JP2007142532A - 静電容量型共振素子、静電容量型共振素子の製造方法および通信装置 - Google Patents
静電容量型共振素子、静電容量型共振素子の製造方法および通信装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】基板10上に空間31を介して両端が基板10上に支持された振動子21と、振動子21下に空間31の一部を介して基板10上に形成された第1電極41と、振動子21下に空間31の一部を介して基板10上に第1電極41と並設された第2電極51とを備えた静電容量型共振素子1であって、振動子21は2次モードの振動を有し、第1電極41および第2電極51は、振動子21の支持端間の中心を挟んで一方側に第1電極41が配置され、他方側に第2電極51が配置されるとともに、第1電極41および第2電極51が対向する各電極側面には振動子の支持端間の中心よりも各電極側に突起部42、43、52が形成されているものである。
【選択図】図1
Description
することを特徴とする。
Claims (8)
- 基板上に空間を介して両端が前記基板上に支持された振動子と、
前記振動子下に前記空間の一部を介して前記基板上に形成された第1電極と、
前記振動子下に前記空間の一部を介して前記基板上に前記第1電極と並設された第2電極と
を備えた静電容量型共振素子であって、
前記振動子は2次モードの振動で振動し、
前記第1電極および前記第2電極は、前記振動子の支持端間の中心を挟んで一方側に前記第1電極が配置され、他方側に前記第2電極が配置されるとともに、前記第1電極および前記第2電極の対向する側面にはそれぞれ突起部が形成されている
ことを特徴とする静電容量型共振素子。 - 前記第1電極および前記第2電極の突起状に形成されている部分は、前記振動子の支持端間の中心に向かうにしたがって細くなるように形成されている
ことを特徴とする請求項1記載の静電容量型共振素子。 - 前記突起部の数もしくは占有面積によって静電力を設定する
ことを特徴とする請求項1記載の静電容量型共振素子。 - 基板上に空間を介して両端が前記基板上に支持された振動子と、
前記振動子と空間を介して前記基板上に形成された電極と
を備えた静電容量型共振素子であって、
前記電極は前記振動子の支持端間の中心を含む領域に開口部が形成されている
ことを特徴とする静電容量型共振素子。 - 基板上に空間を介して両端が前記基板上に支持された振動子と、
前記振動子下に前記空間の一部を介して前記基板上に形成された第1電極と、
前記振動子下に前記空間の一部を介して前記基板上に前記第1電極と並設された第2電極と
を備えた静電容量型共振素子の製造方法であって、
前記第1電極および前記第2電極を形成する際に、
前記振動子の支持端間の中心を挟んで一方側に前記第1電極を形成し、他方側に前記第2電極を形成するとともに、前記第1電極および前記第2電極が対向する各電極側面にそれぞれ突起部を形成する
ことを特徴とする静電容量型共振素子の製造方法。 - 基板上に空間を介して両端が前記基板上に支持された振動子と、
前記振動子と空間を介して前記基板上に形成された電極と
を備えた静電容量型共振素子の製造方法であって、
前記電極を形成する際に、
前記電極における前記振動子の支持端間の中心を含む領域に開口部を形成する
ことを特徴とする静電容量型共振素子の製造方法。 - 基板上に空間を介して両端が前記基板上に支持された振動子と、
前記振動子下に前記空間の一部を介して前記基板上に形成された第1電極と、
前記振動子下に前記空間の一部を介して前記基板上に前記第1電極と並設された第2電極と
を備えた静電容量型共振素子を有するフィルタを搭載した通信装置において、
前記振動子は2次モードの振動で振動し、
前記第1電極および前記第2電極は、前記振動子の支持端間の中心を挟んで一方側に前記第1電極が配置され、他方側に前記第2電極が配置されるとともに、前記第1電極および前記第2電極が対向する各電極側面にはそれぞれ突起部が形成されている
ことを特徴とする通信装置。 - 基板上に空間を介して両端が前記基板上に支持された振動子と、
前記振動子下に前記空間の一部を介して前記基板上に形成された電極と
を備えた静電容量型共振素子を有するフィルタを搭載した通信装置において、
前記電極は前記振動子の支持端間の中心を含む領域に開口部が形成されている
ことを特徴とする通信装置。
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CN113552386A (zh) * | 2021-06-08 | 2021-10-26 | 南京理工大学 | 一种静电调谐分离式微机电加速度计及其闭环控制方法 |
CN116761372A (zh) * | 2023-08-14 | 2023-09-15 | 苏州瑞驱电动科技有限公司 | 基于碳化硅器件的高速电机控制器低寄生电感主拓扑结构 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5537051A (en) * | 1978-09-06 | 1980-03-14 | Seikosha Co Ltd | Piezoelectric oscillator |
JP2002314361A (ja) * | 2001-04-17 | 2002-10-25 | Tdk Corp | 圧電共振部品 |
JP2003344786A (ja) * | 2002-05-27 | 2003-12-03 | Matsushita Electric Works Ltd | 静電アクチュエータ |
JP2004127605A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | Toshiba Corp | マイクロスイッチ及びその製造方法 |
JP2005065138A (ja) * | 2003-08-20 | 2005-03-10 | Sony Corp | マイクロ電気機械システムの共振器およびその調整方法 |
JP2005244406A (ja) * | 2004-02-25 | 2005-09-08 | Sony Corp | マイクロ電気機械システムの共振器およびその製造方法および周波数フィルタ |
JP2005260398A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Sony Corp | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
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2005
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5537051A (en) * | 1978-09-06 | 1980-03-14 | Seikosha Co Ltd | Piezoelectric oscillator |
JP2002314361A (ja) * | 2001-04-17 | 2002-10-25 | Tdk Corp | 圧電共振部品 |
JP2003344786A (ja) * | 2002-05-27 | 2003-12-03 | Matsushita Electric Works Ltd | 静電アクチュエータ |
JP2004127605A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | Toshiba Corp | マイクロスイッチ及びその製造方法 |
JP2005065138A (ja) * | 2003-08-20 | 2005-03-10 | Sony Corp | マイクロ電気機械システムの共振器およびその調整方法 |
JP2005244406A (ja) * | 2004-02-25 | 2005-09-08 | Sony Corp | マイクロ電気機械システムの共振器およびその製造方法および周波数フィルタ |
JP2005260398A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Sony Corp | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113552386A (zh) * | 2021-06-08 | 2021-10-26 | 南京理工大学 | 一种静电调谐分离式微机电加速度计及其闭环控制方法 |
CN113552386B (zh) * | 2021-06-08 | 2023-04-07 | 南京理工大学 | 一种静电调谐分离式微机电加速度计及其闭环控制方法 |
CN116761372A (zh) * | 2023-08-14 | 2023-09-15 | 苏州瑞驱电动科技有限公司 | 基于碳化硅器件的高速电机控制器低寄生电感主拓扑结构 |
CN116761372B (zh) * | 2023-08-14 | 2023-10-27 | 苏州瑞驱电动科技有限公司 | 基于碳化硅器件的高速电机控制器低寄生电感主拓扑结构 |
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