JP2007207545A - 有機エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法、並びに電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス装置は、基板と、基板上に設定された画素領域を囲む隔壁と、発光可能な有機層とを備えている。有機層は、隔壁に囲まれた画素領域及び隔壁の上面のそれぞれに連続するように形成されている。隔壁の高さをHB、画素領域における有機層の膜厚をHEとしたとき、隔壁の高さHBが、膜厚HEの2倍以下となるように設けられている。
【選択図】図1
Description
第1実施形態について説明する。図1は第1実施形態に係る有機EL装置を示す側断面図である。図1において、有機EL装置Sは、基板1と、基板1上に設けられた発光素子(有機EL素子)2とを備えている。発光素子2は基板1の表面(能動面)に設けられている。また、有機EL装置Sは、発光素子2を駆動するための不図示の駆動素子(チップ)を備えている。また、基板1の表面の所定位置には、発光素子2と駆動素子とを電気的に接続する不図示の配線が設けられている。
HB ≦ 2×HE … (1)
の条件を満足するように、隔壁8及び有機層4が設けられている。ここで、有機層4の膜厚HEとは、有機層4の平坦な部分の膜厚であって、最も薄い部分である。
HB ≦ 0.01×L1 … (2)
の条件を満足するように、画素領域10の直径L1に応じて、隔壁8の高さHBが設けられている。
図6の模式図に示すように、画素領域10の直径L1を60μm、隔壁8の高さHBを50nmに設定し、膜厚HEが100nmである有機層4を形成した。これは、上述の(1)式、(2)式の条件を満足する。この場合、発光領域の直径L3は56μmとなった。ここで、画素領域10及び発光領域のそれぞれはほぼ円形状である。また、発光領域率は、約87%となる。このように、(1)式、(2)式の条件を満足することにより、発光領域率として目標値である70%を得ることができた。
図7の模式図に示すように、画素領域10の直径L1を60μm、隔壁8の高さHBを2000nmに設定し、膜厚HEが100nmである有機層4を形成した。これは、上述の(1)式、(2)式の条件を満足しない。この場合、発光領域の直径L3は18μmとなり、発光領域率は、約9%となった。このように、(1)式、(2)式の条件を満足しない場合、発光領域率の目標値である70%を得ることができないことが確認できた。
第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の第1実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
HB+HL ≦ 2×HE … (3)
の条件を満足するように、隔壁8、有機層4、及び配線9が設けられている。
0.7×L1 ≦ L2 … (4)
の条件を満足するように、画素領域10の直径L1に応じて、距離L2が設けられている。
HB+HL ≦ 0.01×L1 … (5)
の条件を満足するように、画素領域10の直径L1に応じて、隔壁8の高さHB、及び配線9の高さHLが設けられている。
第3実施形態について説明する。図9は第3実施形態に係る有機EL装置Sを示す側断面図である。図9に示すように、本実施形態の有機EL装置Sは、配線9を含む基板1の表面(能動面)と陽極3との間に層間絶縁層12が配置され、陽極3と配線9とは、層間絶縁層12の所定位置に形成されたコンタクトホール13を介して電気的に接続されている。
図10は、上述の有機EL装置Sを、電子写真方式プリンタの光書き込みヘッド(プリンタヘッド)に適用した場合の一例を示す図である。図10において、有機EL装置Sの基板1の上方には光学系60が設けられており、光学系60の上方には感光ドラム(感光体)61が設けられている。有機EL装置Sは、光学系60を介して、感光ドラム61に対して光を照射する。有機EL装置Sの基板1から射出された光は、光学系60を通って感光ドラム61上に集光されるようになっている。有機EL装置Sは均一な輝度(照度)の光を射出できるため、感光ドラム61を良好に感光させることができ、その感光ドラム61を用いて良好に画像形成することができる。
次に、上述の有機EL装置Sを備えた電子機器の例について説明する。上述の有機EL装置Sは、面発光が可能な照明用光源として用いることができる。例えば、液晶表示装置の表示部を構成するバックライトとして用いることができる。
Claims (11)
- 発光可能な有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス装置において、
基板と、
前記基板上に設定された画素領域を囲む隔壁とを備え、
前記有機層は、前記隔壁に囲まれた前記画素領域及び前記隔壁の上面のそれぞれに連続するように形成され、
前記隔壁の高さをHB、前記画素領域における前記有機層の膜厚をHEとしたとき、
隔壁の高さHBが、膜厚HEの2倍以下となるように設けられていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 前記画素領域の直径をL1としたとき、
隔壁の高さHBが、直径L1の0.01倍以下となるように設けられていることを特徴とする請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 発光可能な有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス装置において、
基板と、
前記基板上に設定された画素領域を囲む隔壁と、
前記基板と前記隔壁との間に設けられた配線とを備え、
前記隔壁の高さをHB、前記画素領域における前記有機層の膜厚をHE、前記配線の高さをHLとしたとき、
隔壁の高さHBと配線の高さHLとの和が、膜厚HEの2倍以下となるように設けられていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 前記画素領域の直径をL1、前記画素領域のエッジと前記配線のエッジとの距離をL2としたとき、
直径L1の0.7倍の値が、距離L2以下となるように設けられていることを特徴とする請求項3記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 隔壁の高さHBと配線の高さHLとの和が、直径L1の0.01倍以下となるように設けられていることを特徴とする請求項4記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
- 発光可能な有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス装置において、
基板と、
前記基板上に設定された画素領域を囲む隔壁とを備え、
前記有機層は、前記隔壁に囲まれた前記画素領域及び前記隔壁の上面のそれぞれに連続するように形成され、
前記画素領域内の前記有機層から射出される光の最大輝度KMに対して所定の割合の輝度KPの光を射出可能な発光領域の面積をAP、前記画素領域の面積をA1、AP/A1を発光領域率としたとき、
前記発光領域率の目標値に応じて、前記隔壁の高さHB、前記画素領域における前記有機層の膜厚HE、及び前記画素領域の直径L1のそれぞれが設定されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 発光可能な有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス装置において、
基板と、
前記基板上に設定された画素領域を囲む隔壁と、
前記基板と前記隔壁との間に設けられた配線とを備え、
前記有機層は、前記隔壁に囲まれた前記画素領域及び前記隔壁の上面のそれぞれに連続するように形成され、
前記画素領域内の前記有機層から射出される光の最大輝度KMに対して所定の割合の輝度KPの光を射出可能な発光領域の面積をAP、前記画素領域の面積をA1、AP/A1を発光領域率としたとき、
前記発光領域率の目標値に応じて、前記隔壁の高さHB、前記画素領域における前記有機層の膜厚HE、前記配線の高さHL、前記画素領域の直径L1、及び前記画素領域のエッジと前記配線のエッジとの距離L2のそれぞれが設定されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 請求項1〜請求項7のいずれか一項記載の有機エレクトロルミネッセンス装置を備えたことを特徴とする電子機器。
- 発光可能な有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
前記基板上に設定された画素領域を囲むように隔壁を形成する隔壁形成工程と、
前記有機層を形成するための材料を含む液体材料を前記隔壁に囲まれた前記画素領域及び前記隔壁の上面のそれぞれに連続するように供給する液体材料供給工程とを有し、
前記隔壁の高さをHB、前記画素領域における前記有機層の膜厚をHEとしたとき、
隔壁の高さHBが、膜厚HEの2倍以下となるように、前記各工程を実行することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 - 発光可能な有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
前記基板上の所定位置に配線を形成する配線形成工程と、
前記基板上に設定された画素領域を囲むように、且つ前記基板との間で前記配線を挟むように隔壁を形成する隔壁形成工程と、
前記有機層を形成するための材料を含む液体材料を前記隔壁に囲まれた前記画素領域及び前記隔壁の上面のそれぞれに連続するように供給する液体材料供給工程とを有し、
前記隔壁の高さをHB、前記画素領域における前記有機層の膜厚をHE、前記配線の高さをHLとしたとき、
隔壁の高さHBと配線の高さHLとの和が、膜厚HEの2倍以下となるように、前記各工程を実行することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 - 前記液体材料供給工程は、スピンコート法を用いて、前記画素領域及び前記隔壁の上面のそれぞれに前記液体材料を塗布することを特徴とする請求項9又は10記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
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