JP2007207889A - 保持装置及び露光装置 - Google Patents
保持装置及び露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007207889A JP2007207889A JP2006023053A JP2006023053A JP2007207889A JP 2007207889 A JP2007207889 A JP 2007207889A JP 2006023053 A JP2006023053 A JP 2006023053A JP 2006023053 A JP2006023053 A JP 2006023053A JP 2007207889 A JP2007207889 A JP 2007207889A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- holding device
- space
- annular convex
- liquid
- wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】気流発生機構により、ウエハホルダWHのウエハWが載置される載置面から所定距離隔てられた空間に、矢印で示される空気の流れが生じさせられ、液体供給装置40によりインラインチェック弁42を介してその気体の流れ中に液滴70が噴霧されるように冷却用の液体が液体供給通路36内に供給される。このとき、ウエハホルダWHが加熱されていれば、その噴霧された液滴70が気化(蒸発)し、その際にウエハホルダWHから気化熱を奪い、これによりウエハホルダWHが冷却される。この場合、冷却用の液体を外部から供給するためには、細いチューブ38を用いれば足りる。
【選択図】図4
Description
a. ウエハホルダの下の試料台や該試料台に固定された当該試料台の位置計測に用いられる干渉計用の移動鏡にウエハホルダから熱が伝熱し、試料台や移動鏡に熱変形を生じさせる。この結果、ウエハ上に既に形成されたショット領域と露光によってウエハ上に形成されるパターンとの重ね合わせ精度が悪化する。
b. 試料台周囲の雰囲気と移動鏡との温度が変わり、移動鏡付近に空気揺らぎ(空気の温度揺らぎ)が生じ、これが干渉計による試料台の位置の計測誤差要因となる。この結果、上記の重ね合わせ精度が悪化する。
c. ウエハホルダに投入されてくるウエハとウエハホルダとの温度が変わるため、ウエハホルダにチャックされてから後にそのウエハホルダとの間の摩擦力に抗してウエハが熱膨張し、その際にウエハ面内に歪を生じ、ウエハ上のショット領域の高次の配列異常を引き起こし、結果として上記の重ね合わせ精度が悪化する。また、高次の配列異常をも補正するために、EGA(エンハンスド・グローバル・アライメント)の際に位置情報を計測するアライメントマーク(サンプルマーク)の数を増やすと、露光装置のスループットが低下する。
d. 上記のウエハの熱膨張は有限の時定数を有して発生するため、EGAの終了後に、そのEGA時からウエハの倍率やショット領域の配列が変化してしまい、EGA結果に誤差が生じてしまう。この結果、露光装置の重ね合わせ精度が悪化する。また、上述の理由によりEGA結果に誤差が生じるのを避けるため、ウエハとウエハホルダとの温度がなじむまで、EGA開始までに待ち時間を入れると、露光装置のスループットが低下する。
以下、本発明の第1の実施形態について、図1〜図5に基づいて説明する。
ここで、本発明の第2の実施形態について図6及び図7に基づいて説明する。ここで、前述した第1の実施形態と同一又は同等の構成部分については第1の実施形態と同一の符号を用いるとともにその説明を省略する。
Claims (24)
- 物体を保持する保持装置であって、
前記物体が載置される保持装置本体と;
前記保持装置本体の前記物体が載置される載置面から所定距離隔てられた空間に、所定方向の気体の流れを生じさせる気流発生機構と;
前記気体の流れ中に液滴が噴霧されるように冷却用の液体を液体供給通路に供給する液体供給機構と;を備える保持装置。 - 前記保持装置本体の前記物体が載置される載置面の重力方向下方に前記空間が位置することを特徴とする請求項1に記載の保持装置。
- 前記保持装置本体は、載置された前記物体を吸着保持するホルダと、前記ホルダが載置される試料台とを含み、
前記ホルダと試料台との間に前記空間が形成され、前記液体供給機構が前記試料台に設けられていることを特徴とする請求項2に記載の保持装置。 - 前記試料台には、前記ホルダを真空吸着する吸着機構が設けられ、
前記ホルダと試料台との少なくとも一方には、複数の突起が所定間隔で突設されていることを特徴とする請求項3に記載の保持装置。 - 前記試料台には、前記空間を大気に開放する大気開放口が形成され、
前記気流発生機構は、前記大気開放口を含み、該大気開放口から前記吸着機構の真空吸引口に向かう空気の流れを形成することを特徴とする請求項4に記載の保持装置。 - 前記試料台には、前記突起部より高さの低い凸部が設けられ、
前記液体供給機構は、前記凸部の先端に形成された前記空間に臨む液体噴出口を有し、その内部に前記外部から供給された液体が一時的に収容される前記液体供給通路を備えていることを特徴とする請求項5に記載の保持装置。 - 前記試料台には、前記凸部として、前記液体噴出口がそれぞれの先端面に所定間隔で形成された同心の2重の環状凸部を含む大気開放用環状凸部が設けられ、該大気開放用環状凸部を形成する内側環状凸部と外側環状凸部との間の前記試料台部分には、前記大気開放口が形成されていることを特徴とする請求項6に記載の保持装置。
- 前記試料台には、前記凸部と同程度の高さの同心の2重の環状凸部を含む真空吸引用環状凸部がさらに設けられ、該真空吸引用環状凸部を形成する内側環状凸部と外側環状凸部間の前記試料台部分に前記真空吸引口が所定間隔で形成されていることを特徴とする請求項4〜7のいずれか一項に記載の保持装置。
- 前記試料台には、大気開放用環状凸部と、真空吸引用環状凸部とが、前記各環状凸部の中心に関して放射方向に交互に配置されていることを特徴とする請求項8に記載の保持装置。
- 前記保持装置本体は、その内部に前記空間が形成された部材であり、
前記液体供給機構は、前記保持装置本体の前記空間に関して前記載置面とは反対側の部分に設けられていることを特徴とする請求項2に記載の保持装置。 - 前記気流発生機構は、前記保持装置本体の前記空間に関して前記載置面とは反対側の部分にそれぞれ設けられた、前記空間に連通する第1の通気路と、前記空間に連通する前記第1の通気路より高圧の第2の通気路とを有していることを特徴とする請求項10に記載の保持装置。
- 前記保持装置本体の前記空間を区画する前記載置面とは反対側の部分には、凸部が設けられ、
前記液体供給機構は、前記凸部の先端に形成された前記空間に臨む液体噴出口を有し、その内部に前記外部から供給された液体が一時的に収容される前記液体供給通路を備えていることを特徴とする請求項11に記載の保持装置。 - 前記液体噴出口が臨む前記空間は、前記液体供給通路内の液体の圧力に比べて負圧になっていることを特徴とする請求項12に記載の保持装置。
- 前記保持装置本体の前記空間を区画する前記載置面とは反対側の部分には、前記凸部として、前記液体噴出口がそれぞれの先端面に所定間隔で形成された同心の2重の環状凸部が設けられ、該第1の2重の環状凸部を形成する内側環状凸部と外側環状凸部との間の前記保持装置本体に、前記第2の通気路が形成されていることを特徴とする請求項12又は13に記載の保持装置。
- 前記保持装置本体の前記空間を区画する前記載置面とは反対側の部分には、前記凸部と同程度の高さの同心の第2の2重の環状凸部がさらに設けられ、該第2の2重の環状凸部を形成する内側環状凸部と外側環状凸部との間の前記保持装置本体には前記第1通気路が所定間隔で形成されていることを特徴とする請求項12〜14のいずれか一項に記載の保持装置。
- 前記保持装置本体には、前記第1の2重の環状凸部と、前記第2の2重の環状凸部とが、前記各環状凸部の中心に関して放射方向に交互に配置されていることを特徴とする請求項15に記載の保持装置。
- 前記第2の通気路は、大気中に開放された大気開放通気路であり、前記第1の通気路は真空通気路であることを特徴とする請求項11〜16のいずれか一項に記載の保持装置。
- 前記保持装置本体の前記空間を区画する前記載置面側の部分及び前記載置面とは反対側の部分の少なくとも一方には、複数の突起が所定間隔で突設されていることを特徴とする請求項17に記載の保持装置。
- 前記第1の通気路は、大気中に開放された大気開放通気路であり、前記第2の通気路は大気圧より高圧の通気路であることを特徴とする請求項10〜16のいずれか一項に記載の保持装置。
- 前記保持装置本体は、載置された前記物体を吸着保持するホルダと、前記ホルダが載置される試料台とが一体構成されたテーブルであることを特徴とする請求項10〜19のいずれか一項に記載の保持装置。
- 前記保持装置本体は、載置された前記物体を吸着保持するホルダと、前記ホルダが載置される試料台との一方であることを特徴とする請求項10〜19のいずれか一項に記載の保持装置。
- 前記液体供給機構は、前記空間内の圧力の大小に応じて前記空間に対する液体の供給・停止を制御することを特徴とする請求項1〜21のいずれか一項に記載の保持装置。
- 前記液体供給機構は、前記空間内及びその近傍の温度に応じて前記空間に対する液体の供給状態を制御することを特徴とする請求項1〜22のいずれか一項に記載の保持装置。
- エネルギビームにより物体を露光して前記物体上に所定のパターンを形成する露光装置であって、
前記物体が前記保持装置本体に載置される請求項1〜23のいずれか一項に記載の保持装置と;
前記保持装置本体を搭載して所定方向に移動する移動体と;を備える露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006023053A JP4835976B2 (ja) | 2006-01-31 | 2006-01-31 | 保持装置及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006023053A JP4835976B2 (ja) | 2006-01-31 | 2006-01-31 | 保持装置及び露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007207889A true JP2007207889A (ja) | 2007-08-16 |
JP4835976B2 JP4835976B2 (ja) | 2011-12-14 |
Family
ID=38487099
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006023053A Expired - Fee Related JP4835976B2 (ja) | 2006-01-31 | 2006-01-31 | 保持装置及び露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4835976B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009545157A (ja) * | 2006-07-28 | 2009-12-17 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. | リソグラフィ・システム、熱放散の方法、及びフレーム |
JP2010115730A (ja) * | 2008-11-12 | 2010-05-27 | Disco Abrasive Syst Ltd | 加工装置 |
US7859003B2 (en) | 2008-10-16 | 2010-12-28 | Lg Innotek Co., Ltd. | Semiconductor light emitting device |
JP2013026393A (ja) * | 2011-07-20 | 2013-02-04 | Daihen Corp | 冷却ユニット及びこれを用いたワーク搬送装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08115868A (ja) * | 1994-10-18 | 1996-05-07 | Nikon Corp | 露光装置用のクリーニング装置 |
JPH10284382A (ja) * | 1997-04-07 | 1998-10-23 | Komatsu Ltd | 温度制御装置 |
JP2002260829A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-09-13 | Ibiden Co Ltd | ホットプレートユニット |
JP2003282685A (ja) * | 2002-03-27 | 2003-10-03 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 冷却プレート |
-
2006
- 2006-01-31 JP JP2006023053A patent/JP4835976B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08115868A (ja) * | 1994-10-18 | 1996-05-07 | Nikon Corp | 露光装置用のクリーニング装置 |
JPH10284382A (ja) * | 1997-04-07 | 1998-10-23 | Komatsu Ltd | 温度制御装置 |
JP2002260829A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-09-13 | Ibiden Co Ltd | ホットプレートユニット |
JP2003282685A (ja) * | 2002-03-27 | 2003-10-03 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 冷却プレート |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009545157A (ja) * | 2006-07-28 | 2009-12-17 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. | リソグラフィ・システム、熱放散の方法、及びフレーム |
US7859003B2 (en) | 2008-10-16 | 2010-12-28 | Lg Innotek Co., Ltd. | Semiconductor light emitting device |
JP2010115730A (ja) * | 2008-11-12 | 2010-05-27 | Disco Abrasive Syst Ltd | 加工装置 |
JP2013026393A (ja) * | 2011-07-20 | 2013-02-04 | Daihen Corp | 冷却ユニット及びこれを用いたワーク搬送装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4835976B2 (ja) | 2011-12-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4968076B2 (ja) | 基板保持装置、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP5181475B2 (ja) | 基板保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
US11215933B2 (en) | Substrate table, immersion lithographic apparatus and device manufacturing method | |
US20100157277A1 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
JP2007273693A (ja) | 基板保持部材及び基板保持方法、基板保持装置、並びに露光装置及び露光方法 | |
TWI722395B (zh) | 曝光裝置及元件製造方法 | |
JP4777933B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP4835976B2 (ja) | 保持装置及び露光装置 | |
JP4833953B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP2008041822A (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法、並びに環境制御装置 | |
JP2005116627A (ja) | ステージ装置、露光装置並びにデバイス製造方法 | |
JP2007317828A (ja) | 冷却装置、移動装置及び処理装置、並びにリソグラフィシステム | |
JP2009049119A (ja) | ベース部材とその製造方法及びステージ装置並びに露光装置 | |
JP4661322B2 (ja) | 露光装置、デバイスの製造方法及び液体供給方法 | |
JP2014127655A (ja) | 吸引装置及び方法、露光装置、並びにデバイス製造方法 | |
JP2010238986A (ja) | 露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP6477793B2 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP6171293B2 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2019070861A (ja) | 露光装置及び露光方法並びにデバイス製造方法 | |
JP2007207890A (ja) | 処理装置及び露光装置、並びに処理方法 | |
US8830441B2 (en) | Fluid handling structure, a lithographic apparatus and a device manufacturing method | |
JP2011014785A (ja) | 露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP2010283284A (ja) | 露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP2007317829A (ja) | 保持機構、移動装置及び処理装置、並びにリソグラフィシステム | |
JP2010238985A (ja) | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081211 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100903 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100908 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100929 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110902 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110915 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141007 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141007 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |