JP2007242967A - 基板処理装置及び処理ユニットの取り付け方法及び記憶媒体。 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数段に積層された処理ユニットに設けられ、処理ユニット内の基板載置面について、水平面上の2軸であるX軸及びY軸周りの各傾きを検出するための傾斜検出部と、各傾斜検出部からの傾き検出結果を取り込み、その検出結果に基づいて前記基板載置面のX軸周りの傾き及びY軸周りの傾きを表示すると共に各基板載置面の前記傾きが許容値に収まっているか否かを判断してその判断結果を表示する制御部と、を備えるように基板処理装置を構成する。表示に基づき必要な処理ユニットについてだけ調整を行うことで手間が軽減できる。
【選択図】図6
Description
また他の発明の基板処理装置は、支持枠体に対して各々独立して着脱自在にかつその傾きを調整可能に装着されると共に複数段に積層され、基板に対して処理する処理ユニットと、前記処理ユニットに対して基板の受け渡しを行う基板搬送手段と、この基板搬送手段により処理ユニット内の載置面に搬送される治具と、
この治具に設けられ、処理ユニット内の基板載置面について、水平面上の2軸であるX軸及びY軸周りの各傾きを検出するための傾斜検出部と、各傾斜検出部からの傾き検出結果を取り込み、その検出結果に基づいて前記基板載置面のX軸周りの傾き及びY軸周りの傾きを表示すると共に各基板載置面の前記傾きが許容値に収まっているか否かを判断してその判断結果を表示する制御部と、を備えたことを特徴とする。これらの基板処理装置の制御部は、例えば各処理ユニットにおける基板載置面のX軸周りの傾きの平均値及びY軸周りの傾きの平均値を演算して表示する機能を備えている。
さらに他の発明においては、第1の傾斜検出部により各処理ユニット内の基板載置面の傾きを検出すると共に第2の傾斜検出部により基板搬送手段の基板載置面の傾きを検出し、制御部により各処理ユニット毎に、処理ユニットの基板載置面の傾きと基板搬送手段の基板載置面の傾きとの差を求め、各傾きの差が許容値に収まっているか否かを判断する。従ってこの表示された判断結果及び傾きの差に基づいて各処理ユニット、基板搬送手段について個別に調整の必要の有無を判別でき、またこれら処理ユニット及び基板搬送手段について調整を行う場合は表示された傾きの差に基づいて行うことができるので、処理ユニット及び基板搬送手段の傾き調整に要する手間及び時間を抑えることができる。
なお第3の実施形態を適用する場合、例えば2枚のアーム部87各々について既述のように各処理ユニット85に対向する位置における傾きを検出し、検出結果に基づいて調整を行うことが好ましい。
T テスト用ウエハ
11 支持枠体
18 搬送手段
18a アーム部
2 加熱ユニット
24 熱板
25,26 昇降ピン
4,40 傾斜検出部
5,50,59 制御部
S2 処理ブロック
Claims (19)
- 支持枠体に対して各々独立して着脱自在にかつその傾きを調整可能に装着されると共に複数段に積層され、基板に対して処理する処理ユニットと、
前記処理ユニットに対して基板の受け渡しを行う基板搬送手段と、
各処理ユニットに設けられ、処理ユニット内の基板載置面について、水平面上の2軸であるX軸及びY軸周りの各傾きを検出するための傾斜検出部と、
各傾斜検出部からの傾き検出結果を取り込み、その検出結果に基づいて前記基板載置面のX軸周りの傾き及びY軸周りの傾きを表示すると共に各基板載置面の前記傾きが許容値に収まっているか否かを判断してその判断結果を表示する制御部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 支持枠体に対して各々独立して着脱自在にかつその傾きを調整可能に装着されると共に複数段に積層され、基板に対して処理する処理ユニットと、
前記処理ユニットに対して基板の受け渡しを行う基板搬送手段と、
この基板搬送手段により処理ユニット内の載置面に搬送される治具と、
この治具に設けられ、処理ユニット内の基板載置面について、水平面上の2軸であるX軸及びY軸周りの各傾きを検出するための傾斜検出部と、
各傾斜検出部からの傾き検出結果を取り込み、その検出結果に基づいて前記基板載置面のX軸周りの傾き及びY軸周りの傾きを表示すると共に各基板載置面の前記傾きが許容値に収まっているか否かを判断してその判断結果を表示する制御部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記制御部は、各処理ユニットにおける基板載置面のX軸周りの傾きの平均値及びY軸周りの傾きの平均値を演算して表示する機能を備えている1または2記載の基板処理装置。
- 支持枠体に対して各々独立して着脱自在にかつその傾きを調整可能に装着されると共に複数段に積層され、基板に対して処理する処理ユニットと、
前記処理ユニットに対して基板の受け渡しを行う基板搬送手段と、
各処理ユニットに設けられ、処理ユニット内の基板載置面について、水平面上の2軸であるX軸及びY軸周りの各傾きを検出するための第1の傾斜検出部と、
前記基板搬送手段に設けられ、基板搬送手段の基板載置面について水平面上の2軸であるX軸及びY軸周りの各傾きを検出するための第2の傾斜検出部と、
第1の傾斜検出部及び第2の傾斜検出部からの傾き検出結果を取り込み、その検出結果に基づいて、各処理ユニット毎に、処理ユニットの基板載置面のX軸周りの傾きと基板搬送手段の基板載置面のX軸周りの傾きとの差と、処理ユニットの基板載置面のY軸周りの傾きと基板搬送手段の基板載置面のY軸周りの傾きとの差と、を求め、各傾きの差が許容値に収まっているか否かを判断してその判断結果を表示する制御部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 制御部は、各処理ユニットの基板載置面の前記傾きが許容値に収まっているか否かを判断してその判断結果を表示する機能を備えていることを特徴とする請求項4記載の基板処理装置。
- 制御部は、基板搬送手段の基板載置面の前記傾きが許容値に収まっているか否かを判断してその判断結果を表示する機能を備えていることを特徴とする請求項4記載の基板処理装置。
- 基板搬送手段における基板載置面の傾きの検出結果の取り込みは、基板搬送手段が処理ユニットの搬送口に対向する位置にあるかまたは対応する処理ユニット内に位置しているときに行われることを特徴とする請求項4記載の基板処理装置。
- 基板載置面の実際の傾きと傾斜検出部にて検出された傾きとの差は、予め制御部側に記憶されており、制御部はこの差と傾斜検出部からの傾き検出結果とに基づいて基板載置面の傾きを求めることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一つに記載の基板処理装置。
- 支持枠体に対して各々独立して着脱自在にかつその傾きを調整可能に装着されると共に複数段に積層され、基板に対して処理する処理ユニットと、これら処理ユニットに対して基板の受け渡しを行う基板搬送手段と、を備えた基板処理装置について処理ユニットの傾きを調整する方法において、
各処理ユニットに設けられた傾斜検出部を用いて、処理ユニット内の基板載置面について、水平面上の2軸であるX軸及びY軸周りの各傾きを検出する工程と、
各傾斜検出部からの傾き検出結果を制御部に取り込み、その検出結果に基づいて前記基板載置面のX軸周りの傾き及びY軸周りの傾きを表示させると共に各基板載置面の前記傾きが許容値に収まっているか否かを判断させる工程と、
これら表示結果及び判断結果に基づいて、処理ユニットの傾きを調整する工程と、を含むことを特徴とする処理ユニットの傾き調整方法。 - 支持枠体に対して各々独立して着脱自在にかつその傾きを調整可能に装着されると共に複数段に積層され、基板に対して処理する処理ユニットと、これら処理ユニットに対して基板の受け渡しを行う基板搬送手段と、を備えた基板処理装置について処理ユニットの傾きを調整する方法において、
基板搬送手段により処理ユニット内の載置面に治具を搬送する工程と、
この治具に設けられた傾斜検出部を用いて、処理ユニット内の基板載置面について、水平面上の2軸であるX軸及びY軸周りの各傾きを検出する工程と、
各傾斜検出部からの傾き検出結果を制御部に取り込み、その検出結果に基づいて前記基板載置面のX軸周りの傾き及びY軸周りの傾きを表示させると共に各基板載置面の前記傾きが許容値に収まっているか否かを判断させる工程と、
これら表示結果及び判断結果に基づいて、処理ユニットの傾きを調整する工程と、を含むことを特徴とする処理ユニットの傾き調整方法。 - 各処理ユニットにおける基板載置面のX軸周りの傾きの平均値及びY軸周りの傾きの平均値を演算して表示する工程を更に備えている請求項9または10記載の処理ユニットの傾き調整方法。
- 支持枠体に対して各々独立して着脱自在にかつその傾きを調整可能に装着されると共に複数段に積層され、基板に対して処理する処理ユニットと、これら処理ユニットに対して基板の受け渡しを行う基板搬送手段と、を備えた基板処理装置について処理ユニットの傾きを調整する方法において、
各処理ユニットに設けられた第1の傾斜検出部を用いて、処理ユニット内の基板載置面について、水平面上の2軸であるX軸及びY軸周りの各傾きを検出する工程と、
前記基板搬送手段に設けられた第2の傾斜検出部を用いて、基板搬送手段の基板載置面について水平面上の2軸であるX軸及びY軸周りの各傾きを検出する工程と、
第1の傾斜検出部及び第2の傾斜検出部からの傾き検出結果を取り込み、その検出結果に基づいて、各処理ユニット毎に、処理ユニットの基板載置面のX軸周りの傾きと基板搬送手段の基板載置面のX軸周りの傾きとの差と、処理ユニットの基板載置面のY軸周りの傾きと基板搬送手段の基板載置面のY軸周りの傾きとの差と、を求め、各傾きの差が許容値に収まっているか否かを判断してその判断結果を表示する工程と、
これら表示結果及び判断結果に基づいて、処理ユニットの傾きを調整する工程と、を含むことを特徴とする処理ユニットの傾き調整方法。 - 各処理ユニットの基板載置面の前記傾きが許容値に収まっているか否かを判断してその判断結果を表示する工程を更に備えていることを特徴とする請求項12記載の処理ユニットの傾き調整方法。
- 基板搬送手段の基板載置面の前記傾きが許容値に収まっているか否かを判断してその判断結果を表示する工程を更に備えていることを特徴とする請求項12記載の処理ユニットの傾き調整方法。
- 基板搬送手段における基板載置面の傾きの検出結果の取り込みは、基板搬送手段が処理ユニットの搬送口に対向する位置にあるかまたは対応する処理ユニット内に位置しているときに行われることを特徴とする請求項12記載の処理ユニットの傾き調整方法。
- 基板載置面の実際の傾きと傾斜検出部にて検出された傾きとの差は、予め制御部側に記憶されており、制御部はこの差と傾斜検出部からの傾き検出結果とに基づいて基板載置面の傾きを求めることを特徴とする請求項9ないし15のいずれか一つに記載の処理ユニットの傾き調整方法。
- 支持枠体に対して各々独立して着脱自在にかつその傾きを調整可能に装着されると共に複数段に積層され、基板に対して処理する処理ユニットと、これら処理ユニットに対して基板の受け渡しを行う基板搬送手段と、を備えた基板処理装置に用いられるコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、
各処理ユニットに設けられた傾斜検出部を用いて、処理ユニット内の基板載置面について、水平面上の2軸であるX軸及びY軸周りの各傾きを検出する工程と、
各傾斜検出部からの傾き検出結果を制御部に取り込み、その検出結果に基づいて前記基板載置面のX軸周りの傾き及びY軸周りの傾きを表示させると共に各基板載置面の前記傾きが許容値に収まっているか否かを判断させる工程と、を実施するようにステップ群が組まれていることを特徴とする記憶媒体。 - 支持枠体に対して各々独立して着脱自在にかつその傾きを調整可能に装着されると共に複数段に積層され、基板に対して処理する処理ユニットと、これら処理ユニットに対して基板の受け渡しを行う基板搬送手段と、を備えた基板処理装置に用いられるコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、
基板搬送手段により処理ユニット内の載置面に治具を搬送する工程と、
この治具に設けられた傾斜検出部を用いて、処理ユニット内の基板載置面について、水平面上の2軸であるX軸及びY軸周りの各傾きを検出する工程と、
各傾斜検出部からの傾き検出結果を制御部に取り込み、その検出結果に基づいて前記基板載置面のX軸周りの傾き及びY軸周りの傾きを表示させると共に各基板載置面の前記傾きが許容値に収まっているか否かを判断させる工程と、を実施するようにステップ群が組まれていることを特徴とする記憶媒体。 - 支持枠体に対して各々独立して着脱自在にかつその傾きを調整可能に装着されると共に複数段に積層され、基板に対して処理する処理ユニットと、これら処理ユニットに対して基板の受け渡しを行う基板搬送手段と、を備えた基板処理装置に用いられるコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、
各処理ユニットに設けられた第1の傾斜検出部を用いて、処理ユニット内の基板載置面について、水平面上の2軸であるX軸及びY軸周りの各傾きを検出する工程と、
前記基板搬送手段に設けられた第2の傾斜検出部を用いて、基板搬送手段の基板載置面について水平面上の2軸であるX軸及びY軸周りの各傾きを検出する工程と、
第1の傾斜検出部及び第2の傾斜検出部からの傾き検出結果を取り込み、その検出結果に基づいて、各処理ユニット毎に、処理ユニットの基板載置面のX軸周りの傾きと基板搬送手段の基板載置面のX軸周りの傾きとの差と、処理ユニットの基板載置面のY軸周りの傾きと基板搬送手段の基板載置面のY軸周りの傾きとの差と、を求め、各傾きの差が許容値に収まっているか否かを判断してその判断結果を表示する工程と、を実施するようにステップ群が組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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Citations (3)
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---|---|---|---|---|
JP2001015575A (ja) * | 1999-07-02 | 2001-01-19 | Matsushita Electronics Industry Corp | 基板搬送装置の調整方法とその検査装置 |
JP2001077019A (ja) * | 2000-07-13 | 2001-03-23 | Tokyo Electron Ltd | 処理システム |
JP2005286211A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Tokyo Electron Ltd | 真空処理装置及び真空処理方法 |
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2006
- 2006-03-09 JP JP2006064720A patent/JP4611918B2/ja not_active Expired - Fee Related
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