JP2007103895A - レジスト液供給装置及び当該レジスト液供給装置を得るための改造キット - Google Patents
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Abstract
【解決手段】レジスト液供給装置において、調合タンク内の液体の濃度及び/又は粘度を検出し、この検出結果に基づいて原料液と溶剤の注入分量を調整して希釈制御を行なうとともに、希釈制御されて得られた製品用レジスト液をバッファ槽にて一定期間貯留して安定化させる。
【選択図】図1
Description
<レジスト液供給装置の全体構成>
図1は、本発明の第1実施形態に係るレジスト液供給装置1を示す図である。本実施形態のレジスト液供給装置1は、高濃度の原料液10が導入される導入部Aと、この導入部Aに導入された原料液10と溶剤20とを混合して攪拌する混合攪拌部Bと、この混合攪拌部Bで混合攪拌されて濃度調整され、それにより得られた製品用レジスト液を供給する供給部Cと、を備える。
[導入部]
本実施形態に係るレジスト液供給装置1の導入部Aの構成を以下に説明する。
原料液導入ライン11は、中空状の管であり、高濃度のレジスト原料液10を調合タンク30に導入するためのラインである。その長さは、特に限定されるものではなく、装置の大きさに応じて適宜設定することができる。また、ラインを構成するパイプの直径は、特に限定されるものではないが、5mm以上30mm以下であることが好ましく、10mm以上20mm以下が更に好ましい。原料液は高濃度であるがために固形化しやすい傾向にある。上記の範囲の直径であれば、固形物が付着した場合であっても、その流路が塞がれることを回避することが可能となる。
溶剤導入ライン21は、中空状の管であり、高濃度のレジスト原料液10を希釈するための溶剤20を、調合タンク30に導入するためのラインである。その長さは、特に限定されるものではなく、装置の大きさに応じて適宜設定することができる。また、ラインを構成するパイプの直径は、特に限定されるものではないが、5mm以上30mm以下であることが好ましく、10mm以上20mm以下が更に好ましい。
原料液導入ライン11には原料液流量計12が備えられ、溶剤導入ライン21には溶剤流量計22を備えられる。原料液流量計12及び溶剤流量計22の種類は、特に限定されるものではない。市販の流量計をそのまま利用することも可能である。
本実施形態に係るレジスト液供給装置1の混合攪拌部Bの構成を以下に説明する。混合攪拌部Bには、調合タンク30が備えられており、この調合タンク30を中心として、原料液10と溶剤20とを調合タンク30に注入する注入部、及び、調合タンク30内に貯留されている液体である混合液32の一部を抜き出して、再び調合タンク30に戻す部分液移送部が含まれる。
調合タンク30は、内部に原料液10と溶剤20との混合液32を貯留して混合攪拌するものである。調合タンク30の内部には、原料液10と溶剤20とを混合攪拌するための攪拌羽根33が備えられる。また、調合タンク30の下部には、調合タンク30、調合タンク30に注入された原料液10及び溶剤20の合計質量を計測するためのロードセル34が備えられる。これらの攪拌羽根33及びロードセル34は、特に限定されるものではなく、調合タンク30の大きさによって適宜選択することができる。
注入部は、原料液導入ライン11及び溶剤導入ライン21から誘導される原料液10及び溶剤20を、調合タンク30に注入する部分である。
本実施形態のレジスト液供給装置1においては、注入部に注入ヘッド31を備える。注入ヘッド31は、調合タンク30に設けられ、原料液10と溶剤20とを調合タンク30へ注入するものである。注入ヘッドの設置位置は、特に限定されるものではないが、調合タンクの内部で、少なくとも原料液導入ライン11の末端付近に設けられることが好ましい。
部分液循環移送部は、調合タンク30内に貯留されている液体である混合液32の一部を抜き出して、再び調合タンク30に戻す部分である。本実施形態のレジスト液供給装置の部分液循環移送部には、部分液循環移送ライン35及び36と、これらラインの間に設けられる濃度検出器及び/又は粘度検出器37と、この濃度検出器及び/又は粘度検出器37に接合された流量調整器38を備える。
部分液循環移送ライン35及び36は、中空状の管であり、調合タンク30に接続され、調合タンク30に貯留されている混合液32の一部を抜き出し、その後、調合タンク30に再び戻すためのラインである。また、部分液循環移送ライン35と36の間には、後述の濃度検出器及び/又は粘度検出器37が備えられる。
部分液循環移送ライン35及び36の間に設けられる濃度検出器及び/又は粘度検出器37は、混合液32のレジスト成分の濃度及び/又は粘度を検出できるものであれば、特に限定されるものではない。本発明の混合液32は、液体成分である溶剤と、固形分であるレジストとが含有されるものである。このため、液体成分と固形分とが判別可能な濃度検出器及び/又は粘度検出器であればよい。
NR800である。近赤外分光分析器としては、特に限定されるものではなく、市販の機器を使用することも可能である。
本実施形態のレジスト液供給装置1には、流量調整器38が備えられる。流量調整器38は、上記の濃度検出器及び/又は粘度検出器37に接合され、検出された濃度及び/又は粘度に基づき、原料液導入ライン11に設けられた原料液流量計12及び/又は溶剤導入ライン21に設けられた溶剤流量計22の流量を制御するものである。
レジスト液移送ライン39は、中空状の管であり、調合タンク30内で混合攪拌され、更に濃度調整され、それにより目標の所定の濃度に調整された混合液32を、バッファ槽40に導入するためのラインである。その長さは、特に限定されるものではなく、装置の大きさに応じて適宜設定することができる。また、ラインを構成するパイプの直径は、特に限定されるものではないが、5mm以上30mm以下であることが好ましく、10mm以上20mm以下が更に好ましい。
供給部Cは、混合攪拌部Bで混合攪拌され、更に濃度調整され、それにより得られた製品用レジスト液を供給する部分である。
バッファ槽40は、内部に製品用レジスト液41を一定期間貯留するためのものである。目標の所定の濃度となった混合液32は、レジスト液移送ライン39を通して、バッファ槽40に移送される。
製品用レジスト液供給ライン42は、中空状の管であり、バッファ槽40に一定期間貯留された製品用レジスト液41を供給するためのラインである。その長さは、特に限定されるものではなく、装置の大きさに応じて適宜設定することができる。また、ラインを構成するパイプの直径は、特に限定されるものではないが、5mm以上30mm以下であることが好ましく、10mm以上20mm以下が更に好ましい。
本発明のレジスト液供給装置には、本発明の作用効果を損なわない範囲で、その他の構成を含めることが可能である。例えば、故障時や清掃に対応するための開放弁、エアバルブ72等を配管に設けてもよく、場合によっては、移送を容易とするためのポンプ等を設けてもよい。また、ラインの中の液体を一時避難させるためのバイパスを設けることも可能である。更に、原料液10と溶剤20以外に、必要な樹脂や添加剤等、その他の成分を配合するための新たなラインを設けてもよい。
本発明の改造キットは、現像液希釈装置を改造して、本発明のレジスト液供給装置を製造するための改造キットである。改造キットは、少なくとも、原料液導入ライン及び/又は溶剤導入ラインの構成に用い得る鉄パイプと、調合タンクから液体の一部を抜き出して戻すラインに取り付けることができ、液体中のレジスト成分の濃度を検出する濃度検出器及び/又は液体中のレジスト成分の粘度を検出する粘度検出器と、製品用レジスト液の濾過に適したフィルターと、を一組のセットとする。
本実施形態のレジスト液供給装置1の作用につき、図1に基づき部分ごとに説明する。
導入部Aにおいては、原料液導入ライン11及び溶剤導入ライン21のそれぞれから、原料液10と溶剤20とを導入する。原料液導入ライン11及び溶剤導入ライン21から導入した原料液10及び溶剤20は、混合攪拌部Bの注入ヘッド31から調合タンク30へ注入される。
〔注入部〕
混合攪拌部Bにおいては、注入ヘッド31を通して、原料液10の吐出口である原料液吐出口11aを、この原料液吐出口11a付近に設けられた溶剤吐出口21aから吐出される溶剤20により洗浄しつつ、原料液10及び溶剤20を調合タンク30に注入する。
引き続き、部分液循環移送部において、調合タンク30に貯留された混合液32の一部を、調合タンク30に設けられた部分液循環移送ライン35を通して抜き出す。抜き出された混合液32の一部であった液体は、部分液循環移送ライン35及び36の間に設けられた濃度検出器及び/又は粘度検出器37によってその濃度及び/又は粘度が検出される。濃度及び/又は粘度の検出が完了した液体は、部分液循環移送ライン36を通して調合タンク30内に戻される。
移送された製品用レジスト液41は、バッファ槽40にて一定期間貯留される。一定期間が経過した製品用レジスト液41は、ポンプ52により、製品用レジスト液供給ライン42を通して供給される。このとき、製品用レジスト液41は、製品用レジスト液供給ライン42に設けられたフィルター62により濾過され、その後、供給される。
[原料液]
本発明のレジスト液供給装置に導入する原料液は、光に反応して化学的に作用・変化し、樹脂レジスト膜を形成し得るものであれば、特に限定されるものではない。例えば、TFTアレイ用ポジ/ネガ型レジスト、CF用レジスト、層間絶縁膜用レジスト、スペーサー用レジスト、TAB/BUMP用レジスト等を挙げることができる。
本発明のレジスト液供給装置に導入される溶剤としては、原料液を希釈できるものであり、レジスト膜を形成する際の塗布性及び膜厚均一性を向上させる成分であれば、特に限定されるものではない。従来より一般的に使用されている有機溶剤を使用することも可能である。
本発明のレジスト液供給装置によって供給することのできる製品用レジスト液の固形分濃度は、特に限定されるものではなく、レジスト膜を形成する製品に求められるそれぞれの濃度に応じて適宜設定することができる。本発明においては、目的とする製品に固有の固形分濃度に容易に設定することが可能となることから、製品用レジスト液の固形分濃度は、30%以下であることが好ましい。スピンコーター用又はスリットアンドスピンコーター用の製品用レジスト液の固形分濃度としては、20%以上30%以下が好ましく、25%以上30%以下が更に好ましい。また、スリットコーター等のノンスピンコーター用としては、10%以上20%以下が好ましく、12%以上18%以下が更に好ましい。
図3は、本発明の第2実施形態に係るレジスト液供給装置1aを示す図である。このレジスト液供給装置1aは、混合攪拌部Bにおける調合タンクを複数備えている点が、主に第1実施形態と異なる点である。
本実施形態に係る導入部Aの構成は、第1実施形態と同様の構成であるが、混合攪拌部Bが複数の調合タンク30、30aを備える。該調合タンク30、30aのそれぞれに、原料液10及び溶剤20を導入可能とするため、原料液導入ライン11及び溶剤導入ライン21を三方弁13、23により分岐させ、結合させた構成である。なお、図3においては、混合攪拌部Bが調合タンクを2個備えているが、調合タンクの数は限定されず、調合タンクの数だけ、原料液導入ラインおよび溶剤導入ラインを分岐させ、それぞれの調合タンクに結合させることができる。
混合攪拌部Bは複数の調合タンク30、30aを備えている。調合タンクの構成については、第1実施形態と同じ構成であり、同一の構成のものは、同じ図番にaを付して表示する。第2実施形態においては、調合タンク30、30aのそれぞれにおいて、独立して混合液32、32aの濃度調節が可能である。
供給部Cの構成は、第1実施形態と同じ構成であり、その説明は省略する。
本実施形態は、混合攪拌部に備えられている複数の調合タンクにおいて、独立してレジスト液の濃度を調整する構成である。詳細には、以下のとおりである。
図4は、本発明の第3実施形態におけるレジスト液供給装置を示したものである。
混合攪拌部Bは、第1の調合タンク30と第2の調合タンク30bを備えている。それぞれの調合タンクの構成については、第1実施形態と同じ構成であり、同一の構成のものは、同じ図番にbを付して表示する。
本実施形態は、第1の調合タンク30にて混合液の濃度を粗く調整したのち、さらに第2の調合タンク30bにて混合液の濃度を精密に調整する構成である。詳細には、以下のとおりである。
図5は、本発明の第4実施形態に係るレジスト液供給装置1cを示す図である。このレジスト液供給装置1cは、供給部が、第1供給部C´及び第2供給部Cからなり、それぞれに製品用レジスト液バッファ槽を備える。更に、混合攪拌部Bに直接接続される製品用レジスト液バッファ槽がタンクローリー40cとなっている点が第1実施形態と異なる点である。
導入部A及び混合攪拌部Bについては、第1実施形態と同様の構成であるため、説明を省略する。
第1供給部C´は、混合攪拌部Bで混合攪拌され、更に濃度調整され、それにより得られた製品用レジスト液を供給する部分である。
第1供給部における製品用レジスト液バッファ槽は、タンクローリー40cである。このタンクローリー40cは、混合攪拌部Bに直接接続される。製品用レジスト液バッファ槽を、移動可能な槽であるタンクローリー40cとすることで、本発明のレジスト液供給装置において、混合攪拌部と、製造設備とを離して設置することができる。つまり、混合攪拌部と製造設備とを直接結合する必要がないため、長距離の配管等を省くことができる。
製品用レジスト液供給ライン43は、タンクローリー40cから第2供給部Cの製品用レジスト液バッファ槽40にレジスト液を供給するラインである。製品用レジスト液供給ライン43は、第1実施形態の製品用レジスト液供給ラインと同様のものを用いることができる。また、製品用レジスト液供給ライン43には、タンクローリー40cから製品用レジスト液バッファ槽40にレジスト液を移送するためのポンプ53、フィルター63を備えていることが好ましい。
第2供給部Cは、第1供給部C´から混合液32が移送される以外第1実施形態の供給部Cと同様の構成である。
タンクローリー40cでは、第1実施形態と同様にして、混合攪拌部Bから混合液32が移送される。その後、タンクローリー40cは、製品用レジスト液バッファ槽40が設置されている製造設備に移動する。そして、タンクローリー40cから製品用レジスト液バッファ槽40内に、ポンプ53により、製品用レジスト液供給ライン43を通して混合液が供給される。このとき、混合液は、製品用レジスト液供給ライン43に設けられたフィルター63により濾過される。
10 原料液
11 原料液導入ライン
12 原料液流量計
13、23 三方弁
20 溶剤
21 溶剤導入ライン
22 溶剤流量計
30 調合タンク
31 注入ヘッド
32 混合液
33 攪拌羽根
34 ロードセル
35、36 部分液循環移送ライン
37 濃度検出器及び/又は粘度検出器
38 流量調整器
39 レジスト液移送ライン
40 バッファ槽
41 製品用レジスト液
42、43 製品用レジスト液供給ライン
51、52、53 ポンプ
61、62、63 フィルター
71、72、73、74 エアバルブ
Claims (20)
- 高濃度の原料液に溶剤を加えて所望の濃度に希釈し、所定濃度の製品用レジスト液を得て、該製品用レジスト液を供給するためのレジスト液供給装置であって、
前記高濃度の原料液が導入される導入部と、この導入部に導入された前記原料液と前記溶剤とを混合して攪拌する混合攪拌部と、この混合攪拌部で混合攪拌されて濃度調整され、それにより得られた製品用レジスト液を供給する供給部と、を備え、
前記混合攪拌部には、前記原料液と前記溶剤との混合液を貯留して混合攪拌する調合タンクが備えられ、この調合タンクは、前記原料液と前記溶剤とを注入する注入部と、前記調合タンク内に貯留されている液体の一部を抜き出して戻す部分液循環移送部と、を備えており、
前記部分液循環移送部は、抜き出した液体のレジスト成分の濃度を検出する濃度検出器及び/又は抜き出した液体のレジスト成分の粘度を検出する粘度検出器と、この濃度検出器及び/又は粘度検出器による検出値に基づき、前記注入部における前記原料液と前記溶剤の注入分量の調整を行なう流量調整器と、を備えており、
前記供給部は、前記流量調整器により所望の濃度に希釈制御された前記調合タンク内の製品用レジスト液を受け入れて一定期間貯留する製品用レジスト液バッファ槽を備えているレジスト液供給装置。 - 前記混合攪拌部は、複数の調合タンクを備えている請求項1記載のレジスト液供給装置。
- 前記混合攪拌部は、レジスト液の濃度を粗く調整する第1の調合タンクと、前記第1の調合タンクで調整されたレジスト液の濃度を精密に調整する第2の調合タンクと、を備える請求項1又は2記載のレジスト液供給装置。
- 前記濃度検出器は、音波分析器及び/又は近赤外分光分析器である請求項1から3いずれか記載のレジスト液供給装置。
- 前記導入部は、原料液を前記調合タンクに導入するための原料液導入ラインと、溶剤を前記調合タンクに導入するための溶剤導入ラインと、を備えるものであり、
前記流量調整器は、前記原料液導入ライン及び/又は前記溶剤導入ラインの液体の流量を制御するものである請求項1から4いずれか記載のレジスト液供給装置。 - 前記注入部は、前記原料液と前記溶剤とを前記調合タンクに注入する注入ヘッドを備えており、
前記注入ヘッドは、前記原料液の吐出口である原料液吐出口と、この原料液吐出口付近に前記溶剤の少なくとも一部を吐出する溶剤吐出口と、を備え、
前記溶剤により前記原料液吐出口が洗浄されるものである請求項1から5いずれか記載のレジスト液供給装置。 - 前記製品用レジスト液バッファ槽は、1日の使用量より多い量の製品用レジスト液を貯留するものである請求項1から6いずれか記載のレジスト液供給装置。
- 前記製品用レジスト液を用いてレジスト膜を製造する製造設備に、管路を介して直接的に前記製品用レジスト液を供給するものである請求項1から7いずれか記載のレジスト液供給装置。
- 前記原料液の固形分濃度は、30%以上50%以下である請求項1から8いずれか記載のレジスト液供給装置。
- 前記製品用レジスト液の固形分濃度は、10%以上30%以下である請求項1から9いずれか記載のレジスト液供給装置。
- 前記溶剤は、所定のレジスト液を使用する工程で生じた廃液及び/又はレジスト液製造装置を洗浄する工程で生じた廃液を含むものである請求項1から10いずれか記載のレジスト液供給装置。
- 前記所定のレジスト液を使用する工程で生じた廃液は、所定のレジスト液よりレジスト膜を形成するレジスト膜製造工程で生じた廃液である請求項11記載のレジスト液供給装置。
- 前記レジスト膜製造工程で生じた廃液は、スリットコーター塗布工程で生じた廃液及び/又はスリットコーターヘッドの洗浄工程で生じた廃液である請求項11又は12記載のレジスト液供給装置。
- 前記製品用レジスト液バッファ槽は、移動可能な槽である請求項1から13いずれか記載のレジスト供給装置。
- 前記製品用レジスト液バッファ槽を複数備え、前記混合攪拌部に直接接続されるレジスト液バッファ槽が移動可能な槽である請求項1から14いずれか記載のレジスト供給装置。
- 前記移動可能な槽は、前記製品用レジスト液を密封可能とする空間を備える車両である請求項14又は15記載のレジスト液供給装置。
- 前記製品用レジスト液は、液晶ディスプレイ製造用である請求項1から16いずれか記載のレジスト液供給装置。
- 現像液希釈装置を改造して、請求項1から17いずれか記載のレジスト液供給装置を製造するための改造キットであって、
少なくとも、原料液導入ライン及び/又は溶剤導入ラインの構成に用い得る鉄パイプと、調合タンクから液体の一部を抜き出して戻すラインに取り付けることができ、液体中のレジスト成分の濃度を検出する濃度検出器及び/又は液体中のレジスト成分の粘度を検出する粘度検出器と、製品用レジスト液の濾過に適したフィルターと、を一組のセットとする改造キット。 - 原料液と溶剤とを前記調合タンクに注入する注入ヘッドを前記一組のセットの中に更に含む請求項18記載の改造キット。
- 請求項18又は19記載の改造キットを用いて、現像液希釈装置をレジスト液供給装置に転換する方法。
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