JP2010138447A - 成膜方法及びその成膜装置 - Google Patents
成膜方法及びその成膜装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010138447A JP2010138447A JP2008315569A JP2008315569A JP2010138447A JP 2010138447 A JP2010138447 A JP 2010138447A JP 2008315569 A JP2008315569 A JP 2008315569A JP 2008315569 A JP2008315569 A JP 2008315569A JP 2010138447 A JP2010138447 A JP 2010138447A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- raw material
- material powder
- gas
- film forming
- aerosol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 68
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 133
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 102
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 claims description 124
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 116
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 39
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 39
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 4
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 18
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 12
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 abstract description 2
- 239000011800 void material Substances 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 111
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 34
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 19
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 4
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 4
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Nozzles (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
【課題】粒径のバラツキが大きい原料粉末を用いても、空隙の少ない緻密な堆積膜を成膜可能にすること。
【解決手段】網の目状に貫通孔が形成された平板に原料粉末を付着させ、前記平板に付着した前記原料粉末にガスを吹き付けて、前記原料粉末を形成する粒子と前記ガスを混合し、前記粒子を、真空中で前記ガスと共に基板に向かって噴射する。
【選択図】 図5
Description
図2は、本実施の形態で使用するエアロゾル発生装置24の構成を説明する断面図である。
図5は、本実施の形態で使用するエアロゾル発生装置24の動作を説明する図である。
次に、上記エアロゾル発生装置24を使用した成膜方法の要部を説明する。尚、本成膜方法の詳細は、下記実施例1で説明する。
図7は、本実施例で使用する成膜装置74の構成を説明する図である。
まず、樹脂製の基板14を基板ホルダ(ステージ12)に固定する。
本成膜方法は、バラツキが大きい原料粉末から粒径の小さな微粒子を優先的に取り出す、エアロゾル発生装置24の粒径選別機能を利用する。この粒径選別機能を実証するため、ノズル22が噴射するエアロゾル68に含まれる銅粒子の粒径分布を測定した。
図1を参照して説明した振動タイプのエアロゾルデポジッション法では、振動を印加して攪拌した原料粉末18と、圧縮ガスを混合してエアロゾルを生成する。
網の目状に貫通孔が形成された平板に原料粉末を付着させる第1の工程と、
前記平板に付着した前記原料粉末にガスを吹き付けて、前記原料粉末を形成する粒子と前記ガスを混合する第2の工程と、
前記粒子を、真空中で前記ガスと共に基板に向かって噴射する第3の工程を、
具備する成膜方法。
付記1に記載の成膜方法において、
前記第1の工程が、回転する前記平板に前記原料粉末を接触させて、前記平板に前記原料粉末を付着させる工程であることを、
特徴とする成膜方法。
付記2に記載の成膜方法において、
前記平板が回転している間、前記原料粉末が装填された容器を、前記平板の回転面の法線方向に移動させることを、
特徴とする成膜方法。
付記2に記載の成膜方法において、
前記平板が回転している間、前記平板を、前記平板の回転面の法線方向に移動させることを、
特徴とする成膜方法。
付記1乃至4の何れか1項に記載の成膜方法において、
前記第1の工程を、前記原料粉末を無振動状態に保ったまま実施することを、
特徴とする成膜方法。
原料粉末を装填する容器と、
網の目状に貫通孔が形成された平板状の回転体と、
前記貫通孔が形成された領域に向かって、ガスを噴射するガス噴射ユニットと、
前記回転体を挟んで前記ガス噴射ユニットに対向し、噴射された前記ガスが流入するガス受入ユニットを有し、
前記回転体は、前記容器に原料粉末を装填した際に、前記領域の下側が前記原料粉末に埋もれるように配置され、
前記ガス噴射ユニットは、前記容器に原料粉末を装填した際に、ガス噴射口が前記原料粉末に埋もれないように配置され、
前記ガス受入ユニットは、前記容器に原料粉末を装填した際に、ガス受入口が前記原料粉末に埋もれないように配置されているエアロゾル発生装置を具備し、
更に、前記エアロゾル発生装置で生成されたエアロゾルが吹き付けられる基板を保持する基板ホルダーを有する成膜室と、
前記成膜室を排気する排気装置を具備する成膜装置。
付記6に記載の成膜装置において、
前記回転体が回転している間、前記容器が、前記回転体の回転面の法線方向に移動することを、
特徴とするエアロゾル発生装置。
付記6に記載のエアロゾル発生装置において、
前記回転体が回転している間、前記回転体が、前記回転体の回転面の法線方向に移動することを、
特徴とするエアロゾル発生装置。
原料粉末を装填する容器と、
網の目状に貫通孔が形成された平板状の回転体と、
前記貫通孔が形成された領域に向かって、ガスを噴射するガス噴射ユニットと、
前記回転体を挟んで前記ガス噴射ユニットに対向し、噴射された前記ガスが流入するガス受入ユニットを具備し、
前記回転体は、前記容器に原料粉末を装填した際に、前記領域の下側が前記原料粉末に埋もれるように配置され、
前記ガス噴射ユニットは、前記容器に原料粉末を装填した際に、ガス噴射口が前記原料粉末に埋もれないように配置され、
前記ガス受入ユニットは、前記容器に原料粉末を装填した際に、ガス受入口が前記原料粉末に埋もれないように配置されている
エアロゾル発生装置。
6・・・排気装置 8・・・エアロゾル発生装置
10・・・ガス供給装置 12・・・ステージ
14・・・基板 16・・・エアロゾル発生容器
18・・・原料粉末 20・・・振動器
22・・・ノズル 24・・・エアロゾル発生装置(実施の形態)
26・・・容器 28・・・回転体
30・・・円板 32・・・貫通孔
33・・・(原料粉末に埋もれた)貫通孔
34・・・第1の領域 36・・・第2の領域
38・・・第3の領域 40・・・第4の領域
42・・・回転軸 44・・・ガス噴射ユニット
46・・・(ガス噴射ユニットの)先端
48・・・(ガス噴射ユニットの反対側の)端
50・・・ガス受入ユニット
52・・・(ガス受入ユニットの)先端
54・・・(ガス受入ユニットの反対側の)端
56,58,60・・・配管
62・・・ガス噴射口 64・・・ガス受入口
66・・・圧縮ガス 68・・・エアロゾル
70・・・(回転体に付着した)原料粉末
73・・・空になった貫通孔
74・・・成膜装置(実施例1) 76・・・ブースターポンプ
78・・・真空ポンプ
82・・・第1のバルブ 84・・・第2のバルブ
86・・・第3のバルブ 88・・・容器(実施例3)
90・・・法線方向 92・・・容器(実施例4)
Claims (6)
- 網の目状に貫通孔が形成された平板に原料粉末を付着させる第1の工程と、
前記平板に付着した前記原料粉末にガスを吹き付けて、前記原料粉末を形成する粒子と前記ガスを混合する第2の工程と、
前記粒子を、真空中で前記ガスと共に基板に向かって噴射する第3の工程を、
具備する成膜方法。 - 請求項1に記載の成膜方法において、
前記第1の工程が、回転する前記平板に前記原料粉末を接触させて、前記平板に前記原料粉末を付着させる工程であることを、
特徴とする成膜方法。 - 請求項2に記載の成膜方法において、
前記平板が回転している間、前記原料粉末が装填された容器を、前記平板の回転面の法線方向に移動させることを、
特徴とする成膜方法。 - 請求項2に記載の成膜方法において、
前記平板が回転している間、前記平板を、前記平板の回転面の法線方向に移動させることを、
特徴とする成膜方法。 - 請求項1乃至4の何れか1項に記載の成膜方法において、
前記第1の工程を、前記原料粉末を無振動状態に保ったまま実施することを、
特徴とする成膜方法。 - 原料粉末を装填する容器と、
網の目状に貫通孔が形成された平板状の回転体と、
前記貫通孔が形成された領域に向かって、ガスを噴射するガス噴射ユニットと、
前記回転体を挟んで前記ガス噴射ユニットに対向し、噴射された前記ガスが流入するガス受入ユニットを有し、
前記回転体は、前記容器に原料粉末を装填した際に、前記領域の下側が前記原料粉末に埋もれるように配置され、
前記ガス噴射ユニットは、前記容器に原料粉末を装填した際に、ガス噴射口が前記原料粉末に埋もれないように配置され、
前記ガス受入ユニットは、前記容器に原料粉末を装填した際に、ガス受入口が前記原料粉末に埋もれないように配置されているエアロゾル発生装置を具備し、
更に、前記エアロゾル発生装置で生成されたエアロゾルが吹き付けられる基板を保持する基板ホルダーを有する成膜室と、
前記成膜室を排気する排気装置を具備する成膜装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008315569A JP5401960B2 (ja) | 2008-12-11 | 2008-12-11 | 成膜方法及びその成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008315569A JP5401960B2 (ja) | 2008-12-11 | 2008-12-11 | 成膜方法及びその成膜装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010138447A true JP2010138447A (ja) | 2010-06-24 |
JP5401960B2 JP5401960B2 (ja) | 2014-01-29 |
Family
ID=42348820
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008315569A Expired - Fee Related JP5401960B2 (ja) | 2008-12-11 | 2008-12-11 | 成膜方法及びその成膜装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5401960B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011083861A1 (ja) | 2010-01-08 | 2011-07-14 | 三菱化学株式会社 | リチウム二次電池正極材料用粉体及びその製造方法、並びにそれを用いたリチウム二次電池用正極及びリチウム二次電池 |
TWI554334B (zh) * | 2015-06-12 | 2016-10-21 | Hugee Precise Technology Co Ltd | Nano - coating system and nano - coating method |
JP2018111871A (ja) * | 2017-01-13 | 2018-07-19 | 島根県 | 皮膜形成方法及び装置、並びに堆積物形成方法及び装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6283062A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-16 | Tokyo Copal Kagaku Kk | 噴霧方法及びその装置 |
JP2003166076A (ja) * | 2001-11-29 | 2003-06-13 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 複合構造物作製方法及び複合構造物作製装置 |
JP2008274422A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-11-13 | Toto Ltd | 粒子群、複合構造物形成方法、および形成システム |
JP2008308716A (ja) * | 2007-06-13 | 2008-12-25 | Funai Electric Co Ltd | エアロゾル発生装置、成膜装置 |
-
2008
- 2008-12-11 JP JP2008315569A patent/JP5401960B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6283062A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-16 | Tokyo Copal Kagaku Kk | 噴霧方法及びその装置 |
JP2003166076A (ja) * | 2001-11-29 | 2003-06-13 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 複合構造物作製方法及び複合構造物作製装置 |
JP2008274422A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-11-13 | Toto Ltd | 粒子群、複合構造物形成方法、および形成システム |
JP2008308716A (ja) * | 2007-06-13 | 2008-12-25 | Funai Electric Co Ltd | エアロゾル発生装置、成膜装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011083861A1 (ja) | 2010-01-08 | 2011-07-14 | 三菱化学株式会社 | リチウム二次電池正極材料用粉体及びその製造方法、並びにそれを用いたリチウム二次電池用正極及びリチウム二次電池 |
TWI554334B (zh) * | 2015-06-12 | 2016-10-21 | Hugee Precise Technology Co Ltd | Nano - coating system and nano - coating method |
JP2018111871A (ja) * | 2017-01-13 | 2018-07-19 | 島根県 | 皮膜形成方法及び装置、並びに堆積物形成方法及び装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5401960B2 (ja) | 2014-01-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4130649B2 (ja) | ビアを充填する方法および装置 | |
JP5099468B2 (ja) | 成膜装置及び電子部品の製造方法 | |
JP2005133160A (ja) | 基板処理装置及び方法 | |
JP5401960B2 (ja) | 成膜方法及びその成膜装置 | |
CN111804498B (zh) | 用于高深宽比深孔结构晶圆或薄胶喷涂晶圆的喷嘴装置和喷涂方法 | |
JP2007231390A (ja) | エアロゾル生成装置及び方法、並びに、それを用いた成膜装置及び方法 | |
JP6485628B2 (ja) | 成膜方法及び成膜装置 | |
JP5401805B2 (ja) | 成膜方法 | |
JP2011071153A (ja) | 回路基板の貫通電極の形成方法 | |
JP5617291B2 (ja) | エアロゾルデポジション装置及びエアロゾルデポジション方法 | |
JP2008088451A (ja) | 成膜方法及び成膜装置 | |
JP4882553B2 (ja) | セラミックキャパシタの形成方法 | |
JP4044515B2 (ja) | エアロゾルデポジッション成膜装置 | |
JP4590594B2 (ja) | エアロゾルデポジッション成膜装置 | |
JP2011084787A (ja) | ジルコニア膜の成膜方法 | |
JP2011122182A (ja) | ジルコニア膜の成膜方法 | |
JP2005163058A6 (ja) | エアロゾルデポジッション成膜装置 | |
JP2003332375A (ja) | 導電性粉末付着装置及び導電性粉末付着方法 | |
JP4496380B2 (ja) | エアロゾルデポジッション成膜装置 | |
JP5928132B2 (ja) | 成膜装置及び成膜方法 | |
KR101323106B1 (ko) | 관형의 수소분리막모듈 제조방법 | |
JP2008285743A (ja) | 被膜形成装置 | |
US20120085573A1 (en) | Stacked structure and method of manufacturing the same | |
JP2009079254A (ja) | 成膜装置、成膜方法、及び回路基板の製造方法 | |
JP3883474B2 (ja) | 金属膜形成方法及びその装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110907 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130620 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130702 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130902 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131001 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131014 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5401960 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |