JP2007149948A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2007149948A5
JP2007149948A5 JP2005342082A JP2005342082A JP2007149948A5 JP 2007149948 A5 JP2007149948 A5 JP 2007149948A5 JP 2005342082 A JP2005342082 A JP 2005342082A JP 2005342082 A JP2005342082 A JP 2005342082A JP 2007149948 A5 JP2007149948 A5 JP 2007149948A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exhaust
chamber
vacuum processing
vacuum
processing apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005342082A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2007149948A (ja
JP4634918B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2005342082A priority Critical patent/JP4634918B2/ja
Priority claimed from JP2005342082A external-priority patent/JP4634918B2/ja
Priority to US11/563,588 priority patent/US20070119393A1/en
Publication of JP2007149948A publication Critical patent/JP2007149948A/ja
Publication of JP2007149948A5 publication Critical patent/JP2007149948A5/ja
Priority to US12/816,750 priority patent/US8623457B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4634918B2 publication Critical patent/JP4634918B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

JP2005342082A 2005-11-28 2005-11-28 真空処理装置 Expired - Lifetime JP4634918B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005342082A JP4634918B2 (ja) 2005-11-28 2005-11-28 真空処理装置
US11/563,588 US20070119393A1 (en) 2005-11-28 2006-11-27 Vacuum processing system
US12/816,750 US8623457B2 (en) 2005-11-28 2010-06-16 Vacuum processing system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005342082A JP4634918B2 (ja) 2005-11-28 2005-11-28 真空処理装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2007149948A JP2007149948A (ja) 2007-06-14
JP2007149948A5 true JP2007149948A5 (https=) 2008-12-04
JP4634918B2 JP4634918B2 (ja) 2011-02-16

Family

ID=38210989

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005342082A Expired - Lifetime JP4634918B2 (ja) 2005-11-28 2005-11-28 真空処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4634918B2 (https=)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130016359A (ko) * 2010-07-13 2013-02-14 에스피피 테크놀로지스 컴퍼니 리미티드 기판 처리 방법 및 기판 처리 시스템
JP5654807B2 (ja) * 2010-09-07 2015-01-14 東京エレクトロン株式会社 基板搬送方法及び記憶媒体
JP6045946B2 (ja) * 2012-07-13 2016-12-14 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置、プログラムおよび記録媒体
JP6957576B2 (ja) * 2015-05-15 2021-11-02 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated ロードロックチャンバ、ロードロックチャンバを有する真空処理システム及びロードロックチャンバを排気する方法
KR102625511B1 (ko) * 2016-10-05 2024-01-16 주성엔지니어링(주) 로드락챔버 및 로드락챔버의 이물질 배출방법
KR101895407B1 (ko) * 2016-10-31 2018-10-05 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 방법
DE102018107547A1 (de) * 2017-11-15 2019-05-16 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Vorrichtung zur behandlung von substraten oder waferen
CN109962002B (zh) * 2017-12-14 2024-05-03 长鑫存储技术有限公司 半导体干式蚀刻机台及其工艺流程
CN108418584B (zh) * 2018-06-01 2024-02-09 苏州大学 一种用于原子钟蒸汽泡键合封装装置
CN114256048B (zh) * 2020-09-25 2024-04-05 中微半导体设备(上海)股份有限公司 一种等离子体反应装置、方法及机械臂
CN112614799B (zh) * 2020-12-18 2022-12-20 上海广川科技有限公司 一种晶圆传输装置及传输方法
JP7771651B2 (ja) * 2021-11-12 2025-11-18 東京エレクトロン株式会社 基板搬送装置及び基板搬送方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06104178A (ja) * 1992-09-18 1994-04-15 Hitachi Ltd 真空処理方法及び真空処理装置
JP3173681B2 (ja) * 1993-01-18 2001-06-04 東京エレクトロン株式会社 真空排気装置及びその方法
JP3671983B2 (ja) * 1993-10-22 2005-07-13 東京エレクトロン株式会社 真空処理装置
JPH0729962A (ja) * 1993-07-14 1995-01-31 Tokyo Electron Ltd 真空排気方法及び装置
JP3486821B2 (ja) * 1994-01-21 2004-01-13 東京エレクトロン株式会社 処理装置及び処理装置内の被処理体の搬送方法
JPH08148539A (ja) * 1994-11-25 1996-06-07 Sharp Corp 半導体製造装置
JPH08195426A (ja) * 1995-01-18 1996-07-30 Hitachi Ltd 真空搬送用インターフェイス装置
JP3545569B2 (ja) * 1997-03-04 2004-07-21 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JPH11288992A (ja) * 1998-04-06 1999-10-19 Nissin Electric Co Ltd 被処理物体搬送チャンバ
JP2003224173A (ja) * 2002-01-29 2003-08-08 Komatsu Electronic Metals Co Ltd 半導体製造装置
JP3862263B2 (ja) * 2002-08-05 2006-12-27 東京エレクトロン株式会社 真空処理装置およびその運用方法
JP2005116854A (ja) * 2003-10-09 2005-04-28 Canon Inc ロードロックチャンバー、露光装置、デバイスの製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007149948A5 (https=)
JP4921741B2 (ja) ミニエンバイロメントポッドと装置との間の真空インタフェース
TWI720731B (zh) 具有基板載具及清洗腔室環境控制的基板處理系統、設備及方法
TW301763B (https=)
JP2015146347A5 (https=)
WO2009034869A1 (ja) 真空処理システムおよび基板搬送方法
JP2012138542A5 (https=)
JP2006216710A5 (https=)
KR102175416B1 (ko) 펌핑 시스템
JP2013197232A5 (ja) 基板処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム。
US7101155B2 (en) Vacuum pumping system and method of controlling the same
JP2014179431A5 (https=)
JP2015203391A (ja) 水封式真空ポンプを用いた減圧装置
JP2010089014A (ja) プラズマ洗浄装置
TW200632990A (en) Decompression dry device
JP2006261608A5 (https=)
JP2006075850A (ja) 真空装置及び真空引き方法
JP6743747B2 (ja) 半導体製造装置
JP2017022215A5 (https=)
JP6463846B2 (ja) インライン式コーティング設備を運転する方法およびインライン式コーティング設備
JP2006169576A (ja) 真空装置
CN101052265B (zh) 等离子体处理装置
JP2001351870A5 (https=)
JP7399560B2 (ja) 雰囲気置換装置及び熱処理システム
JP2004245209A (ja) ポンプ圧力制御装置