JP2007246937A - 成膜装置及び電子部品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】エアロゾル発生部31において、原料粉末とキャリアガスとを混合してエアロゾルを生成する。そして、このエアロゾルを噴射ノズル22のエアロゾル噴射口から基板24に向けて噴射するとともに、噴射ノズル22の整流ガス噴射口からエアロゾルの周囲に整流ガスを噴射する。これにより、エアロゾルの広がりが抑制され、基板24に原料粉末(微粒子)が垂直に衝突して、密着強度が高く、組織が緻密で均一な厚膜の形成が可能となる。
【選択図】図3
Description
図3は、本発明の第1の実施形態に係るエアロゾルデポジッション成膜装置の構成を示す模式図である。この図3に示すように、本実施形態のエアロゾルデポジッション成膜装置は、メカニカルブースター27を介して真空ポンプ26に接続される成膜室21と、エアロゾルを発生するエアロゾル発生部31とにより構成されている。
図8は本発明の第2の実施形態のエアロゾルデポジッション成膜装置の構成を示す模式図である。この第2の実施形態の成膜装置が第1の実施形態の成膜装置と異なる点は、配管44内にアシストガスを注入するための配管45が設けられていることにあり、その他の構成は基本的に第1の実施形態の成膜装置と同様であるので、図8において図3と同一物には同一符号を付して重複する部分の説明を省略する。
図9(a)は本発明の第3の実施形態のエアロゾルデポジッション成膜装置の噴射ノズルを示す断面図、図9(b)は同じくその噴射ノズルを噴射口側から見たときの平面図である。この第3の実施形態の成膜装置が第1の実施形態の成膜装置と異なる点は、噴射ノズルに設けられたエアロゾル噴射口及び整流ガス噴射口の形状が異なることにあり、その他の構成は基本的に第1の実施形態の成膜装置と同様であるので、図9(a),(b)において図4(a),(b)と同一物には同一符号を付して重複する部分の説明は省略する。
成膜室と、
前記成膜室内に配置された基板搭載部と、
整流ガスを供給する整流ガス供給部と、
前記エアロゾル生成部で生成されたエアロゾルを前記基板搭載部に搭載された基板に向けて噴射して膜を形成するエアロゾル噴射部と、
前記エアロゾル噴射部の周囲に配置され、前記整流ガス供給部から供給される整流ガスを前記エアロゾル噴射部から噴射されたエアロゾルの周囲に噴射する整流ガス噴射部と
を有することを特徴とする成膜装置。
前記基板に向けて原料粉末とキャリアガスとを混合してなるエアロゾルを噴射するとともに、前記エアロゾルの周囲に整流ガスを噴射して、前記基板上に膜を形成する工程と
を有することを特徴とする電子部品の製造方法。
12,24,61…基板、
13…微粒子、
14,29…膜、
21…成膜室、
23…ステージ、
25…ステージ駆動部、
26…真空ポンプ、
27…メカニカルブースター、
31…エアロゾル発生部、
32,53…原料粉末、
33…加振器、
34…ガスボンベ、
41,42,43,44,45…配管、
51,72a,72b,72c…エアロゾル噴射口、
52,73a,73b,73c,73d…整流ガス噴射口、
62…導電体膜、
63…下部電極、
64…セラミック膜、
65…上部電極。
Claims (5)
- 原料粉末とキャリアガスとを混合してエアロゾルを発生するエアロゾル発生部と、
成膜室と、
前記成膜室内に配置された基板搭載部と、
整流ガスを供給する整流ガス供給部と、
前記エアロゾル生成部で生成されたエアロゾルを前記基板搭載部に搭載された基板に向けて噴射して膜を形成するエアロゾル噴射部と、
前記エアロゾル噴射部の周囲に配置され、前記整流ガス供給部から供給される整流ガスを前記エアロゾル噴射部から噴射されたエアロゾルの周囲に噴射する整流ガス噴射部と
を有することを特徴とする成膜装置。 - 前記整流ガス噴射部が、前記エアロゾル噴射部の周囲に環状に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
- 前記エアロゾル噴射部を複数有し、各エアロゾル噴射部にはそれぞれ異なる原料粉末を含むエアロゾルが供給されることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
- 減圧雰囲気内に基板を配置する工程と、
前記基板に向けて原料粉末とキャリアガスとを混合してなるエアロゾルを噴射するとともに、前記エアロゾルの周囲に整流ガスを噴射して、前記基板上に膜を形成する工程と
を有することを特徴とする電子部品の製造方法。 - 前記原料粉末として、セラミックの微粒子を使用することを特徴とする請求項4に記載の電子部品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
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JP2007246937A true JP2007246937A (ja) | 2007-09-27 |
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