JP5617291B2 - エアロゾルデポジション装置及びエアロゾルデポジション方法 - Google Patents
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Description
A.チタン酸バリウム微粒子等原料粉末の前処理を行って粒子表面に吸着した水分を除去する。
B.次いで、エアロゾル発生器において、原料粉末をキャリアガスによりエアロゾル化する。
C.次いで、エアロゾル24をエアロゾル用配管14を介して成膜ノズル1に送り込む。
D.次いで、エアロゾル24は、成膜ノズル1の中において内壁に衝突して破砕されてより粒径の小さな粒子、即ち、50nm程度の小粒径粒子5や5nm程度の微小粒子6となる。
E.次いで、成膜ノズル1から破砕された小粒径粒子5や微小粒子6を銅箔やアルミニウム箔等の成膜基板13に噴射してエアロゾル膜7として堆積させる。
(従来例1)
チタン酸バリウム組成に調整したアルコキシド液を準備し、厚さが35μmの銅箔上にディップコーティングもしくはスピンコーティングを行い、ゾルゲル法による膜を形成した。次に、この膜の液体成分の乾燥およびアニールを600℃において30分間行い、 膜の外観を観察するとともに、誘電特性、リーク特性等を評価した。
チタン酸バリウム組成に調整したターゲットを準備し、厚さが35μmの銅箔上にスパッタを行い、スパッタ法のよる膜を形成した。次に、この膜の結晶化・アニールを600℃において30分間行い、膜の外観を観察するとともに、誘電特性、リーク特性等を評価した。
チタン酸バリウムにLiFを5wt%添加した組成に調整した成膜ペーストを準備し、厚さが35μmの銅箔上にスクリーン印刷し、印刷法のよる膜を形成した。次に、この膜のアニールを950℃において30分間行い、膜の外観を観察するとともに、誘電特性、 リーク特性等を評価した。
チタン酸バリウムにエポキシ樹脂40vol%添加した組成に調整した成膜ペーストを準備し、35μmの銅箔上にスクリーン印刷し、印刷法のよる膜を形成した。次に、この膜のキュアを200℃において30分間行い、膜の外観を観察するとともに、誘電特性、 リーク特性等を評価した。
成膜ノズルとして、内側形状がエアロゾル用配管の断面積である10mmφから10mm×0.5mmのスリット状開口までに連続して変形したテーパ状で直方体部を設けないものを使用した以外は、上記の実施例1と全く同様の条件で作製した。その後の膜の外観、結晶粒径、応力、誘電特性、リーク特性等を評価した。
(付記1) 成膜基板を保持する基板保持部材と、成膜ノズルとを備えた成膜室と、前記成膜室にエアロゾル用配管を介してエアロゾル状態の材料粒子を供給するエアロゾル発生器と、前記エアロゾル発生器にキャリアガスを供給するキャリアガス供給手段とを設けたエアロゾルデポジション装置であって、前記成膜ノズルが、内部断面形状が前記エアロゾル用配管の流入側の断面円形状から楕円形状を介して長方形状へと変化する移行部と、前記移行部に接してエアロゾルの流出側に配置された内部断面形状が一定の長方形状の直方体部を有し、前記成膜ノズル内で、エアロゾルに含まれる材料粒子もしくは材料凝集粒子のいずれかもしくは両方を破砕して、前記破砕して微粒子化した材料粒子の表面を非晶質層とする成膜ノズルであるエアロゾルデポジション装置。
(付記2) 前記移行部が、内部断面形状が前記エアロゾル用配管の流入側の断面円形状から楕円形状を介して長方形状へと連続的に断面積が小さく変化するテーパ状である付記1に記載のエアロゾルデポジション装置。
(付記3) 前記移行部の内部断面形状が、前記移行部の途中において、前記エアロゾル用配管の流入側の断面円形状の断面積より大きくなっている付記1に記載のエアロゾルデポジション装置。
(付記4) 前記直方体部のエアロゾルの流れ方向の長さが、40mm乃至100mmである付記1乃至付記3のいずれか1に記載のエアロゾルデポジション装置。
(付記5) エアロゾル発生器で発生させた材料粒子とキャリアガスとを含むエアロゾルを、エアロゾル用配管を介して内部断面形状が前記エアロゾル用配管の流入側の断面円形状から楕円形状を介して長方形状へと変化する移行部と、前記移行部に接してエアロゾルの流出側に配置された内部断面形状が一定の長方形状の直方体部を有している成膜ノズルに搬送する工程と、前記成膜ノズル内において、前記エアロゾルに含まれる材料粒子もしくは材料凝集粒子のいずれかもしくは両方を破砕して、前記破砕して微粒子化した材料粒子の表面を非晶質層とする工程と、前記表面を非晶質層に改変した材料粒子を前記成膜ノズルから成膜基板に噴射してエアロゾル膜を成膜する工程と、を有するエアロゾルデポジション方法。
(付記6) 前記エアロゾル膜がセラミック膜であり、前記セラミック膜を熱処理することにより緻密化する工程を有する付記5に記載のエアロゾルデポジション方法。
(付記7) 前記成膜基板は表面にキャパシタの下部電極となる銅箔を有し、前記セラミック膜が前記キャパシタの誘電体膜となる付記6に記載のエアロゾルデポジション方法。
(付記8) 前記成膜基板がビルドアップ基板或いはプリント基板のいずれかであり、前記キャパシタが前記ビルドアップ基板或いはプリント基板に内蔵される内蔵キャパシタである付記7に記載のエアロゾルデポジション方法。
2 移行部
3 直方体部
4 先端テーパ部
5 小粒径粒子
6 微小粒子
7 エアロゾル膜
10 成膜ノズル
11 成膜室
12 基板保持部材
13 成膜基板
14 エアロゾル用配管
15 真空ポンプ
16 メカニカルブースタポンプ
17,21 配管
18 エアロゾル発生器
19 超音波振動器
20 キャリアガスタンク
22 流量計
23 原料粉末
24 エアロゾル
25 支柱
26 XYZθステージ
30,40 成膜ノズル
31 テーパ状移行部
32,42 直方体部
33,43 先端テーパ部
41 バレル状移行部
61 銅箔
62 エアロゾルデポジション膜
63 BaTiO3膜
64 上部電極
70,80 FR−4基板
71,81 ラミネート層
72,86 レジストパターン
73 表面電極
74,83 ビアホール
75,84 銅層
76,89 配線
82 銅箔
85 エアロゾルデポジション膜
87 BaTiO3膜
88 表面電極
Claims (5)
- 成膜基板を保持する基板保持部材と、成膜ノズルとを備えた成膜室と、
前記成膜室にエアロゾル用配管を介してエアロゾル状態の材料粒子を供給するエアロゾル発生器と、
前記エアロゾル発生器にキャリアガスを供給するキャリアガス供給手段と、
を設けたエアロゾルデポジション装置であって、
前記成膜ノズルが、内部断面形状が前記エアロゾル用配管の流入側の断面円形状から楕円形状を介して長方形状へと変化する移行部と、前記移行部に接してエアロゾルの流出側に配置された内部断面形状が一定の長方形状の直方体部を有し、前記成膜ノズル内で、エアロゾルに含まれる材料粒子もしくは材料凝集粒子のいずれかもしくは両方を破砕して、前記破砕して微粒子化した材料粒子の表面を非晶質層とする成膜ノズルであるエアロゾルデポジション装置。 - 前記移行部が、内部断面形状が前記エアロゾル用配管の流入側の断面円形状から楕円形状を介して長方形状へと連続的に断面積が小さく変化するテーパ状である請求項1に記載のエアロゾルデポジション装置。
- 前記移行部の内部断面形状が、前記移行部の途中において、前記エアロゾル用配管の流入側の断面円形状の断面積より大きくなっている請求項1に記載のエアロゾルデポジション装置。
- 前記直方体部のエアロゾルの流れ方向の長さが、40mm乃至100mmである請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のエアロゾルデポジション装置。
- エアロゾル発生器で発生させた材料粒子とキャリアガスとを含むエアロゾルを、エアロゾル用配管を介して内部断面形状が前記エアロゾル用配管の流入側の断面円形状から楕円形状を介して長方形状へと変化する移行部と、前記移行部に接してエアロゾルの流出側に配置された内部断面形状が一定の長方形状の直方体部を有している成膜ノズルに搬送する工程と、
前記成膜ノズル内において、前記エアロゾルに含まれる材料粒子もしくは材料凝集粒子のいずれかもしくは両方を破砕して、前記破砕して微粒子化した材料粒子の表面を非晶質層とする工程と、
前記表面を非晶質層に改変した材料粒子を前記成膜ノズルから成膜基板に噴射してエアロゾル膜を成膜する工程と、
を有するエアロゾルデポジション方法。
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