傍にまで延在させる必要はな
く、必要な画素容量を考慮の上で適宜の長さだけ延在させればよい。
実施例1及び実施例2のFFSモードの液晶表示パネル10A及び10Bにおいては、
画素電極21に設けるスリット20を両端が閉じたものの例を示したが、FFSモードの
液晶表示パネルとしては画素電極に設けるスリットの一方端側が開いた形状のものも知ら
れている。このような画素電極に設けるスリットとして一方端側が開いた形状のものを用
いた実施例3のFFSモードの液晶表示パネル10Cを図5を用いて説明する。なお、図
5は実施例3の液晶表示パネル10Cのカラーフィルタ基板を透視して表した2画素分の
概略平面図であり、また図5においては図4に示した実施例2のFFSモードの液晶表示
パネル10Bと同一の構成部分については同一の参照符号を付与してその詳細な説明は省
略する。
この実施例3のFFSモードの液晶表示パネル10Cが実施例2のFFSモードの液晶
表示パネル10Bと構成が相違する点は、FFSモードの液晶表示パネルとしては画素電
極に設けるスリットの一方端側が開いた形状のものとし、かつ、スリットの一方端側が開
いた形状をしていればこのスリットが開いた側には物理的にドレイン電極Dの画素容量形
成領域D1を延在させることができないので省略し、ドレイン電極Dの画素容量形成領域
D1を共通電極の周辺領域のうちコモン配線側を除いてL字状に形成した点である。
この実施例3のFFSモードの液晶表示パネル10Cによれば、平面視でコモン配線1
3とドレイン電極Dの画素容量形成領域D1とが重なっていないため、画素電極21の表
面が大きく盛り上がることがなくなり、実施例2のFFSモードの液晶表示パネル10B
の場合と同様に、ディスクリネーションが生じる可能性が減少する。なお、信号線17に
沿ったL字状のドレイン電極Dの画素容量形成領域D1の延在部分の長さは、必ずしも図
5に示したようにコモン配線13の近傍にまで延在させる必要はなく、必要な画素容量を
考慮の上で適宜の長さだけ延在させればよい。また、実施例3のFFSモードの液晶表示
パネル10Cにおいて、より大きな画素容量の形成が必要であれば、実施例1のFFSモ
ードの液晶表示パネル10Aの場合と同様に、ドレイン電極Dの画素容量形成領域D1を
コモン配線13側の共通電極14の周縁側にも設けて、ドレイン電極Dの画素容量形成領
域D1の延在部分の形状がコ字状となるようにしてもよい。
なお、実施例1〜3においては、画素電極21に設ける複数のスリット20をいずれも
走査線12に対して横方向に互いに平行に傾いた例を示したが、縦方向に互いに平行に傾
くようにしてもよく、更に、従来例として図11に示したFFSモードの液晶表示パネル
70Cのように、画素電極に設けるスリット20を「く」字状となるように配置してデュ
アルドメイン化するようにしてもよい。このようにスリット20を「く」字状に配置して
デュアルドメイン化する際には、異なる方向に傾斜したスリット20の本数を同一にする
と視角による色変化が生じないので好ましく、また、異なる方向に傾けたスリット20の
それぞれのうち、互いに最も近接する位置にあるスリット20の端部を結合するとともに
平面視でこの位置にコモン配線13が配置されるようにすると、この部分に生じるディス
クリネーション部分を遮光できるので好ましい。
また、実施例1〜3においては、走査線12及び信号線17として互いに直線状に直交
するように設けられた例を示したが、従来例として図12に示したFFSモードの液晶表
示パネル70Dのように、信号線17に対向する部分に設けられるカラーフィルタ基板の
ブラックマトリクスが直線状とならないようにして、ブラックマトリクスが目立たない画
像表示に適したものとするために、信号線17を走査線12と直交する方向にクランク状
に設けて複数の共通電極14及び画素電極21がデルタ配置となるようにしてもよい。
実施例1のFFSモードの液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して表した2画素分の概略平面図である。 図1のA−A線に沿った断面図である。 図1のB−B線に沿った断面図である、 実施例2のFFSモードの液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して表した2画素分の概略平面図である。 実施例3のFFSモードの液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して表した2画素分の概略平面図である。 IPSモードの液晶表示パネルの1画素分の模式平面図である。 図6のC−C線に沿った断面図である。 FFSモードの液晶表示パネルの1画素分の模式平面図である。 図8のD−D線に沿った断面図である。 別の従来例のFFSモードの液晶表示パネルの模式平面図である。 更に別の従来例のFFSモードの液晶表示パネルの模式平面図である。 デルタ配置のFFSモードの液晶表示パネルの模式平面図である。
符号の説明
10A〜10C FFSモードの液晶表示パネル
11 透明基板
12 走査線
13 コモン配線
14 共通電極
15 ゲート絶縁膜
16 半導体層
17 信号線
18 絶縁膜
19 コンタクトホール
20 スリット
21 画素電極
24 配向膜
D1 画素容量形成領域

Claims (7)

  1. 平行に設けられた複数の走査線及びコモン配線と、前記走査線と直交する方向に設けら
    れた複数の信号線と、前記走査線及び信号線の交差部近傍に設けられた薄膜トランジスタ
    と、複数の前記走査線及び信号線で区画された領域に形成されていると共に前記コモン配
    線に接続された共通電極と、前記共通電極上に設けられた絶縁膜を介して形成された画素
    電極と、前記画素電極に互いに平行に設けられた複数のスリットと、を有するフリンジ・
    フィールド・スィッチングモードの液晶表示パネルにおいて、
    前記絶縁膜は複層構造を有し、
    前記薄膜トランジスタのドレイン電極から延在された画素容量形成領域が前記複層構造
    の絶縁膜間を前記共通電極の周縁に沿って形成され、
    前記画素電極は前記絶縁膜に形成されたコンタクトホールを経て前記ドレイン電極と電
    気的に接続されていることを特徴とするフリンジ・フィールド・スィッチングモードの液
    晶表示パネル。
  2. 前記スリットは両端が閉じており、前記ドレイン電極の画素容量形成領域は環状に形成
    されていることを特徴とする請求項1に記載のフリンジ・フィールド・スィッチングモー
    ドの液晶表示パネル。
  3. 前記スリットは両端が閉じており、前記ドレイン電極の画素容量形成領域は前記走査線
    と反対側を除いてU字状に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のフリンジ・
    フィールド・スィッチングモードの液晶表示パネル。
  4. 前記スリットは一方端側が開いており、前記ドレイン電極の画素容量形成領域は前記ス
    リットの開いた側を除いてコ字状に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のフ
    リンジ・フィールド・スィッチングモードの液晶表示パネル。
  5. 前記スリットは一方端側が開いており、前記ドレイン電極の画素容量形成領域は前記ス
    リットの開いた側及び前記走査線と反対側を除いてL字状に形成されていることを特徴と
    する請求項1に記載のフリンジ・フィールド・スィッチングモードの液晶表示パネル。
  6. 前記ドレイン電極の画素容量形成領域は前記画素電極のスリットと平面視において重な
    らないことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のフリンジ・フィールド・スィッ
    チングモードの液晶表示パネル。
  7. 前記信号線は、前記走査線と直交する方向にクランク状に設けられており、前記複数の
    共通電極及び画素電極はデルタ配置されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか
    に記載のフリンジ・フィールド・スィッチングモードの液晶表示パネル。
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