JP2007165917A - 被吸着物の処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】静電チャックプレート3上からウエハ1を離脱させる際に流れる電流値I3を検出し、静電チャック2の残留電荷6、7を算出している。残留電荷量はウエハ1の搬送状態に影響を与えるので、残留電荷量を求めることで、ウエハー1の搬送状態を知ることができる。更に、残留電荷量に応じ静電吸着とは逆極性の逆バイアスを印加するようにすれば、残留電荷を消滅させることもできる。
【選択図】図2
Description
また、本発明の他の目的は、残留電荷を正確に消滅させられる技術を提供することにある。
請求項9記載の発明は、誘電体中に配置された電極を有する静電チャック上に一の被吸着物を載置し、前記電極に吸着電圧を印加して前記一の被吸着物を静電吸着して処理し、前記吸着電圧の印加を解除した後、前記一の被吸着物を前記静電チャック上から離脱させ、後続する他の被吸着物を静電吸着して処理する被吸着物の処理方法であって、すでに残留電荷が前記静電チャックに滞留している場合は、前記一の被吸着物を載置した際に前記電極に流れる電流(I5)を測定し、この電流の値に基づいて上記静電チャックに残留した残留電荷の極性と電荷量を算出し、前記残留電荷を減少させる逆バイアス電圧の電圧値と印加時間を求め、他の被吸着物を前記静電チャック上に配置し、静電吸着して処理した後、離脱させる前に、前記電極に、求めた電圧値と印加時間で前記逆バイアス電圧を印加し、前記残留電荷を低減させる被吸着物の処理方法である。
請求項10記載の発明は、請求項9に記載の被吸着物の処理方法であって、前記吸着電圧を印加して前記被吸着物を前記静電チャック上に静電吸着して処理し、前記吸着電圧の印加を解除して前記逆バイアス電圧を印加した後、前記被吸着物を離脱させる際に前記電極に流れる電流(I3)を測定し、その電流の値と極性に基づいて前期電極に印加する前記逆バイアス電圧の電圧値、または印加時間を修正する被吸着物の処理方法である。
図1(b)はその状態を示しており、放電電流I1が矢印の方向(充電電流I0とは逆方向)に流れることにより、蓄積されていた電荷14〜19は次第に減少する。
上述したように、電極21、22への電圧印加を停止し、その間を短絡させても、静電チャックプレート3表面近傍には残留電荷6、7が残っており、それにより、残留吸着力が発生してしまう。従って、被吸着物1を静電チャック2上から持ち上げる前に、図2(c)に示した状態から電源装置11内の電圧源11aの極性を静電吸着時とは逆向きに反転させ、電極21、22に逆バイアスを印加する。
以下、本発明の好ましい実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。
図9の符号71は、本発明に係る真空処理装置の一実施形態であり、チャンバー72を有している。チャンバー72は、図示しない真空排気系に接続され、その上部には成膜物質であるターゲット73が配置されている。このターゲット73は、スパッタリング用の直流電源74に接続され、負バイアスを印加できるように構成されている。なお、直流電源74のプラス側はチャンバー72とともにアースされている。
薄膜が所定膜厚に形成されたところで、スパッタリングガスの導入とターゲット73への電圧印加を終了する。
従って、最終製品の歩留りが低下してしまうという問題を解消することが可能になる。
以下で、本発明の第2の実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。第2の実施形態も、第1の実施形態で説明した図9の真空処理装置71を用いて説明する。
例えば、上述の実施の形態においては、スパッタリング装置を例にとって説明したが、本発明はこれに限られず、静電チャック機構を具備する全ての装置に適用することができるものである。この場合においては、エッチング装置、CVD装置などの真空処理装置に適用するとより効果的である。
さらに、上述の実施の形態の場合は、電極と逆バイアス電圧印加用の電源との間に電流計を設けるようにしたが、本発明はこれに限られず、双極方式、単極方式ともに、逆バイアス電圧印加用の電源とグラウンドとの間に電流計を配設することもできる。
Claims (10)
- 誘電体と、該誘電体中に配置された電極を有する静電チャック上に被吸着物を載置し、前記電極に吸着電圧を印加して前記被吸着物を静電吸着し、前記吸着電圧の印加を解除した後、前記被吸着物を前記静電チャック上から離脱させる場合に、
前記離脱の前に、前記静電チャックと前記被吸着物に蓄積された電荷によって放電電流を流した後、前記離脱させる際に流れる電流値を測定し、
この電流の値に基づいて上記静電チャックに残留した電荷量とその極性を算出することを特徴とする静電チャックの残留電荷量測定方法。 - 誘電体と、該誘電体中に配置された電極を有する静電チャック上に被吸着物を載置し、前記電極に吸着電圧を印加して前記被吸着物を静電吸着する場合に、
前記被吸着物を載置する際に、前記電極に流れる電流値を測定し、
該電流値から、上記静電チャックに残留した電荷量とその極性を算出することを特徴とする静電チャックの残留電荷量測定方法。 - 誘電体と、該誘電体中に配置された電極を有する静電チャック上に被吸着物を載置し、前記電極に吸着電圧を印加して前記被吸着物を静電吸着し、前記吸着電圧の印加を解除した後、前記被吸着物を前記静電チャック上から離脱させる場合に、
前記離脱の前に、前記電極と前記被吸着物に蓄積された電荷によって放電電流を流した後、前記離脱させる際に流れる電流の状態を測定し、前記被吸着物の離脱状態を判断することを特徴とする移動状態判断方法。 - 誘電体と、該誘電体中に配置された電極を有する静電チャック上に被吸着物を配置し、前記電極に吸着電圧を印加して前記被吸着物を静電吸着し、前記吸着電圧を解除した後、前記電極に、前記吸着電圧とは逆極性の電圧を印加し、前記静電チャックと前記被吸着物との間の残留吸着力を低減させる残留吸着力低減方法であって、
前記残留吸着力を低減させた後、前記被吸着物を前記静電チャック上から離脱させる際に流れる電流の状態を測定し、測定結果に基づいて、前記逆電圧の印加状態を設定することを特徴とする残留吸着力低減方法。 - 誘電体と、該誘電体中に配置された電極を有する静電チャック上に被吸着物を載置し、前記電極に吸着電圧を印加して前記被吸着物を静電吸着し、前記吸着電圧を解除した後、前記電極に、前記吸着電圧とは逆極性の電圧を印加し、前記静電チャックと前記被吸着物との間の残留吸着力を低減させる残留吸着力低減方法であって、
前記被吸着物を前記静電チャック上に載置する際に流れる電流の状態を測定し、測定結果に基づいて、前記逆電圧の印加状態を設定することを特徴とする残留吸着力低減方法。 - 前記逆電圧の印加状態を設定する際、既に残留吸着力を低減させた被吸着物に印加した逆電圧を考慮することを特徴とする請求項4又は請求項5のいずれか1項記載の残留吸着力低減方法。
- 誘電体中に電極が配置された静電チャックを有し、該静電チャック上に被吸着物を載置し、真空雰囲気中で前記電極に吸着電圧を印加して前記被吸着物を静電吸着できるように構成された真空処理装置であって、
前記吸着電圧の印加を解除した後、前記被吸着物を前記静電チャック上から離脱させる場合に、前記離脱の前に、前記電極と前記被吸着物の間に蓄積された電荷によって放電電流を流した後、前記離脱させる際に流れる電流の状態を測定できるように構成されたことを特徴とする真空処理装置。 - 誘電体中に電極が配置された静電チャックを有し、該静電チャック上に被吸着物を載置し、真空雰囲気中で前記電極に吸着電圧を印加して前記被吸着物を静電吸着できるように構成された真空処理装置であって、
前記静電チャック上に前記被吸着物を載置する際に流れる電流を測定できるように構成されたことを特徴とする真空処理装置。 - 誘電体中に配置された電極を有する静電チャック上に一の被吸着物を載置し、前記電極に吸着電圧を印加して前記一の被吸着物を静電吸着して処理し、前記吸着電圧の印加を解除した後、前記一の被吸着物を前記静電チャック上から離脱させ、後続する他の被吸着物を静電吸着して処理する被吸着物の処理方法であって、
すでに残留電荷が前記静電チャックに滞留している場合は、
前記一の被吸着物を載置した際に前記電極に流れる電流(I5)を測定し、
この電流の値に基づいて上記静電チャックに残留した残留電荷の極性と電荷量を算出し、前記残留電荷を減少させる逆バイアス電圧の電圧値と印加時間を求め、
他の被吸着物を前記静電チャック上に配置し、静電吸着して処理した後、離脱させる前に、前記電極に、求めた電圧値と印加時間で前記逆バイアス電圧を印加し、前記残留電荷を低減させる被吸着物の処理方法。 - 前記吸着電圧を印加して前記被吸着物を前記静電チャック上に静電吸着して処理し、
前記吸着電圧の印加を解除して前記逆バイアス電圧を印加した後、前記被吸着物を離脱させる際に前記電極に流れる電流(I3)を測定し、その電流の値と極性に基づいて前期電極に印加する前記逆バイアス電圧の電圧値、または印加時間を修正する請求項9に記載の被吸着物の処理方法。
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