JP2005116627A - ステージ装置、露光装置並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】レチクル6Aを保持するスライダ54と、スライダ54を移動及び位置決め可能に保持するステージ定盤51とを備え、レチクル6Aを保持する保持面54aが鉛直下方に向くように、スライダ54をステージ51の鉛直下面に吸引保持した。
【選択図】 図2
Description
図1は、本実施形態のステージ装置を搭載する露光装置の概略構成を示す図である。
図2は本実施形態のステージ装置の概略構成図であり、図3は図1のステージ装置をY方向から見た側面図であり、図4は図1のステージ装置を下方から見た図である。
次に、この露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。
6 レチクルステージ
7 縮小ミラー投影光学系
8 ウエハステージ
10 鏡筒定盤
51 ステージ定盤
53 静圧軸受
54 スライダ
56 カウンタマス
57 可動磁石
58 モータコイル
60 フット部
61 電磁ガイドEコア
62 電磁ガイドIコア
63 コネクタ
64 与圧磁石
65 実装ケーブル
66 磁石高さ調整機構
67 圧力調整機構
68 変位センサ
Claims (9)
- 物体を移動及び位置決めするステージ装置において、前記物体を保持するスライダと、前記スライダを定盤に対して駆動する駆動部を備え、前記スライダを前記定盤に対して静圧軸受と与圧磁石により吊り下げた状態で支持することを特徴とするステージ装置。
- 前記駆動部を保持して前記駆動部に作用する反力を打ち消すカウンタ部を備え、前記カウンタ部を前記定盤に対して静圧軸受と与圧磁石により吊り下げた状態で支持することを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。
- 前記磁石の吸引力をFm、前記ステージの自重をFg、前記静圧軸受の発生圧力をFaとすると、Fm=Fa+Fgの関係を満たすことを特徴とする請求項2に記載のステージ装置。
- 前記磁石の吸引力と前記静圧軸受の発生圧力とを調整する調整手段を更に備えることを特徴とする請求項2又は3に記載のステージ装置。
- 前記静圧軸受の前記定盤に対する浮上量を計測する計測手段を更に備えることを特徴とする請求項2乃至4のいずれか1項に記載のステージ装置。
- 前記スライダを前記定盤に対して前記第2の方向に電磁的に駆動するガイド部を更に備えることを特徴とする請求項2乃至5のいずれか1項に記載のステージ装置。
- 前記ガイド部は、断面がコの字状で前記第1の方向に延びる第1のコア部と、当該第1のコア部を中心としてその両側に対向配置される第2のコア部とを備え、当該第1のコア部の凹状空間に通電のためのケーブル及びコネクタを配置したことを特徴とする請求項6に記載のステージ装置。
- 請求項1乃至7のいずれか1項に記載のステージ装置を備え、当該ステージ装置を用いて原版を基板に対して相対的に移動及び位置決めすることによって原版に描かれたパターンを基板に露光することを特徴とする露光装置。
- 請求項8に記載の露光装置を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
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JP3810039B2 (ja) * | 1998-05-06 | 2006-08-16 | キヤノン株式会社 | ステージ装置 |
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008010831A (ja) * | 2006-05-04 | 2008-01-17 | Asml Netherlands Bv | ガスベアリング、およびそのようなベアリングを備えたリソグラフィ装置 |
US7978307B2 (en) | 2006-05-04 | 2011-07-12 | Asml Netherlands B.V. | Gas bearing, and lithographic apparatus provided with such a bearing |
JP2013048254A (ja) * | 2006-11-09 | 2013-03-07 | Nikon Corp | 保持装置、位置検出装置及び露光装置、移動方法、位置検出方法、露光方法、検出系の調整方法、並びにデバイス製造方法 |
WO2011065380A1 (ja) * | 2009-11-25 | 2011-06-03 | 日本精工株式会社 | プリアライメント装置及びプリアライメント方法 |
JPWO2011065380A1 (ja) * | 2009-11-25 | 2013-04-18 | Nskテクノロジー株式会社 | プリアライメント装置及びプリアライメント方法 |
KR20160135338A (ko) * | 2014-04-25 | 2016-11-25 | 메카트로닉스 아게 | 객체의 파지, 위치 결정 및/또는 이동 장치 |
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