JP2007127625A - 位置測定ユニット、測定システム、および該位置測定ユニットを備えたリソグラフィ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1および第2次元の位置を測定する測定ユニットは、回折型エンコーダおよび干渉計を含む。回折型エンコーダは、第1および第2回折格子(G1、G2)上の回折によって、第1格子(G1)に対する第2格子(G2)の第1次元の位置を測定する。干渉計は、ミラー(MI)の第2次元の位置を測定する。測定ユニットは、エンコーダ測定ビーム(EMB)ならびに干渉計測定ビーム(IMB)を転送する複合光学ユニット(COU)を含む。さらに、測定ユニットは、エンコーダならびに干渉計用の複合光源を含むことができる。第1および第2回折格子(G1、G2)の1つは、干渉計のミラー(MI)を設けるためにある程度の0次反射をさらに示してもよい。
【選択図】図2a
Description
1. ステップモードにおいては、マスクテーブルMTすなわち「マスク支持体」、および基板テーブルWTすなわち「基板支持体」を基本的に静止状態に保ちつつ、放射線ビームに付与されたパターン全体を一度に(すなわち、一回の静止露光)ターゲット部分C上に投影する。基板テーブルWTすなわち「基板支持体」は、つぎにXおよび/またはY方向に移動され、それによって別のターゲット部分Cが露光されることが可能になる。ステップモードにおいては、露光フィールドの最大サイズよって、一回の静止露光時に投影されるターゲット部分Cのサイズが限定される。
Claims (19)
- 第1および第2次元内の位置を測定する測定ユニットであって、
第1および第2回折格子上のエンコーダ測定ビームの回折によって、第1格子に対する第2格子の第1次元内の位置を測定する回折型エンコーダと、
基準経路および測定経路のそれぞれを進む干渉計測定ビームの間の干渉によって、測定経路内のミラーの第2次元内の位置を測定する干渉計と、
エンコーダ測定ビームならびに干渉計測定ビームを転送する複合光学ユニットと、
を備える測定ユニット。 - 光学ユニットは、エンコーダのプリズムおよび干渉計の偏光ビームスプリッタを備える、請求項1記載の測定ユニット。
- プリズムは、第1および第2格子によって形成された平面に対して実質的に45度の角度をなす表面を有し、当該表面は干渉計測定ビームを偏光ビームスプリッタへ転送する、請求項2記載の測定ユニット。
- プリズムの表面は、干渉計の偏光ビームスプリッタ表面に対して実質的に平行である、請求項3記載の測定ユニット。
- 干渉計は、ホモダイン干渉計であり、測定ユニットは、エンコーダならびに干渉計用の複合光源を備える、請求項1記載の測定ユニット。
- 光源から入射ビームを受けるべく配置された入射ビームスプリッタを備え、当該入射ビームスプリッタは、入射ビームをエンコーダ測定ビームと干渉計測定ビームとに分割する、請求項5記載の測定ユニット。
- 入射ビームスプリッタは、エンコーダのプリズムの表面上に配置され、第1および第2格子によって形成された平面に対して実質的に45度の角度をなしている、請求項6記載の測定ユニット。
- 入射ビームスプリッタは、無偏光ビームスプリッタである、請求項6記載の測定ユニット。
- 第1および第2回折格子の1つは、干渉計のミラーを提供するために0次反射を有する、請求項1記載の測定ユニット。
- エンコーダ測定ビームを検出するエンコーダ検出器、および干渉計測定ビームを検出する干渉計検出器を有する単一検出器ユニットを備える、請求項1記載の測定ユニット。
- 複合光学ユニットと干渉計検出器との間の干渉計ビームの光路内に配置された格子プレートを備える、請求項10記載の測定ユニット。
- 単一検出器ユニットは、単一プリント回路基板を備える、請求項11記載の測定ユニット。
- 干渉計のコーナキューブは、第1次元に対して実質的に垂直な方向に干渉計測定ビームを偏向させるべく構成されている、請求項1記載の測定ユニット。
- 干渉計のコーナキューブは、第1次元に対して実質的に平行な方向に干渉計測定ビームを偏向させるべく構成されている、請求項1記載の測定ユニット。
- 6自由度で目標物の位置を測定する測定システムであって、3つの請求項1記載の測定ユニットを備える、測定システム。
- 3つの測定ユニットは、表面に沿って配置されおり、3つのユニットの干渉計のそれぞれは、当該表面に対して実質的に垂直な次元内でそれぞれのユニットの位置を測定し、エンコーダのそれぞれは、当該表面に対して実質的に平行な次元内の位置を測定する、請求項15記載の測定システム。
- 3つの測定ユニットは、共通の第2回折格子を備え、格子は、干渉計のミラーを設けるために0次反射を有する、請求項16記載の測定システム。
- 請求項1記載の測定ユニットを備えたリソグラフィ装置であって、測定ユニットは、基板テーブルの位置を測定するために基板テーブルに接続されている、リソグラフィ装置。
- 請求項1記載の測定ユニットを備えたリソグラフィ装置であって、測定ユニットは、マスクテーブルの位置を測定するためにマスクテーブルに接続されている、リソグラフィ装置。
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010078566A (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-08 | Canon Inc | 変位計測装置 |
JP2010541231A (ja) * | 2007-09-28 | 2010-12-24 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学装置の位置測定装置の較正 |
WO2014006935A1 (ja) * | 2012-07-06 | 2014-01-09 | 株式会社ニコン | 位置計測装置、ステージ装置、露光装置、およびデバイス製造方法 |
CN104567695A (zh) * | 2015-01-09 | 2015-04-29 | 哈尔滨工业大学 | 一种使用双频激光和衍射光栅的三维位移测量装置 |
CN104596424A (zh) * | 2015-01-09 | 2015-05-06 | 哈尔滨工业大学 | 一种使用双频激光和衍射光栅的二维位移测量装置 |
JP2016014881A (ja) * | 2007-07-18 | 2016-01-28 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP2018521319A (ja) * | 2015-06-30 | 2018-08-02 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 位置測定システム及びリソグラフィ装置 |
CN109959350A (zh) * | 2017-12-25 | 2019-07-02 | 长光华大基因测序设备(长春)有限公司 | 棱镜直角工作面垂直度的检测方法及装置 |
KR20200019147A (ko) * | 2018-01-16 | 2020-02-21 | 일루미나, 인코포레이티드 | 멀티-암 구조화 조명 이미징 |
KR20200055798A (ko) * | 2017-10-10 | 2020-05-21 | 케이엘에이 코포레이션 | 나노 구조의 비편광 빔 스플리터 |
Families Citing this family (58)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ES2308726T3 (es) * | 2005-02-16 | 2008-12-01 | Basf Se | 5-alcoxiaquil-6-alquil-7-amino-azolopirimidinas, procedimiento para su obtencion y su empleo para la lucha contra hongos dañinos asi como agentes que las contienen. |
US7826063B2 (en) * | 2005-04-29 | 2010-11-02 | Zygo Corporation | Compensation of effects of atmospheric perturbations in optical metrology |
US7433052B2 (en) * | 2005-07-07 | 2008-10-07 | Mitutoyo Corporation | Systems and methods for tilt and range measurement |
US7440113B2 (en) * | 2005-12-23 | 2008-10-21 | Agilent Technologies, Inc. | Littrow interferometer |
US8411271B2 (en) * | 2005-12-28 | 2013-04-02 | Nikon Corporation | Pattern forming method, pattern forming apparatus, and device manufacturing method |
US7603161B2 (en) * | 2005-12-30 | 2009-10-13 | Medtronic, Inc. | Position detection in a magnetic field |
TWI538012B (zh) | 2006-01-19 | 2016-06-11 | 尼康股份有限公司 | 移動體驅動方法及移動體驅動系統、圖案形成方法及圖案形成裝置、曝光方法及曝光裝置、以及元件製造方法 |
EP3279739A1 (en) | 2006-02-21 | 2018-02-07 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
JP5115859B2 (ja) | 2006-02-21 | 2013-01-09 | 株式会社ニコン | パターン形成装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
EP2003679B1 (en) | 2006-02-21 | 2016-11-16 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method |
US7511826B2 (en) * | 2006-02-27 | 2009-03-31 | Asml Holding N.V. | Symmetrical illumination forming system and method |
CN104460241B (zh) * | 2006-08-31 | 2017-04-05 | 株式会社尼康 | 移动体驱动系统及方法、图案形成装置及方法、曝光装置及方法、组件制造方法 |
EP2071612B1 (en) | 2006-08-31 | 2017-10-04 | Nikon Corporation | Mobile body drive method and mobile body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method |
KR101711323B1 (ko) | 2006-08-31 | 2017-02-28 | 가부시키가이샤 니콘 | 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 |
KR101529851B1 (ko) | 2006-09-01 | 2015-06-17 | 가부시키가이샤 니콘 | 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 |
TWI434326B (zh) | 2006-09-01 | 2014-04-11 | 尼康股份有限公司 | Mobile body driving method and moving body driving system, pattern forming method and apparatus, exposure method and apparatus, component manufacturing method, and correcting method |
WO2008038752A1 (fr) * | 2006-09-29 | 2008-04-03 | Nikon Corporation | système à unité MOBILE, DISPOSITIF DE FORMATION DE MOTIF, DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF |
US7619207B2 (en) * | 2006-11-08 | 2009-11-17 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7812964B2 (en) * | 2006-11-15 | 2010-10-12 | Zygo Corporation | Distance measuring interferometer and encoder metrology systems for use in lithography tools |
WO2008073454A2 (en) * | 2006-12-11 | 2008-06-19 | Zygo Corporation | Multiple-degree of freedom interferometer with compensation for gas effects |
US7894075B2 (en) * | 2006-12-11 | 2011-02-22 | Zygo Corporation | Multiple-degree of freedom interferometer with compensation for gas effects |
US8237919B2 (en) * | 2007-08-24 | 2012-08-07 | Nikon Corporation | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method for continuous position measurement of movable body before and after switching between sensor heads |
NL1036096A1 (nl) * | 2007-11-06 | 2009-05-07 | Asml Netherlands Bv | Lithographic method. |
KR20100091885A (ko) * | 2007-12-11 | 2010-08-19 | 가부시키가이샤 니콘 | 이동체 장치, 노광 장치 및 패턴 형성 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 |
WO2009098891A1 (ja) * | 2008-02-08 | 2009-08-13 | Nikon Corporation | 位置計測システム及び位置計測方法、移動体装置、移動体駆動方法、露光装置及び露光方法、パターン形成装置、並びにデバイス製造方法 |
US8786829B2 (en) * | 2008-05-13 | 2014-07-22 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
US8228482B2 (en) * | 2008-05-13 | 2012-07-24 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
US8817236B2 (en) * | 2008-05-13 | 2014-08-26 | Nikon Corporation | Movable body system, movable body drive method, pattern formation apparatus, pattern formation method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
JP5521305B2 (ja) * | 2008-10-08 | 2014-06-11 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶装置の製造方法および液晶装置 |
US8760629B2 (en) | 2008-12-19 | 2014-06-24 | Nikon Corporation | Exposure apparatus including positional measurement system of movable body, exposure method of exposing object including measuring positional information of movable body, and device manufacturing method that includes exposure method of exposing object, including measuring positional information of movable body |
US8773635B2 (en) * | 2008-12-19 | 2014-07-08 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
US8902402B2 (en) * | 2008-12-19 | 2014-12-02 | Nikon Corporation | Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
US8599359B2 (en) | 2008-12-19 | 2013-12-03 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, device manufacturing method, and carrier method |
US8553204B2 (en) | 2009-05-20 | 2013-10-08 | Nikon Corporation | Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
US8493547B2 (en) | 2009-08-25 | 2013-07-23 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
US8488109B2 (en) | 2009-08-25 | 2013-07-16 | Nikon Corporation | Exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US8514395B2 (en) | 2009-08-25 | 2013-08-20 | Nikon Corporation | Exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US20110096306A1 (en) * | 2009-09-28 | 2011-04-28 | Nikon Corporation | Stage apparatus, exposure apparatus, driving method, exposing method, and device fabricating method |
US20110096318A1 (en) * | 2009-09-28 | 2011-04-28 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and device fabricating method |
US20110096312A1 (en) * | 2009-09-28 | 2011-04-28 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and device fabricating method |
US20110102761A1 (en) * | 2009-09-28 | 2011-05-05 | Nikon Corporation | Stage apparatus, exposure apparatus, and device fabricating method |
US20110128523A1 (en) * | 2009-11-19 | 2011-06-02 | Nikon Corporation | Stage apparatus, exposure apparatus, driving method, exposing method, and device fabricating method |
US20110123913A1 (en) * | 2009-11-19 | 2011-05-26 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposing method, and device fabricating method |
US8488106B2 (en) * | 2009-12-28 | 2013-07-16 | Nikon Corporation | Movable body drive method, movable body apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
CN102906545B (zh) | 2010-03-30 | 2016-01-20 | 齐戈股份有限公司 | 干涉测量编码器系统 |
IL217843A (en) * | 2011-02-11 | 2016-11-30 | Asml Netherlands Bv | A system and method for testing, a lithographic system, a cell for lithographic processing, and a method for producing a device |
US9261800B2 (en) * | 2011-03-30 | 2016-02-16 | Mapper Lithography Ip B.V. | Alignment of an interferometer module for use in an exposure tool |
JP6156147B2 (ja) * | 2011-11-17 | 2017-07-05 | 株式会社ニコン | エンコーダ装置、光学装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
US9207549B2 (en) | 2011-12-29 | 2015-12-08 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method with encoder of higher reliability for position measurement |
US20130182235A1 (en) * | 2012-01-12 | 2013-07-18 | Nikon Corporation | Measurement system that includes an encoder and an interferometer |
CN104567696B (zh) * | 2015-01-09 | 2017-06-13 | 哈尔滨工业大学 | 一种基于衍射光栅的二维位移测量装置 |
CN104596425B (zh) * | 2015-01-09 | 2017-05-17 | 哈尔滨工业大学 | 一种基于衍射光栅的三维位移测量装置 |
EP3680717A1 (en) | 2015-02-23 | 2020-07-15 | Nikon Corporation | Substrate processing system and substrate processing method, and device manufacturing method |
KR102552792B1 (ko) | 2015-02-23 | 2023-07-06 | 가부시키가이샤 니콘 | 계측 장치, 리소그래피 시스템 및 노광 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 |
KR102574558B1 (ko) | 2015-02-23 | 2023-09-04 | 가부시키가이샤 니콘 | 계측 장치, 리소그래피 시스템 및 노광 장치, 그리고 관리 방법, 중첩 계측 방법 및 디바이스 제조 방법 |
WO2017167637A1 (en) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | Asml Netherlands B.V. | Substrate edge detection |
CN107664481B (zh) | 2016-07-29 | 2019-08-23 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 光栅测量装置 |
EP3629086A1 (en) * | 2018-09-25 | 2020-04-01 | ASML Netherlands B.V. | Method and apparatus for determining a radiation beam intensity profile |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02300630A (ja) * | 1989-05-15 | 1990-12-12 | Toyota Autom Loom Works Ltd | 光学式変位計 |
JP2001033209A (ja) * | 1999-05-17 | 2001-02-09 | Jasco Corp | 距離計 |
JP2004101362A (ja) * | 2002-09-10 | 2004-04-02 | Canon Inc | ステージ位置計測および位置決め装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4881815A (en) * | 1988-07-08 | 1989-11-21 | Zygo, Corporation | Linear and angular displacement measuring interferometer |
US6483593B1 (en) * | 1999-08-10 | 2002-11-19 | The Boeing Company | Hetrodyne interferometer and associated interferometric method |
US7289212B2 (en) * | 2000-08-24 | 2007-10-30 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufacturing thereby |
US7057720B2 (en) * | 2003-06-24 | 2006-06-06 | Corning Incorporated | Optical interrogation system and method for using same |
US7256871B2 (en) * | 2004-07-27 | 2007-08-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method for calibrating the same |
-
2005
- 2005-09-15 US US11/226,460 patent/US7362446B2/en active Active
-
2006
- 2006-09-14 JP JP2006249172A patent/JP4614929B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02300630A (ja) * | 1989-05-15 | 1990-12-12 | Toyota Autom Loom Works Ltd | 光学式変位計 |
JP2001033209A (ja) * | 1999-05-17 | 2001-02-09 | Jasco Corp | 距離計 |
JP2004101362A (ja) * | 2002-09-10 | 2004-04-02 | Canon Inc | ステージ位置計測および位置決め装置 |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016014881A (ja) * | 2007-07-18 | 2016-01-28 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP2010541231A (ja) * | 2007-09-28 | 2010-12-24 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学装置の位置測定装置の較正 |
JP2010078566A (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-08 | Canon Inc | 変位計測装置 |
WO2014006935A1 (ja) * | 2012-07-06 | 2014-01-09 | 株式会社ニコン | 位置計測装置、ステージ装置、露光装置、およびデバイス製造方法 |
CN104567695B (zh) * | 2015-01-09 | 2017-06-13 | 哈尔滨工业大学 | 一种使用双频激光和衍射光栅的三维位移测量装置 |
CN104596424A (zh) * | 2015-01-09 | 2015-05-06 | 哈尔滨工业大学 | 一种使用双频激光和衍射光栅的二维位移测量装置 |
CN104567695A (zh) * | 2015-01-09 | 2015-04-29 | 哈尔滨工业大学 | 一种使用双频激光和衍射光栅的三维位移测量装置 |
JP2018521319A (ja) * | 2015-06-30 | 2018-08-02 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 位置測定システム及びリソグラフィ装置 |
US10331045B2 (en) | 2015-06-30 | 2019-06-25 | Asml Netherlands B.V. | Position measurement system and lithographic apparatus |
KR20200055798A (ko) * | 2017-10-10 | 2020-05-21 | 케이엘에이 코포레이션 | 나노 구조의 비편광 빔 스플리터 |
KR102347054B1 (ko) | 2017-10-10 | 2022-01-03 | 케이엘에이 코포레이션 | 나노 구조의 비편광 빔 스플리터 |
CN109959350A (zh) * | 2017-12-25 | 2019-07-02 | 长光华大基因测序设备(长春)有限公司 | 棱镜直角工作面垂直度的检测方法及装置 |
KR20200019147A (ko) * | 2018-01-16 | 2020-02-21 | 일루미나, 인코포레이티드 | 멀티-암 구조화 조명 이미징 |
KR102303506B1 (ko) | 2018-01-16 | 2021-09-17 | 일루미나, 인코포레이티드 | 멀티-암 구조화 조명 이미징 |
US11675175B2 (en) | 2018-01-16 | 2023-06-13 | Illumina, Inc. | Multi-arm structured illumination imaging |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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