JP2007227653A - 磁気メモリ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 磁気抵抗効果素子MRは、第2配線W2と共通配線WCとの間にも位置している。磁気抵抗効果素子MRは、スピンフィルタSFを介することなく第2配線W2に電気的に接続されている。読み出し電流IRの供給用の第2配線W2と共通配線WCとの間に、読み出し電流IRを供給すると、これはスピンフィルタSFを介していないため、磁気抵抗効果素子MR内には、スピン分極電流が供給されず、感磁層Fの磁化反転は困難となる。記録密度を向上させるように、感磁層Fの面積を小さくして、書き込み電流IWを低減させた構造においても、読み出し電流IRの供給によっては磁化反転が生じず、読み出し電流IRを書き込み電流IWに比較して著しく小さくすることなく情報の読み出しを行うことができる。
【選択図】 図1
Description
Claims (5)
- 複数の記憶領域を配列してなる磁気メモリにおいて、
個々の前記記憶領域は、
書き込み電流供給用の第1配線と、
読み出し電流供給用の第2配線と、
共通配線と、
磁気抵抗効果素子と、
前記磁気抵抗効果素子に設けられたスピンフィルタと、
を備え、
前記磁気抵抗効果素子は、
前記第1配線と前記共通配線との間に位置し、
前記第2配線と前記共通配線との間に位置し、
前記共通配線に電気的に接続され、
前記スピンフィルタを介して前記第1配線に電気的に接続されており、
前記スピンフィルタを介することなく前記第2配線に電気的に接続されている、
ことを特徴とする磁気メモリ。 - 個々の前記記憶領域の前記スピンフィルタは、
前記磁気抵抗効果素子上に設けられた非磁性導電層と、
前記非磁性導電層に接触した固定層と、
を有し、
前記第1配線は、前記固定層上の第1領域上に設けられ、
前記第2配線は、前記非磁性導電層の、前記第1領域に隣接する第2領域上に設けられている、
ことを特徴とする請求項1に記載の磁気メモリ。 - 個々の前記記憶領域において、
前記第1領域と、前記第2領域との間には、段差が介在し、且つ、前記第1及び第2配線のいずれも形成されていないマージン領域が存在することを特徴とする請求項2に記載の磁気メモリ。 - 個々の前記記憶領域は、前記磁気抵抗効果素子と前記共通配線との間に介在する第2スピンフィルタを更に備えることを特徴とする請求項1に記載の磁気メモリ。
- 前記第2領域の面積S2は、前記第1領域の面積S1の50%以下であることを特徴とする請求項2に記載の磁気メモリ。
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