JP2010078566A - 変位計測装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 第1乃至第3の回折光l1、l2、l3を発生させる第1回折格子GBS0と、被計測物と共に移動可能な第2回折格子GT0と、第2回折格子で回折した第1及び第2の回折光による干渉光を受光する第1受光部PDxと、第2回折格子で回折した第1の回折光と、第1回折格子を透過した第3の回折光とをそれぞれ反射する反射部FMと、反射部で反射され第2回折格子で回折した第1の回折光と、反射部で反射された第3の回折光と、による干渉光を受光する第2受光部PDzと、第1受光部で受光した光に基づいてY方向の変位を算出し、かつ第2受光部で受光した光に基づいてZ方向の変位を算出する演算部CUと、を有する。
【選択図】 図1
Description
光源で発生した光束を透過させ、互いに異なる方向に出射する第1、第2及び第3の回折光を含む複数の回折光を発生させる第1回折格子と、
前記第1回折格子と平行な面に設けられており、前記第1回折格子を透過した前記第1、第2及び第3の回折光を反射し、被計測物と共に移動可能な第2回折格子と、
前記第2回折格子で回折した前記第1及び第2の回折光による干渉光を受光する第1受光部と、
前記第2回折格子で回折した前記第1の回折光と、前記第1回折格子を透過した前記第3の回折光とをそれぞれ反射する反射部と、
前記反射部で反射され、さらに前記第2回折格子で回折した前記第1の回折光と、前記反射部で反射された前記第3の回折光と、による干渉光を受光する第2受光部と、
前記第1受光部で受光した光に基づいて前記第2回折格子が形成する面内の方向の変位を算出し、かつ前記第2受光部で受光した光に基づいて前記第2回折格子が形成する面に垂直な方向の変位を算出する演算部と、を有することを特徴とする。
光源で発生した光束を透過させ、互いに異なる方向に出射する第1、第2及び第3の回折光を含む複数の回折光を発生させる第1回折格子と、
前記第1回折格子と平行な面に設けられており、前記第1回折格子を透過した前記第1、第2及び第3の回折光を反射し、被計測物と共に移動可能な第2回折格子と、
前記第2回折格子で回折した前記第1及び第2の回折光による干渉光を受光する第1受光部と、
前記第2回折格子で回折した前記第1の回折光を反射する反射部と、
前記反射部で反射され、さらに前記第2回折格子で回折した前記第1の回折光と、前記第2回折格子で正反射した前記第3の回折光と、による干渉光を受光する第2受光部と、
前記第1受光部で受光した光に基づいて前記第2回折格子が形成する面内の方向の変位を算出し、かつ前記第2受光部で受光した光に基づいて前記第2回折格子が形成する面に垂直な方向の変位を算出する演算部と、を有することを特徴とする。
光源で発生した光束を透過させ、互いに異なる方向に出射する第1、第2及び第3の回折光を含む複数の回折光を発生させる第1回折格子と、
前記第1回折格子と平行な面に設けられており、前記第1回折格子を透過した前記第1、第2及び第3の回折光を反射し、被計測物と共に移動可能な第2回折格子と、
前記第2回折格子で回折した前記第1及び第2の回折光による干渉光を受光する第1受光部と、
前記第3の回折光を透過及び反射する分光部と、
前記分光部を透過した前記第3の回折光と前記分光部で反射した前記第3の回折光による干渉光を受光する第2受光部と、
前記第1受光部で受光した光に基づいて前記第2回折格子が形成する面内の方向の変位を算出し、かつ前記第2受光部で受光した光に基づいて前記第2回折格子が形成する面に垂直な方向の変位を算出する演算部と、を有することを特徴とする。
光源で発生した光束を透過させ、互いに異なる方向に出射する第1、第2及び第3の回折光を含む複数の回折光を発生させる第1回折格子と、
前記第1回折格子と平行な面に設けられており、前記第1回折格子を透過した前記第1、第2及び第3の回折光を反射し、被計測物と共に移動可能な第2回折格子と、
前記第2回折格子で回折した前記第1及び第2の回折光による干渉光を受光する第1受光部と、
前記第2回折格子で回折した前記第1及び第3の回折光による干渉光を受光する第2受光部と、
前記第1受光部で受光した光に基づいて前記第2回折格子が形成する面内の方向の変位を算出し、かつ前記第2受光部で受光した光に基づいて前記第2回折格子が形成する面内の方向であって前記第1受光部で受光した光に基づいて算出される方向とは異なる方向の変位を算出する演算部と、を有することを特徴とする。
図1は本発明の第1の実施の形態に係る変位計測装置の光学要素を示す斜視模式図であり、図2は第1の実施の形態に係る変位計測装置の光学要素を示す断面模式図である。
Δd=2 Δy (式1)
Δy0=Py/2 (式2)
図7は、本発明の第2の実施の形態に係る変位計測装置の光学要素を示す断面模式図である。
図8は、本発明の第3の実施の形態に係る変位計測装置の光学要素を示す断面模式図である。
図9は本発明の第4の実施の形態に係る変位計測装置の光学要素を示す斜視模式図であり、図10は第4の実施の形態に係る変位計測装置の光学要素を示す断面模式図である。
図11は、本発明の第5の実施の形態に係る変位計測装置の光学要素を示す断面模式図である。
図12は、本発明の第6の実施の形態に係る変位計測装置の光学要素を示す斜視模式図である。
図13は、本発明の第7の実施の形態に係る変位計測装置の光学要素を示す斜視模式図である。
LNS レンズ
GT0 第2回折格子
GBS0 第1回折格子
GBS1 第1偏向部
G2 第2偏向部
G3 第3偏向部
G4 第4偏向部
G5 第5偏向部
FM 反射部
HM 分光部
STP 遮光部
PDy 第1受光部
PDz 第2受光部
PDx 第3受光部
CU 演算部
Claims (9)
- 光源で発生した光束を透過させ、互いに異なる方向に出射する第1、第2及び第3の回折光を含む複数の回折光を発生させる第1回折格子と、
前記第1回折格子と平行な面に設けられており、前記第1回折格子を透過した前記第1、第2及び第3の回折光を反射し、被計測物と共に移動可能な第2回折格子と、
前記第2回折格子で回折した前記第1及び第2の回折光による干渉光を受光する第1受光部と、
前記第2回折格子で回折した前記第1の回折光と、前記第1回折格子を透過した前記第3の回折光とをそれぞれ反射する反射部と、
前記反射部で反射され、さらに前記第2回折格子で回折した前記第1の回折光と、前記反射部で反射された前記第3の回折光と、による干渉光を受光する第2受光部と、
前記第1受光部で受光した光に基づいて前記第2回折格子が形成する面内の方向の変位を算出し、かつ前記第2受光部で受光した光に基づいて前記第2回折格子が形成する面に垂直な方向の変位を算出する演算部と、を有することを特徴とする変位計測装置。 - 光源で発生した光束を透過させ、互いに異なる方向に出射する第1、第2及び第3の回折光を含む複数の回折光を発生させる第1回折格子と、
前記第1回折格子と平行な面に設けられており、前記第1回折格子を透過した前記第1、第2及び第3の回折光を反射し、被計測物と共に移動可能な第2回折格子と、
前記第2回折格子で回折した前記第1及び第2の回折光による干渉光を受光する第1受光部と、
前記第2回折格子で回折した前記第1の回折光を反射する反射部と、
前記反射部で反射され、さらに前記第2回折格子で回折した前記第1の回折光と、前記第2回折格子で正反射した前記第3の回折光と、による干渉光を受光する第2受光部と、
前記第1受光部で受光した光に基づいて前記第2回折格子が形成する面内の方向の変位を算出し、かつ前記第2受光部で受光した光に基づいて前記第2回折格子が形成する面に垂直な方向の変位を算出する演算部と、を有することを特徴とする変位計測装置。 - 光源で発生した光束を透過させ、互いに異なる方向に出射する第1、第2及び第3の回折光を含む複数の回折光を発生させる第1回折格子と、
前記第1回折格子と平行な面に設けられており、前記第1回折格子を透過した前記第1、第2及び第3の回折光を反射し、被計測物と共に移動可能な第2回折格子と、
前記第2回折格子で回折した前記第1及び第2の回折光による干渉光を受光する第1受光部と、
前記第3の回折光を透過及び反射する分光部と、
前記分光部を透過した前記第3の回折光と前記分光部で反射した前記第3の回折光による干渉光を受光する第2受光部と、
前記第1受光部で受光した光に基づいて前記第2回折格子が形成する面内の方向の変位を算出し、かつ前記第2受光部で受光した光に基づいて前記第2回折格子が形成する面に垂直な方向の変位を算出する演算部と、を有することを特徴とする変位計測装置。 - 前記分光部を透過してから前記第2受光部に入射するまでの前記第3の回折光の光路長と、前記分光部で反射してから前記第2受光部に入射するまでの前記第3の回折光の光路長とが等しくなるように構成されていることを特徴とする請求項3に記載の変位計測装置。
- 前記分光部を透過し、前記第2回折格子で正反射した前記第3の回折光を偏向する第1偏向部と、
前記分光部で反射した前記第3の回折光を偏向する第2偏向部と、
前記第2偏向部で偏向された前記第3の回折光を偏向する第3偏向部と、を有し、
前記分光部を透過した前記第3の回折光と前記分光部で反射した前記第3の回折光による干渉光は、前記第1偏向部で偏向された前記第3の回折光と、前記第3偏向部で偏向された前記第3の回折光による干渉光であることを特徴とする請求項4に記載の変位計測装置。 - 前記分光部で反射した前記第3の回折光を偏向する第4偏向部と、
前記第1偏向部で偏向された前記第3の回折光をさらに偏向する第5偏向部と、を有し、
前記分光部を透過した前記第3の回折光と前記分光部で反射した前記第3の回折光による干渉光は、前記分光部を透過し前記第2回折格子で正反射した前記第3の回折光と、前記第2偏向部で偏向された前記第3の回折光による干渉光であることを特徴とする請求項4に記載の変位計測装置。 - 複数の回折光は前記第1乃至第3の回折光とは方向が異なる第4の回折光を含み、
前記第2回折格子で回折した前記第1及び第4の回折光による干渉光を受光する第3受光部をさらに有し、
前記演算部は、前記第3受光部で受光した光に基づいて、前記第2回折格子が形成する面内の方向であって前記第1受光部で受光した光に基づいて算出される方向とは異なる方向の前記被計測物の変位を算出することを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の変位計測装置。 - 光源で発生した光束を透過させ、互いに異なる方向に出射する第1、第2及び第3の回折光を含む複数の回折光を発生させる第1回折格子と、
前記第1回折格子と平行な面に設けられており、前記第1回折格子を透過した前記第1、第2及び第3の回折光を反射し、被計測物と共に移動可能な第2回折格子と、
前記第2回折格子で回折した前記第1及び第2の回折光による干渉光を受光する第1受光部と、
前記第2回折格子で回折した前記第1及び第3の回折光による干渉光を受光する第2受光部と、
前記第1受光部で受光した光に基づいて前記第2回折格子が形成する面内の方向の変位を算出し、かつ前記第2受光部で受光した光に基づいて前記第2回折格子が形成する面内の方向であって前記第1受光部で受光した光に基づいて算出される方向とは異なる方向の変位を算出する演算部と、を有することを特徴とする変位計測装置。 - 光源と、レチクルを照明する照明光学系と、前記照明光学系によって照明された光をウエハ上に投影する投影光学系と、ウエハを固定し駆動するウエハステージと、
請求項1乃8のいずれか1項に記載の変位計測装置を有することを特徴とする露光装置。
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