JP2007137939A - 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルム、パネル部材の形成方法およびプラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
これに対して、前記フォトリソグラフィー法では、原理的にパターン精度に優れており、特に転写フィルムを用いる方法においては、膜厚の均一性および表面の均一性に優れたパターンを形成することができる。しかしながら、膜形成材料層が十分な可撓性を有していないために、膜形成材料層の表面に微小な亀裂が発生したり、転写フィルムが柔軟性に劣ったりするなどの問題があった。また、柚子肌と呼ばれる表面荒れが生じ、表面平滑性に優れたパネル部材が得られないという問題があった。
本発明の第1の目的は、表面平滑性に優れたPDPの構成要素(例えば誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス)を好適に形成することができる無機粉体含有樹脂組成物を提供することにある。
本発明の第3の目的は、無機粉体含有樹脂層の可撓性に優れた転写フィルムを製造することのできる無機粉体含有樹脂組成物を提供することにある。
本発明の第6の目的は、無機粉体含有樹脂層の可撓性に優れた転写フィルムを提供することにある。
本発明の第8の目的は、表面平滑性に優れたPDPの構成要素を効率的に形成することができるPDPの製造方法を提供することにある。
本発明の第10の目的は、膜厚の大きい誘電体層を効率的に形成することができるPDPの製造方法を提供することにある。
本発明の第12の目的は、膜厚の均一性に優れた誘電体層を有するPDPの製造方法を提供することにある。
本発明の転写フィルムは、〔A〕無機粉体、〔B〕結着樹脂、および〔C〕下記式(1)で示される化合物を含有することを特徴としている。
前記無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層を有することを特徴とする。
本発明のパネル部材の形成方法は、基板上に、前記転写フィルムが備える無機粉体含有樹脂層を転写する工程、および転写された無機粉体含有樹脂層を焼成する工程を含むことを特徴としている。
基板上に、前記転写フィルムが備える、レジスト膜と前記無機粉体含有樹脂層とからなる積層膜を、該無機粉体含有樹脂層が基板に当接するように転写する工程、
該レジスト膜を露光処理してレジストパターンの潜像を形成する工程、
該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させる工程、
該無機粉体含有樹脂層をエッチング処理して、該レジストパターンに対応する無機粉体含有樹脂パターンを形成する工程、および
該樹脂パターンを焼成処理する工程
をこの順序で含んでいてもよい。
(1)表面平滑性に優れたPDPの構成要素(例えば誘電体層・隔壁・電極・抵抗体・蛍光体・カラーフィルター・ブラックマトリックス)を好適に形成することができる。
(2)高い光透過率を有するガラス焼結体(例えば、PDPを構成する誘電体層・隔壁)を好適に形成することができる。
(3)無機粉体含有樹脂層の可撓性に優れた転写フィルムを製造することができる。
(4)無機粉体含有樹脂層の転写性(基板に対する加熱接着性)に優れた転写フィルムを製造することができる。
(1)表面平滑性に優れたPDPの構成要素(特に誘電体層)を効率的に形成することができる。
(2)無機粉体含有樹脂層の可撓性に優れ、当該無機粉体含有樹脂層の表面に屈曲亀裂(ひび割れ)が生じることはない。
(3)柔軟性に優れ、ロール状に巻き取る操作を容易に行うことができる。
(4)無機粉体含有樹脂層が好適な粘着性を示し、取扱性(ハンドリング性)も良好である。
(5)無機粉体含有樹脂層の転写性(基板に対する加熱接着性)に優れている。
(1)表面平滑性に優れたPDPの構成要素(例えば誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス)を効率的に形成することができる。
(2)構成要素の位置精度の高いPDPを効率的に形成することができる。
(4)膜厚の大きい誘電体層を効率的に形成することができる。
(5)大型のパネルに要求される誘電体層を効率的に形成することができる。
(6)膜厚の均一性および表面の平滑性に優れた誘電体層を備えたPDPを効率的に製造することができる。
本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、無機粉体(A)、結着樹脂(B)、および特定の構造式で示される化合物(C)を必須成分として含有する。
本発明の組成物を構成する無機粉体を構成する無機物質は、特に限定されず、当該組成物により形成される焼結体の用途(PDPの構成要素の種類)に応じて適宜選択することができる。
B2O3−SiO2系)の混合物、(3)酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニ
ウム(PbO−B2O3−SiO2−Al2O3系)の混合物、(4)酸化鉛、酸化亜鉛、酸
化ホウ素、酸化ケイ素(PbO−ZnO−B2O3−SiO2系)の混合物などを例示する
ことができる。
PDPを構成する「蛍光体」を形成するための組成物に含有される無機粉体としては、Y2O3:Eu3+、Y2SiO5:Eu3+、Y3Al5O12:Eu3+、YVO4:Eu3+、(Y
,Gd)BO3:Eu3+、Zn3(PO4)2:Mnなどの赤色用蛍光物質;Zn2SiO4:Mn、BaAl12O19:Mn、BaMgAl14O23:Mn、LaPO4:(Ce,Tb)
、Y3(Al,Ga)5O12:Tbなどの緑色用蛍光物質;Y2SiO5:Ce、BaMgAl10O17:Eu2+、BaMgAl14O23:Eu2+、(Ca,Sr,Ba)10(PO4)6Cl2:Eu2+、(Zn,Cd)S:Agなどの青色用蛍光物質などからなる粒子を挙げる
ことができる。
。
PDPを構成する「ブラックマトリックス」を形成するための組成物に含有される無機粉体としては、Mn、Fe、Crなどからなる粒子を挙げることができる。
本発明の組成物を構成する結着樹脂としては、アクリル樹脂が好ましい。
上記式(2)で表される(メタ)アクリレート化合物の具体例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレートなどのアルキル(メタ)アクリレート;
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート;
フェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレートなどのフェノキシアルキル(メタ)アクリレート;
2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、2−プロポキシエチル(メタ)アクリレート、2−ブトキシエチル(メタ)アクリレート、2−メトキシブチル(メタ)アクリレートなどのアルコキシアルキル(メタ)アクリレート;
ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレートなどのポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート;
シクロヘキシル(メタ)アクリレート、4−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエニル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレートなどのシクロアルキル(メタ)アクリレート;
ベンジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレートなどを挙げることができる。
ここに、好ましいアクリル樹脂の具体例としては、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、メチルメタクリレート−ブチルメタクリレート共重合体などを例示することができる。
下記式(1)で示される化合物(C)は、可塑剤(以下、「特定可塑剤(C)」ともいう。)として用いられる。
この特定可塑剤(C)を含有する本発明の組成物によれば、形成される無機粉体含有樹脂層の柚子肌発生を防止し、優れた表面平滑性を発現させることができる。また、この無
機粉体含有樹脂層を備える転写フィルムを折り曲げても、該無機粉体含有樹脂層の表面に微小な亀裂(ひび割れ)が発生するようなことはなく、また、該転写フィルムは柔軟性に優れ、これをロール状に容易に巻き取ることもできる。
的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基(ラウリル基)、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基(ステアリル基)、n−ノナデシル基などが挙げられる。この中でも特に、n−ヘキシル基が好ましい。
には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基が好ましく、特にエチル基が好ましい。
=R7=R8=水素原子 である化合物として、
ポリプロピレングリコール−1メチルプロピオネート(R1=R2=メチル基、R3=水素原子)、ポリプロピレングリコール−1メチルヘキシレート(R1=メチル基、R2=ブチ
ル基、R3=水素原子)、ポリプロピレングリコール−1エチルプロピオネート(R1=メ
チル基、R2=エチル基、R3=水素原子)、ポリプロピレングリコール−1エチルブチレ
ート(R1=R2=エチル基、R3=水素原子)、ポリプロピレングリコール−1エチルヘキシレート(R1=エチル基、R2=ブチル基、R3=水素原子);
A=−COO−、R4=R5=R6=R7=R8=水素原子 である化合物として、
ポリエチレングリコール−1メチルプロピオネート(R1=R2=メチル基、R3=水素原子)、ポリエチレングリコール−1メチルヘキシレート(R1=メチル基、R2=ブチル基、R3=水素原子)、ポリエチレングリコール−1エチルプロピオネート(R1=メチル基、R2=エチル基、R3=水素原子)、ポリエチレングリコール−1エチルブチレート(R1=R2=エチル基、R3=水素原子)、ポリエチレングリコール−1エチルヘキシレート(
R1=エチル基、R2=ブチル基、R3=水素原子)
などを例示することができ、これらは単独でもしくは2種類以上を組み合わせて使用することができる。
本発明の組成物には、通常、溶剤が含有される。この溶剤としては、無機粉体との親和性、結着樹脂の溶解性が良好で、得られる組成物に適度な粘性を付与することができ、通常の乾燥操作により容易に蒸発除去できるものが好ましい。
上記式(3)において、飽和アルキル基の炭素数を示すpは3〜20の整数とされ、好ましくは4〜16の整数とされる。
サデシルジメチルメトキシシラン、n−エイコシルジメチルメトキシシランなどの飽和アルキルジメチルメトキシシラン類(a=1,m=1,n=1);
n−プロピルジエチルメトキシシラン、n−ブチルジエチルメトキシシラン、n−デシルジエチルメトキシシラン、n−ヘキサデシルジエチルメトキシシラン、n−エイコシルジエチルメトキシシランなどの飽和アルキルジエチルメトキシシラン類(a=1,m=1,n=2);
n−ブチルジプロピルメトキシシラン、n−デシルジプロピルメトキシシラン、n−ヘキサデシルジプロピルメトキシシラン、n−エイコシルジプロピルメトキシシランなどの飽和アルキルジプロピルメトキシシラン類(a=1,m=1,n=3);
n−プロピルジメチルエトキシシラン、n−ブチルジメチルエトキシシラン、n−デシルジメチルエトキシシラン、n−ヘキサデシルジメチルエトキシシラン、n−エイコシルジメチルエトキシシランなどの飽和アルキルジメチルエトキシシラン類(a=1,m=2,n=1);
n−プロピルジエチルエトキシシラン、n−ブチルジエチルエトキシシラン、n−デシルジエチルエトキシシラン、n−ヘキサデシルジエチルエトキシシラン、n−エイコシルジエチルエトキシシランなどの飽和アルキルジエチルエトキシシラン類(a=1,m=2,n=2);
n−ブチルジプロピルエトキシシラン、n−デシルジプロピルエトキシシラン、n−ヘキサデシルジプロピルエトキシシラン、n−エイコシルジプロピルエトキシシランなどの飽和アルキルジプロピルエトキシシラン類(a=1,m=2,n=3);
n−プロピルジメチルプロポキシシラン、n−ブチルジメチルプロポキシシラン、n−デシルジメチルプロポキシシラン、n−ヘキサデシルジメチルプロポキシシラン、n−エイコシルジメチルプロポキシシランなどの飽和アルキルジメチルプロポキシシラン類(a=1,m=3,n=1);
n−プロピルジエチルプロポキシシラン、n−ブチルジエチルプロポキシシラン、n−デシルジエチルプロポキシシラン、n−ヘキサデシルジエチルプロポキシシラン、n−エイコシルジエチルプロポキシシランなどの飽和アルキルジエチルプロポキシシラン類(a=1,m=3,n=2);
n−ブチルジプロピルプロポキシシラン、n−デシルジプロピルプロポキシシラン、n−ヘキサデシルジプロピルプロポキシシラン、n−エイコシルジプロピルプロポキシシランなどの飽和アルキルジプロピルプロポキシシラン類(a=1,m=3,n=3);
n−プロピルメチルジメトキシシラン、n−ブチルメチルジメトキシシラン、n−デシルメチルジメトキシシラン、n−ヘキサデシルメチルジメトキシシラン、n−エイコシルメチルジメトキシシランなどの飽和アルキルメチルジメトキシシラン類(a=2,m=1,n=1);
n−プロピルエチルジメトキシシラン、n−ブチルエチルジメトキシシラン、n−デシルエチルジメトキシシラン、n−ヘキサデシルエチルジメトキシシラン、n−エイコシルエチルジメトキシシランなどの飽和アルキルエチルジメトキシシラン類(a=2,m=1,n=2);
n−ブチルプロピルジメトキシシラン、n−デシルプロピルジメトキシシラン、n−ヘキサデシルプロピルジメトキシシラン、n−エイコシルプロピルジメトキシシランなどの飽和アルキルプロピルジメトキシシラン類(a=2,m=1,n=3)
n−プロピルメチルジエトキシシラン、n−ブチルメチルジエトキシシラン、n−デシルメチルジエトキシシラン、n−ヘキサデシルメチルジエトキシシラン、n−エイコシルメチルジエトキシシランなどの飽和アルキルメチルジエトキシシラン類(a=2,m=2,n=1);
n−プロピルエチルジエトキシシラン、n−ブチルエチルジエトキシシラン、n−デシルエチルジエトキシシラン、n−ヘキサデシルエチルジエトキシシラン、n−エイコシルエチルジエトキシシランなどの飽和アルキルエチルジエトキシシラン類(a=2,m=2,n=2);
n−ブチルプロピルジエトキシシラン、n−デシルプロピルジエトキシシラン、n−ヘキサデシルプロピルジエトキシシラン、n−エイコシルプロピルジエトキシシランなどの飽和アルキルプロピルジエトキシシラン類(a=2,m=2,n=3);
n−プロピルメチルジプロポキシシラン、n−ブチルメチルジプロポキシシラン、n−デシルメチルジプロポキシシラン、n−ヘキサデシルメチルジプロポキシシラン、n−エイコシルメチルジプロポキシシランなどの飽和アルキルメチルジプロポキシシラン類 (a=2,m=3,n=1);
n−プロピルエチルジプロポキシシラン、n−ブチルエチルジプロポキシシラン、n−デシルエチルジプロポキシシラン、n−ヘキサデシルエチルジプロポキシシラン、n−エイコシルエチルジプロポキシシランなどの飽和アルキルエチルジプロポキシシラン類(a=2,m=3,n=2);
n−ブチルプロピルジプロポキシシラン、n−デシルプロピルジプロポキシシラン、n−ヘキサデシルプロピルジプロポキシシラン、n−エイコシルプロピルジプロポキシシランなどの飽和アルキルプロピルジプロポキシシラン類(a=2,m=3,n=3);
n−プロピルトリメトキシシラン、n−ブチルトリメトキシシラン、n−デシルトリメトキシシラン、n−ヘキサデシルトリメトキシシラン、n−エイコシルトリメトキシシランなどの飽和アルキルトリメトキシシラン類(a=3,m=1);
n−プロピルトリエトキシシラン、n−ブチルトリエトキシシラン、n−デシルトリエトキシシラン、n−ヘキサデシルトリエトキシシラン、n−エイコシルトリエトキシシランなどの飽和アルキルトリエトキシシラン類(a=3,m=2);
n−プロピルトリプロポキシシラン、n−ブチルトリプロポキシシラン、n−デシルトリプロポキシシラン、n−ヘキサデシルトリプロポキシシラン、n−エイコシルトリプロポキシシランなどの飽和アルキルトリプロポキシシラン類(a=3,m=3)
などを挙げることができ、これらは、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
また、本発明の組成物は、従来において公知の無機粉体含有樹脂層の形成方法、すなわち、スクリーン印刷法などによって当該組成物を基板の表面に直接塗布し、塗膜を乾燥することにより無機粉体含有樹脂層を形成する方法にも好適に使用することができる。
本発明の転写フィルムは、PDPの構成要素の形成工程、特に誘電体層の形成工程に好適に使用される複合フィルムであって、本発明の組成物を支持フィルム上に塗布し、塗膜を乾燥することにより形成される無機粉体含有樹脂層を備えてなる。すなわち、本発明の転写フィルムは、無機粉体(A)、結着樹脂(B)および特定可塑剤(C)を含有する無機粉体含有樹脂層が支持フィルム上に形成されて構成されている。
また、本発明の転写フィルムは、後述するレジスト膜を支持フィルム上に形成し、その上に本発明の組成物を塗布し、乾燥してなるもの(積層膜)であってもよい。
図2(イ)は、ロール状に巻回された本発明の転写フィルムを示す概略断面図であり、同図(ロ)は、当該転写フィルムの層構成を示す断面図〔(イ)の部分詳細図〕である。
等のパネル部材の膜厚が過小なものとなり、誘電特性などの所期の特性を確保することができないことがある。通常、この厚さが10〜100μmであれば、大型のパネルに要求される誘電体層等のパネル部材の膜厚を十分に確保することができる。
本発明の転写フィルムは、支持フィルムF1上に無機粉体含有樹脂層F2を形成し、当該無機粉体含有樹脂層F2上にカバーフィルムF3を設ける(圧着する)ことにより製造することができる。
支持フィルム上の無機粉体含有樹脂層は、基板の表面に一括転写される。本発明の転写フィルムによれば、このような簡単な操作によって無機粉体含有樹脂層をガラス基板上に確実に形成することができるので、誘電体層などのPDPの構成要素の形成工程における工程改善(高効率化)を図ることができるとともに、形成される構成要素の品質の向上(例えば、誘電体層における安定した誘電特性の発現)を図ることができる。
本発明のPDP(プラズマディスプレイパネル)の製造方法は、以下に詳述するような
パネル部材(構成要素)の形成方法によりパネル部材を形成する工程を含んでいる。
(1)ロール状に巻回された状態の転写フィルムを基板の面積に応じた大きさに裁断する。
(2)裁断した転写フィルムにおける無機粉体含有樹脂層(F2)の表面からカバーフィルム(F3)を剥離した後、基板の表面に、無機粉体含有樹脂層(F2)の表面が当接するように転写フィルムを重ね合わせる。
(3)基板に重ね合わされた転写フィルム上で加熱ローラを移動させて、基板に無機粉体含有樹脂層(F2)を熱圧着させる。
(4)熱圧着により基板に固定された無機粉体含有樹脂層(F2)から支持フィルム(F1)を剥離除去する。
0m/分である。このような操作(転写工程)は、ラミネータ装置により行うことができる。なお、基板は予熱されていてもよく、予熱温度は、例えば40〜100℃とすることができる。
本発明のPDPのパネル部材の形成方法は、本発明の転写フィルムを構成する無機粉体含有樹脂層を基板上に転写し、転写された無機粉体含有樹脂層上にレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処理してレジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、当該無機粉体含有樹脂層をエッチング処理してレジストパターンに対応するパターン層を形成し、当該パターン層を焼成処理することにより、隔壁、電極、抵抗体、誘電体層、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれるパネル部材(構成要素)を形成する工程を含んでいてもよい。
構成要素を形成する工程を含んでいてもよい。
無機粉体含有樹脂層の転写工程の一例を示せば以下のとおりである。
転写フィルムのカバーフィルムを剥離した後、誘電体層の表面に、無機粉体含有樹脂層の表面が当接されるように転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着した後、無機粉体含有樹脂層から支持フィルムを剥離除去する。これにより、誘電体層の表面に無機粉体含有樹脂層が転写されて密着した状態となる。ここで、転写条件は、例えば、加熱ローラの表面温度が80〜140℃、加熱ローラによるロール圧が1〜5kgf/cm2、加熱ローラの移動速度が0.1〜10.0m/分である。また
、ガラス基板は予熱されていてもよく、予熱温度は、例えば40〜100℃とすることができる。
この工程においては、転写された無機粉体含有樹脂層の表面にレジスト膜を形成する。このレジスト膜を構成するレジストとしては、ポジ型レジストおよびネガ型レジストのいずれであってもよい。
レジスト膜の膜厚は、通常0.1〜40μmであり、好ましくは0.5〜20μmである。
この工程においては、無機粉体含有樹脂層上に形成されたレジスト膜の表面に、露光用マスクを介して、紫外線などの放射線を選択的に照射(露光)して、レジストパターンの潜像を形成する。
この工程においては、露光されたレジスト膜を現像処理することにより、レジストパターン(潜像)を顕在化させる。
このレジストパターンは、次工程(エッチング工程)におけるエッチングマスクとして作用するものであり、レジスト残留部の構成材料(光硬化されたレジスト)は、無機粉体含有樹脂層の構成材料よりもエッチング液に対する溶解速度が小さいことが必要である。
この工程においては、無機粉体含有樹脂層をエッチング処理し、レジストパターンに対応する隔壁パターン層を形成する。
この工程においては、隔壁パターン層を焼成処理して隔壁を形成する。これにより、無機粉体含有樹脂層残留部中の有機物質が焼失して隔壁が形成され、誘電体層の表面に隔壁が形成されてなるパネル材料を得ることができる。そして、このパネル材料において、隔壁により区画される空間(無機粉体含有樹脂層除去部に由来する空間)はプラズマ作用空間となる。
本発明のPDPのパネル部材(構成要素)の形成方法は、上述した方法に限定されるも
のではない。
(1)支持フィルム上にレジスト膜を形成した後、当該レジスト膜上に本発明の無機粉体含有樹脂組成物を塗布、乾燥することにより無機粉体含有樹脂層を積層形成する。レジスト膜および無機粉体含有樹脂層を形成する際には、ロールコータなどを使用することができ、これにより、膜厚の均一性に優れた積層膜を支持フィルム上に形成することができる。
以上において、PDPの構成要素として「隔壁」を形成する方法について説明したが、この方法に準じて、PDPを構成する電極、抵抗体、誘電体層、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスなどを形成することもできる。
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、以下において「部」は「質量部」を示す。
ガラス粉末(無機粉体)として、酸化鉛70質量%、酸化ホウ素10質量%、酸化ケイ素20質量%の組成を有するPbO−B2O3−SiO2系の混合物(軟化点500℃)1
00部、結着樹脂としてブチルメタクリレート/2−エチルヘキシルメタクリレート/ヒドロキシプロピルメタクリレート共重合体(重量比30/60/10、重量平均分子量:100,000)17部、特定可塑剤(C)としてポリプロピレングリコール−1エチルヘキシレート(商品名 ポリサイザーAS-300(大日本インキ化学工業(株)製))
4部、アルキルシリル基含有化合物としてn−デシルトリメトキシシラン0.5部、溶剤
としてプロピレングリコールモノメチルエーテル34.3部を分散機を用いて混練することにより、粘度が3000cpである本発明の組成物を調製した。
上記(1)で調製した本発明の組成物を、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート(PET)よりなる支持フィルム(幅400mm,長さ30m,厚さ38μm)上にブレードコーターを用いて塗布し、形成された塗膜を100℃で5分間乾燥することにより溶剤を除去し、これにより、厚さ50μmの無機粉体含有樹脂層を支持フィルム上に形成した。次いで、当該無機粉体含有樹脂層上に、予め離型処理したPETよりなるカバーフィルム(幅400mm,長さ30m,厚さ25μm)を貼り付けることにより、図2に示したような構成を有する本発明の転写フィルムを製造した。
上記(2)により得られた転写フィルムからカバーフィルムを剥離した後、20インチパネル用のガラス基板の表面(バス電極の固定面)に、無機粉体含有樹脂層の表面が当接されるように、当該転写フィルム(支持フィルムと無機粉体含有樹脂層との積層体)を重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ロールにより熱圧着した。ここで、圧着条件としては、加熱ロールの表面温度を110℃、ロール圧を3kgf/cm2、加熱ロールの移動速
度を1m/分とした。
この転写工程において、支持フィルムを剥離するときに、無機粉体含有樹脂層が凝集破壊を起こすようなことはなく、当該無機粉体含有樹脂層は十分大きな膜強度を有するものであった。さらに、転写された無機粉体含有樹脂層は、ガラス基板の表面に対して良好な接着性を有するものであった。
上記(3)により無機粉体含有樹脂層を転写形成したガラス基板を焼成炉内に配置し、炉内の温度を、常温から10℃/分の昇温速度で590℃まで昇温させ、590℃の温度雰囲気下30分間にわたって焼成処理することにより、ガラス基板の表面に、ガラス焼結体よりなる無色透明の誘電体層を形成した。
また、得られた誘電体層の表面について、非接触膜厚計(菱光社製、NH-3)を用いて3次元測定を実施し、JIS規格(B 0601)に準じて表面粗さ(Ra、Ry、Rz)を求めたところ、Ra=0.12μm、Ry=0.67μm、Rz=0.43μmであり、表面平滑性に優れていた。
また、得られた誘電体層の表面について、実施例1と同様にして表面粗さ(Ra、Ry、Rz)を求めたところ、Ra=0.13μm、Ry=0.72μm、Rz=0.46μmであり、表面平滑性に優れていた。
2 ガラス基板
3 隔壁
4 透明電極
5 バス電極
6 アドレス電極
7 蛍光物質
8 誘電体層
9 誘電体層
10 保護層
F1 支持フィルム
F2 無機粉体含有樹脂層
F3 カバーフィルム
Claims (6)
- 支持フィルム上に、レジスト膜と前記無機粉体含有樹脂層とからなる積層膜を備えることを特徴とする請求項2記載の転写フィルム。
- 基板上に、請求項2に記載の転写フィルムが備える無機粉体含有樹脂層を転写する工程、および転写された無機粉体含有樹脂層を焼成する工程を含むことを特徴とするパネル部材の形成方法。
- 基板上に、請求項3に記載の転写フィルムが備える、レジスト膜と前記無機粉体含有樹脂層とからなる積層膜を、該無機粉体含有樹脂層が基板に当接するように転写する工程、
該レジスト膜を露光処理してレジストパターンの潜像を形成する工程、
該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させる工程、
該無機粉体含有樹脂層をエッチング処理して、該レジストパターンに対応する無機粉体含有樹脂パターンを形成する工程、および
該樹脂パターンを焼成処理する工程
をこの順序で含むことを特徴とするパネル部材の形成方法。 - 請求項4または5に記載のパネル部材の形成方法によりパネル部材を形成する工程を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
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