JP5401960B2 - 成膜方法及びその成膜装置 - Google Patents
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図2は、本実施の形態で使用するエアロゾル発生装置24の構成を説明する断面図である。
図5は、本実施の形態で使用するエアロゾル発生装置24の動作を説明する図である。
次に、上記エアロゾル発生装置24を使用した成膜方法の要部を説明する。尚、本成膜方法の詳細は、下記実施例1で説明する。
図7は、本実施例で使用する成膜装置74の構成を説明する図である。
まず、樹脂製の基板14を基板ホルダ(ステージ12)に固定する。
本成膜方法は、バラツキが大きい原料粉末から粒径の小さな微粒子を優先的に取り出す、エアロゾル発生装置24の粒径選別機能を利用する。この粒径選別機能を実証するため、ノズル22が噴射するエアロゾル68に含まれる銅粒子の粒径分布を測定した。
図1を参照して説明した振動タイプのエアロゾルデポジッション法では、振動を印加して攪拌した原料粉末18と、圧縮ガスを混合してエアロゾルを生成する。
網の目状に貫通孔が形成された平板に原料粉末を付着させる第1の工程と、
前記平板に付着した前記原料粉末にガスを吹き付けて、前記原料粉末を形成する粒子と前記ガスを混合する第2の工程と、
前記粒子を、真空中で前記ガスと共に基板に向かって噴射する第3の工程を、
具備する成膜方法。
付記1に記載の成膜方法において、
前記第1の工程が、回転する前記平板に前記原料粉末を接触させて、前記平板に前記原料粉末を付着させる工程であることを、
特徴とする成膜方法。
付記2に記載の成膜方法において、
前記平板が回転している間、前記原料粉末が装填された容器を、前記平板の回転面の法線方向に移動させることを、
特徴とする成膜方法。
付記2に記載の成膜方法において、
前記平板が回転している間、前記平板を、前記平板の回転面の法線方向に移動させることを、
特徴とする成膜方法。
付記1乃至4の何れか1項に記載の成膜方法において、
前記第1の工程を、前記原料粉末を無振動状態に保ったまま実施することを、
特徴とする成膜方法。
原料粉末を装填する容器と、
網の目状に貫通孔が形成された平板状の回転体と、
前記貫通孔が形成された領域に向かって、ガスを噴射するガス噴射ユニットと、
前記回転体を挟んで前記ガス噴射ユニットに対向し、噴射された前記ガスが流入するガス受入ユニットを有し、
前記回転体は、前記容器に原料粉末を装填した際に、前記領域の下側が前記原料粉末に埋もれるように配置され、
前記ガス噴射ユニットは、前記容器に原料粉末を装填した際に、ガス噴射口が前記原料粉末に埋もれないように配置され、
前記ガス受入ユニットは、前記容器に原料粉末を装填した際に、ガス受入口が前記原料粉末に埋もれないように配置されているエアロゾル発生装置を具備し、
更に、前記エアロゾル発生装置で生成されたエアロゾルが吹き付けられる基板を保持する基板ホルダーを有する成膜室と、
前記成膜室を排気する排気装置を具備する成膜装置。
付記6に記載の成膜装置において、
前記回転体が回転している間、前記容器が、前記回転体の回転面の法線方向に移動することを、
特徴とするエアロゾル発生装置。
付記6に記載のエアロゾル発生装置において、
前記回転体が回転している間、前記回転体が、前記回転体の回転面の法線方向に移動することを、
特徴とするエアロゾル発生装置。
原料粉末を装填する容器と、
網の目状に貫通孔が形成された平板状の回転体と、
前記貫通孔が形成された領域に向かって、ガスを噴射するガス噴射ユニットと、
前記回転体を挟んで前記ガス噴射ユニットに対向し、噴射された前記ガスが流入するガス受入ユニットを具備し、
前記回転体は、前記容器に原料粉末を装填した際に、前記領域の下側が前記原料粉末に埋もれるように配置され、
前記ガス噴射ユニットは、前記容器に原料粉末を装填した際に、ガス噴射口が前記原料粉末に埋もれないように配置され、
前記ガス受入ユニットは、前記容器に原料粉末を装填した際に、ガス受入口が前記原料粉末に埋もれないように配置されている
エアロゾル発生装置。
6・・・排気装置 8・・・エアロゾル発生装置
10・・・ガス供給装置 12・・・ステージ
14・・・基板 16・・・エアロゾル発生容器
18・・・原料粉末 20・・・振動器
22・・・ノズル 24・・・エアロゾル発生装置(実施の形態)
26・・・容器 28・・・回転体
30・・・円板 32・・・貫通孔
33・・・(原料粉末に埋もれた)貫通孔
34・・・第1の領域 36・・・第2の領域
38・・・第3の領域 40・・・第4の領域
42・・・回転軸 44・・・ガス噴射ユニット
46・・・(ガス噴射ユニットの)先端
48・・・(ガス噴射ユニットの反対側の)端
50・・・ガス受入ユニット
52・・・(ガス受入ユニットの)先端
54・・・(ガス受入ユニットの反対側の)端
56,58,60・・・配管
62・・・ガス噴射口 64・・・ガス受入口
66・・・圧縮ガス 68・・・エアロゾル
70・・・(回転体に付着した)原料粉末
73・・・空になった貫通孔
74・・・成膜装置(実施例1) 76・・・ブースターポンプ
78・・・真空ポンプ
82・・・第1のバルブ 84・・・第2のバルブ
86・・・第3のバルブ 88・・・容器(実施例3)
90・・・法線方向 92・・・容器(実施例4)
Claims (5)
- 貫通孔が網の目状に形成された平板をその中央部に固定した回転軸により回転して、当該回転により原料粉末に埋もれた前記貫通孔に前記原料粉末を侵入させる第1の工程と、
前記貫通孔に侵入した前記原料粉末にガスを吹き付けて、前記原料粉末を形成する粒子と前記ガスを混合し、エアロゾルを生成する第2の工程と、
前記エアロゾルを、真空中で前記ガスと共に基板に向かって噴射する第3の工程を、
具備する成膜方法。 - 請求項1に記載の成膜方法において、
前記平板が回転している間、前記原料粉末が装填された容器を、前記平板の回転面の法線方向に移動させることを、
特徴とする成膜方法。 - 請求項1に記載の成膜方法において、
前記平板が回転している間、前記平板を、前記平板の回転面の法線方向に移動させることを、
特徴とする成膜方法。 - 請求項1に記載の成膜方法において、
前記第1の工程を、前記原料粉末を無振動状態に保ったまま実施することを、
特徴とする成膜方法。 - 原料粉末を装填する容器と、
網の目状に貫通孔が形成され中央部に回転軸が固定された平板状の回転体と、
前記貫通孔が形成された領域に向かって、ガスを噴射するガス噴射ユニットと、
前記回転体を挟んで前記ガス噴射ユニットに対向し、噴射された前記ガスが流入するガス受入ユニットを有し、
前記回転体は、前記容器に原料粉末を装填した際に、前記領域の下側が前記原料粉末に埋もれるように配置され、
前記ガス噴射ユニットは、前記容器に原料粉末を装填した際に、ガス噴射口が前記原料粉末に埋もれないように配置され、
前記ガス受入ユニットは、前記容器に原料粉末を装填した際に、ガス受入口が前記原料粉末に埋もれないように配置されているエアロゾル発生装置を具備し、
更に、前記エアロゾル発生装置で生成されたエアロゾルが吹き付けられる基板を保持する基板ホルダーを有する成膜室と、
前記成膜室を排気する排気装置を具備する成膜装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008315569A JP5401960B2 (ja) | 2008-12-11 | 2008-12-11 | 成膜方法及びその成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008315569A JP5401960B2 (ja) | 2008-12-11 | 2008-12-11 | 成膜方法及びその成膜装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010138447A JP2010138447A (ja) | 2010-06-24 |
JP5401960B2 true JP5401960B2 (ja) | 2014-01-29 |
Family
ID=42348820
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008315569A Active JP5401960B2 (ja) | 2008-12-11 | 2008-12-11 | 成膜方法及びその成膜装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5401960B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011083861A1 (ja) | 2010-01-08 | 2011-07-14 | 三菱化学株式会社 | リチウム二次電池正極材料用粉体及びその製造方法、並びにそれを用いたリチウム二次電池用正極及びリチウム二次電池 |
TWI554334B (zh) * | 2015-06-12 | 2016-10-21 | Hugee Precise Technology Co Ltd | Nano - coating system and nano - coating method |
JP6868858B2 (ja) * | 2017-01-13 | 2021-05-12 | 島根県 | 皮膜形成方法及び装置、並びに堆積物形成方法及び装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6283062A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-16 | Tokyo Copal Kagaku Kk | 噴霧方法及びその装置 |
JP3809860B2 (ja) * | 2001-11-29 | 2006-08-16 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 複合構造物作製方法及び複合構造物作製装置 |
JP5136845B2 (ja) * | 2007-03-30 | 2013-02-06 | Toto株式会社 | 複合構造物形成方法、および形成システム |
JP2008308716A (ja) * | 2007-06-13 | 2008-12-25 | Funai Electric Co Ltd | エアロゾル発生装置、成膜装置 |
-
2008
- 2008-12-11 JP JP2008315569A patent/JP5401960B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010138447A (ja) | 2010-06-24 |
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