JP2002324753A - 現像液製造装置及び現像液製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 使用側において所望濃度の現像液を精度よく
且つ迅速に製造することができ、多品種小ロットの基板
製造に対応し得る現像液製造方法及び装置を提供する。 【解決手段】 現像液製造装置２００は、現像原液及び
純水が供給される調製槽１０５と、これに連設された平
準化槽２０２を備えている。また、平準化槽２０２は、
電子回路が形成される加工設備に管路１１４を介して接
続されている。調製槽１０５では、液量測定手段１０６
及びアルカリ濃度測定手段１０７からの測定信号に基づ
き、液量制御手段１０８によって槽内の現像液量が調整
されると共に、液供給制御手段１０９によって調製槽１
０５への現像原液等の供給量が調整される。これにより
アルカリ濃度が調整されたアルカリ系現像液は、平準化
槽２０２へ送られ、アルカリ濃度が平準化された後、加
工設備へ送給される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、現像液製造装置及
び現像液製造方法に関し、詳しくは、微細加工の施され
た電子回路が形成される加工設備に管路を介して接続さ
れており、且つ、該加工設備においてフォトレジスト等
を現像する際に用いられるアルカリ系現像液が製造され
る装置、及び、そのアルカリ系現像液の製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】一般に、電子デバイス等の微細加工が施
された電子回路を有する装置の製造におけるフォトリソ
グラフィ工程で使用されるレジスト材料には、露光によ
って可溶化するポジ型と、露光によって不溶化するネガ
型とがある。一例として、半導体デバイス、フラットパ
ネルディスプレイ（ＦＰＤ）基板等の製造においては、
かかるフォトエッチングが繰り返されるため、主として
ポジ型レジストが多用される。

【０００３】ポジ型レジストの現像液材料としては、リ
ン酸ソーダ、力性ソーダ、ケイ酸ソーダ、又は、これら
と他の無機アルカリ等との混合物から成る無機アルカリ
水溶液が挙げられる。また、アルカリメタルの汚染が心
配される場合には、メタルを含まないアミン系の有機ア
ルカリ水溶液、テトラメチルアンモニウムハイドロオキ
サイド（ＴＭＡＨ）水溶液、トリメチルモノエタノール
アンモニウムハイドロオキサイド（コリン）水溶液等が
用いられている。後者のなかでは、２．３８％濃度のＴ
ＭＡＨ水溶液が多く用いられている。また、これらの材
料から調製された現像液は、スプレー方式、スピンコー
ター方式あるいはディップ方式等の現像装置で大量に使
用されている。

【０００４】フォトレジスト用の現像液は、現像工程に
合わせて最高の解像力、パターニングの切れ（鋭敏
さ）、安定性及び高い歩留まりを得るために、その組成
及び濃度は厳密に管理されなければならない。特に、近
年のパターニングの高密度化に伴って、パターニング幅
の微細化が要求されている。例えば、半導体基板では
０．１μｍレベル、フラットパネルディスプレイ基板で
は１μｍレベル、多層プリント基板では１０μｍレベル
の線幅が要求されるようになってきた。また、低温多結
晶シリコンＴＦＴ技術により、フラットパネルディスプ
レイ基板上に半導体回路を組み込むため１μｍ以下の線
幅が要求されるようにもなってきた。

【０００５】これに伴い、フォトレジストの実効感度の
ばらつきを小さくするため、現像液濃度の精度向上が強
く望まれている。例えば、現像液濃度の管理範囲として
は、所定濃度の±１／１０００以内が要求される。殊
に、ＴＭＡＨ水溶液の場合、所定濃度の±１／２０００
以内（例えば、２．３８０±０．００１重量％）が要求
される。

【０００６】さらに、各現像液は、パターニング欠陥を
無くすため、現像液１ｍｌ中に０．１μｍ以上のパーテ
ィクル（微粒子）が１０個以下といったパーティクルの
非常に少ないものが要求される。またさらに、近年、現
像液の使用量は、基板の大型化、大量生産化により更に
膨大になってきた。

【０００７】このように、現像液濃度の精度向上、及び
パーティクルレスが切望されると共に、大量製造及び低
コスト化に対応することが強く望まれている。しかし、
従来においては、半導体デバイス等の製造工場で現像液
の組成及び濃度を調整した上で用いることは、設備及び
運転コストの面のみならず、組成及び濃度を十分に管理
する観点から、極めて困難であった。よって、半導体デ
バイス等の製造工場（以下、「使用側」という。）で
は、専ら現像液メーカ（以下、「供給側」という。）で
組成及び濃度を調整した現像液を使用せざるを得なかっ
た。

【０００８】この場合、供給側において、所定の組成に
調合した現像原液を純水で希釈し、所望の濃度に調整し
た現像液を容器に充填し、かかる調製済みの現像液を使
用側に供給する方法が採られる。このとき、現像原液の
希釈倍率は、液組成及び原液濃度、現像対象であるポジ
型レジスト等の種類、使用目的等によって種々異なり、
通常は８〜４０倍程度である。よって、供給側で調製し
た現像液の量は希釈倍率に応じて大幅に増大し、この現
像液を使用側へ運搬するための容器の準備、容器への充
填作業並びに運搬コストが膨大となってしまう。その結
果、これらの費用が現像液コストのうち相当な割合を占
めてしまうといった問題があった。

【０００９】また、供給側で調製した現像液が使用側で
使用されるまでには運搬及び保管に相応の期間を要し、
この間に現像液が劣化するという問題点もあった。さら
に、現像液が空気中の炭酸ガスを吸収し易いため、使用
側に希釈装置を設置しても、希釈操作中や希釈された現
像液の貯留中に炭酸ガスの吸収による濃度変化が生じて
しまうといった問題もあった。このことも、現像液の希
釈が半導体デバイス製造工場等の使用側で行われなかっ
た理由の一つに挙げられる。

【００１０】ところで、これら問題の解決を図るべく、
日本国特許第２７５１８４９号公報には、フォトレジス
ト用アルカリ系現像原液と純水とを受け入れて所定時間
強制攪拌する攪拌槽と、その攪拌槽内の混合液の一部を
抜き出しその導電率を測定したのち攪拌槽内に戻す導電
率測定手段と、導電率測定手段からの出力信号に基づい
て攪拌槽に供給されるフォトレジスト用アルカリ系現像
原液又は純水のいずれか一方の流量を制御する制御手段
と、攪拌槽からの混合液を受け入れて貯留する貯留槽
と、攪拌槽及び貯留槽を窒素ガスでシールする窒素ガス
シール手段とを備える現像液の希釈装置が開示されてい
る。

【００１１】この装置は、使用側において現像原液と純
水とを混合し、現像液を調製することを可能にするもの
であり、これにより、現像液の組成及び濃度の管理上の
問題、現像液の運搬コスト増大といった従来の諸問題を
ほぼ解決するに至った。

【００１２】

【発明が解決しょうとする課題】しかし、近年では、市
場の要求に伴い、多品種小ロットでの基板等の製造が必
要となってきた。そのため、使用側においては、それら
多品種小ロットでの基板の製造に対応すべく、複数の基
板製造装置を備え、それらを同時に稼動させざるを得な
い状況となってきた。さらに、それらの各々の装置で使
用される現像液の濃度が、例えば０．１％から２．５％
と広範にわたって異なる場合もあり、種々の濃度の現像
液を使用の都度準備する必要が生じている。

【００１３】そこで、本発明は、上記事情に鑑みてなさ
れたものであり、使用側において、現像原液から所望濃
度の現像液を精度よく且つ迅速に製造することができ、
多品種小ロットでの基板の製造に十分に対応し得ると共
に、製造された現像液の組成及び濃度を精度よく管理す
ることが可能な現像液製造装置及び現像液製造方法を提
供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明による現像液製造装置は、微細加工が施され
た電子回路が形成される加工設備に管路を介して接続さ
れており、その加工設備で用いられるアルカリ系現像液
が製造される装置であって、現像原液と純水とが供給さ
れ且つ攪拌されてアルカリ系現像液が調製される調製槽
と、調製槽内のアルカリ系現像液の量を測定する第一液
量測定手段と、調製槽内のアルカリ系現像液のアルカリ
濃度を測定する第一アルカリ濃度測定手段と、第一液量
測定手段による測定値及び第一アルカリ濃度測定手段に
よる測定値に基づいて、調製槽内のアルカリ系現像液の
量を調整する第一液量制御手段と、第一液量測定手段に
よる測定値及び第一アルカリ濃度測定手段による測定値
に基づいて、調製槽への現像原液の供給量及び純水の供
給量のうち少なくともいずれか一方を調整する液供給制
御手段とを備えるものである。

【００１５】このように構成された現像液製造装置にお
いては、調製槽内で現像原液が純水で希釈され現像液が
調製される。このとき、調製槽内の液量及び現像液成分
であるアルカリの濃度が実測され、これらに基づいて、
第一液量制御手段及び液供給制御手段によって現像液が
所望の濃度となるように液性が調整される。よって、簡
易且つ迅速な濃度調製が行われると共に、濃度管理を精
度よく実施できる。

【００１６】そして、このように所望濃度に調製された
現像液が、管路を介して加工設備に供給され得るので、
別途の保管・輸送コストが不要となる。さらに、加工設
備に接続した管路を含めて、現像液調製装置を実質的な
大気封止系とすれば、現像液が大気中の炭酸ガス等を吸
収することに起因する現像液の劣化が抑止され得る。

【００１７】また、調製槽と前記加工設備との間に配置
されており、アルカリ系現像液のアルカリ濃度を平準化
する平準化槽を備えると好ましい。こうすれば、不可避
的に生じ得る僅かな誤差を有する現像液中のアルカリ濃
度を平準化することが可能となり、現像液濃度の精度が
一層高められる。

【００１８】具体的には、平準化槽が、その平準化槽内
のアルカリ系現像液の量を測定する第二液量測定手段を
備えるものである。

【００１９】さらに、平準化槽が、その平準化槽内のア
ルカリ系現像液のアルカリ濃度を測定する第二アルカリ
濃度測定手段を備えるものであると好ましい。

【００２０】またさらに、平準化槽が、第二液量測定手
段による測定値及び第二アルカリ濃度測定手段による測
定値に基づいて、その平準化槽内のアルカリ系現像液の
量を調整する第二液量制御手段を備えるものであると好
適である。

【００２１】さらにまた、平準化槽内のアルカリ系現像
液を調製槽に還流送給する還流送給用管路を備えること
が望ましい。

【００２２】より具体的には、平準化槽が、その平準化
槽内のアルカリ系現像液を攪拌する攪拌機構を備えるも
のである。

【００２３】更に具体的には、平準化槽が、その平準化
槽内のアルカリ系現像液を濾過する濾過機構を備えるも
のである。

【００２４】一層具体的には、アルカリ系現像液を調製
槽から前記平準化槽へ送給し、調製槽におけるアルカリ
系現像液の液面レベル、及び平準化槽におけるアルカリ
系現像液の液面レベルを調整する液送給・液面レベル制
御手段を備えると有用である。これらの液面レベルは、
任意のレベルに調整されるが、両者が略同じレベルとな
るように調整されると好ましい。

【００２５】この場合、液送給・液面レベル制御手段
は、アルカリ系現像液が調製槽から平準化槽へ自然送液
され、且つ、調製槽及び平準化槽に接続された連通管を
有するものであるとより好ましい。

【００２６】また、平準化槽と加工設備との間に設置さ
れており、アルカリ系現像液が貯留される貯留槽を備え
ても好ましい。

【００２７】さらに、調製槽及び平準化槽を湿り窒素ガ
スでシールする湿り窒素ガスシール手段を備えるとより
好ましい。

【００２８】またさらに、調製槽を複数有するものであ
っても有用である。

【００２９】或いは、調製槽と平準化槽とが一体に構成
されていても構わない。

【００３０】さらにまた、加工設備に供給される前の状
態におけるアルカリ系現像液に含まれる微粒子数を測定
する微粒子数測定手段を備えると更に有用である。

【００３１】より好ましくは、アルカリ系現像液に含ま
れる溶存ガスを除去する溶存ガス除去手段を備えるもの
である。

【００３２】特に好ましくは、第一液量測定手段が、ア
ルカリ系現像液の容積又は重量のうち少なくともいずれ
か一方を測定するものである。

【００３３】或いは、第一アルカリ濃度測定手段が、導
電率計、超音波濃度計、液体密度計及び自動滴定装置の
うち少なくともいずれか一種であることが望ましい。

【００３４】同様に、第二アルカリ濃度測定手段が、導
電率計、超音波濃度計、液体密度計及び自動滴定装置の
うち少なくともいずれか一種であることが望ましい。

【００３５】より具体的には、現像原液は、所定範囲の
アルカリ濃度から選択された任意のアルカリ濃度を有す
るものである。

【００３６】また、本発明による現像液製造方法は、微
細加工の施された電子回路を形成する加工工程に管路を
介して供給されるアルカリ系現像液を製造する方法であ
って、現像原液と純水とを攪拌してアルカリ系現像液を
調製する工程と、アルカリ系現像液の量を測定する工程
と、アルカリ系現像液のアルカリ濃度を測定する工程
と、アルカリ系現像液の液量測定値及びアルカリ濃度測
定値に基づいてアルカリ系現像液の量を調整する工程
と、アルカリ系現像液の液量測定値及びアルカリ濃度測
定値に基づいて、アルカリ系現像液を調製する工程への
現像原液の供給量及び前記純水の供給量のうち少なくと
もいずれか一方を調整する工程とを備えることを特徴と
する。

【００３７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
詳細に説明する。なお、同一の要素には同一の符号を付
し、重複する説明を省略する。また、位置関係は、特に
断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとす
る。さらに、図面の寸法比率は、図示の比率に限られる
ものではない。

【００３８】図１は、本発明による現像液製造装置の第
１実施形態の構成を模式的に示す系統図である。現像液
製造装置１００は、現像原液が貯留される現像原液タン
ク１０１及び純水供給系が接続された調製槽１０５を備
えるものである。現像原液タンク１０１には、現像原液
が貯留されており、図示しない液面計の指示値に基づい
て、流量調節弁を有する管路１１０を通して現像原液タ
ンク１０１内に現像原液が補給されるようになってい
る。

【００３９】また、現像原液タンク１０１には、流量調
節弁３０３及びポンプ１１２を有する管路１１１が接続
されており、この管路１１１は、ラインミキサ１０４を
有し且つ純水供給系に連結された純水供給配管１０２に
おけるラインミキサ１０４よりも上流側に接続されてい
る。現像原液タンク１０１内の現像原液は、管路１１１
からポンプ１１２の運転により、流量調節弁３０２及び
ポンプ１１３を有する純水供給配管１０２内で、ポンプ
１１３の運転によって供給される純水と合流し、ライン
ミキサ１０４によって更に混合されたのち、調製槽１０
５に送給される。

【００４０】さらに、純水供給配管１０２からは、流量
調節弁３０１及びポンプを有し且つ調製槽１０５に接続
された純水供給配管１０３が分岐しており、純水を単独
で調製槽１０５内へ供給できるようにされている。

【００４１】ここで、本発明で用いられる現像原液とし
ては、例えば、リン酸ソーダ、力性ソーダ、ケイ酸ソー
ダ、又は、これらと他の無機アルカリ等との混合物から
成る無機アルカリ水溶液が挙げられる。また、アルカリ
メタルの汚染が心配される場合には、メタルを含まない
アミン系の有権アルカリ水溶液、ＴＭＡＨ水溶液、コリ
ン水溶液等が有用である。

【００４２】また、本発明において用いられる純水は、
アルカリ系現像液を必要とする電子回路基板の製造工場
等において使用される純水であればよい。かかる製造工
場等においては、多量の純水を必要とすることから純水
製造装置は必置とされる傾向にある。従って、本発明に
おいて必要なアルカリ系現像液の製造用の純水は、供給
側において比較的容易に入手し得る。また、アルカリ系
現像液には、必要に応じて添加剤を適宜添加してもよ
い。このような添加剤としては、例えば、界面活性剤等
が挙げられる。さらに、添加剤を添加する場合には、添
加剤タンクを設けてもよい。

【００４３】一方、調製槽１０５は、攪拌手段１１６
（攪拌機構）を備えると共に、液量制御手段１０８（第
一液量制御手段）及び液供給制御手段１０９を有する制
御系に接続された液量測定手段１０６（第一液量測定手
段）及びアルカリ濃度測定手段１０７（第一アルカリ濃
度測定手段）を有している。

【００４４】攪拌手段１１６は、ラインミキサ１０４か
ら送られてきた現像原液及び純水の混合液を強制的に攪
拌するためのものである。ここで、混合液の攪拌方法と
しては、例えば、攪拌翼による攪拌、調製槽１０５内の
混合液を循環させる循環攪拌が挙げられる。更には、循
環攪拌の際に、循環液を再び調製槽１０５内に吐出する
ためのノズルの吐出方向を、混合液が調製槽１０５の内
周方向に回転するように配置すれば、噴流回転攪拌を行
うことができる。攪拌手段１１６は、このようないずれ
かの攪拌方法を実現できるものである。

【００４５】また、液量測定手段１０６は、調製槽１０
５内のアルカリ系現像液の液量を実測・管理するための
ものである。液量の測定は、例えば、アルカリ系現像液
の容積及び重量の少なくともいずれか一方によって行う
ことができる。なお、ここでの「液量の管理」とは、調
製槽１０５内のアルカリ系現像液が使用されて減少する
場合の減少量の管理と、アルカリ系現像液を強制的に所
定量まで減少させる場合の強制減少量の管理を行うこと
を指す（後述する平準化槽２０２における「液量の管
理」も同様である。）。

【００４６】また、アルカリ濃度測定手段１０７は、調
製槽１０５内のアルカリ系現像液のアルカリ濃度を実測
・管理するためのものである。アルカリ濃度測定手段１
０７としては、例えば、導電率計、超音波濃度計、液体
密度計、又は自動滴定装置等が挙げられる。これらは、
いずれが採用されてもよいが、なかでも、導電率計を用
いることが好ましい。この場合、予め設定された基準温
度におけるアルカリ系現像液の導電率とアルカリ系現像
液の濃度との関係及び基準温度付近におけるアルカリ系
現像液の導電率の温度係数を求めておけば、所望濃度の
現像液を精度よく且つ簡便に製造することが可能とな
る。

【００４７】なお、アルカリ濃度測定手段１０７は、図
１に示す如く調製槽１０５の外部に設けられてもよく、
調製槽１０５内のアルカリ系現像液のアルカリ濃度を直
接測定することができるように、その電極部が調製槽１
０５内に配置されるように設けられても好ましい。

【００４８】一方、液量制御手段１０８は、液量測定手
段１０６及びアルカリ濃度測定手段１０７とからの測定
信号に基づいて所定の演算を行うものであり、更にその
演算結果に基づいて調製槽１０５内のアルカリ系現像液
を一定量に制御するものである。

【００４９】具体的には、例えば、電子回路基板の現像
工程において使用されているアルカリ系現像液と異なる
濃度のアルカリ系現像液を必要に応じて調製（製造）す
る際に、液量測定手段１０６からの出力信号とアルカリ
濃度測定手段１０７からの出力信号とから、アルカリ系
現像液を所望の濃度とするために必要な調製槽１０５内
のアルカリ系現像液の減少量を算出する。それから、そ
の算出値に基づいて調製槽１０５内のアルカリ系現像液
を減少させる。

【００５０】この際、調製槽１０５から排出されたアル
カリ系現像液は、調製槽１０５と加工設備に接続された
管路１１４を通して、その濃度のアルカリ系現像液を使
用する電子回路基板の現像工程に送給してもよいし、流
量調節弁３０５を有し且つ調製槽１０５に接続されたド
レン用の管路１１５を通して装置外へ排出してもよい。
なお、環境への影響を考慮すると、加工設備における現
像工程へ送給することが好ましい。

【００５１】他方、液供給制御手段１０９は、液量測定
手段１０６及びアルカリ濃度測定手段１０７からの実測
信号に基づいて調製槽１０５に供給される現像原液及び
純水のうち少なくともいずれか一方の供給量を制御する
ものである。具体的には、最初のアルカリ系現像液の調
製時、アルカリ系現像液が使用されて減少した際のアル
カリ系現像液の再調製時、又は、液量制御手段１０８に
よって強制的にアルカリ系現像液が減少させられた後の
異なるアルカリ濃度のアルカリ系現像液の調製時におい
て、調製槽１０５に供給すべき現像原液及び純水のうち
少なくともいずれか一方の供給量を制御するものであ
る。

【００５２】このように構成された現像液製造装置１０
０を用いた本発明の現像液製造方法の一例について以下
に説明する。まず、調製槽１０５が空の建浴時において
は、液量測定手段１０６が‘空’であることを検出す
る。その後、液量測定手段１０６から出力される指示信
号によりポンプ１１２及びポンプ１１３を稼動させ、調
製槽１０５に現像原液及び純水から成る混合液を送給す
る。次いで、この混合液を攪拌手段１１６により攪拌
し、その状態でのアルカリ濃度を略均一化させる。その
間、液量測定手段１０６によって調製槽１０５内の混合
液の液量を測定する。それと共に、混合液のアルカリ濃
度をアルカリ濃度測定手段１０７によって測定する。

【００５３】これらの測定値信号は、それぞれ液量測定
手段１０６及びアルカリ濃度測定手段１０７から出力さ
れ、液供給制御手段１０９へ入力される。液供給制御手
段１０９は、これらの測定信号に基づいて、所望濃度の
アルカリ系現像液を調製するために調製槽１０５に供給
すべき現像原液及び／又は純水の供給量を算出する演算
を行う。

【００５４】次いで、この算出結果を示す信号が、液供
給制御手段１０９から流量調節弁３０１，３０２，３０
３の少なくともいずれか一つに送信され、その指示に応
じて所定の流量調節弁が所定の開度で一定時間開放され
る。これにより、現像原液及び純水のうち少なくともい
ずれか一方の所定量が調製槽１０５に供給され、所望濃
度のアルカリ系現像液が調製される。

【００５５】また、他の例として、既存のアルカリ系現
像液と異なる濃度のアルカリ系現像液を調製する方法に
ついて以下に説明する。この場合、例えば、予め液供給
制御手段１０９に所望のアルカリ濃度をインプットして
おく。それから、まず、液量測定手段１０６による調製
槽１０５内にある既存のアルカリ系現像液の液量測定
と、アルカリ濃度測定手段１０７による既存のアルカリ
系現像液の濃度測定とが行われる。

【００５６】これらの測定値信号は、それぞれ液量測定
手段１０６及びアルカリ濃度測定手段１０７から出力さ
れ、液量制御手段１０８へ入力される。液量制御手段１
０８は、これらの測定信号に基づいて、所望濃度のアル
カリ系現像液を調製するために減少させるべき既存のア
ルカリ系現像液の液量（つまり、調製槽１０５から排出
すべき液量）を算出する演算を行う。

【００５７】次いで、この算出結果を示す信号が、液量
制御手段１０８から流量調節弁３０４及び／又は流量調
節弁３０５に送信され、その指示に応じて所定の流量調
節弁が所定の開度で一定時間開放される。これにより、
所定量の既存のアルカリ系現像液が調製槽１０５から排
出され、調製槽１０５内の液量が減少する。

【００５８】それから、予め入力設定しておいた所望濃
度のアルカリ系現像液を調製すべく、液供給制御手段１
０９からの出力信号によって流量調節弁３０１，３０
２，３０３のうち少なくともいずれか一つを所定の開度
で一定時間開放し、現像原液及び／又は純水を調製槽１
０５内へ供給する。こうして、既存のアルカリ系現像液
とは異なる所望濃度のアルカリ系現像液を得る。

【００５９】さらに、液量制御手段１０８及び液供給制
御手段１０９を用いたより具体的な制御機構について、
上記後者の場合、すなわち既存のアルカリ系現像液と異
なる濃度のアルカリ系現像液を調製する場合を例にと
り、以下に説明する。ここでは、既存のアルカリ系現像
液のアルカリ濃度が３％であり、これをアルカリ濃度が
２％のアルカリ系現像液に調製する場合について例示す
る。

【００６０】まず、液量測定手段１０６により、調製槽
１０５内にある濃度３％のアルカリ系現像液の液量が測
定される。それと共に、アルカリ濃度測定手段１０７に
より、アルカリ系現像液のアルカリ濃度（つまり‘３
％’）が測定される。

【００６１】この測定値信号は、それぞれ液量測定手段
１０６及びアルカリ濃度測定手段１０７から液量制御手
段１０８へ送出される。液量制御手段１０８は、これら
の測定値に基づいて濃度２％のアルカリ系現像液を調製
するために必要な濃度３％のアルカリ系現像液の減少量
を算出する。次いで、演算結果すなわち算出された減少
量に応じた指示信号が液量制御手段１０８から出力され
る。これにより、調製槽１０５内の濃度３％のアルカリ
系現像液の所定量（この場合、既存量の１／３）が調製
槽１０５から排出される。

【００６２】次に、調製槽１０５内に残存する濃度３％
のアルカリ系現像液の液量（減少後の液量）が液量測定
手段１０６により測定される。それと共に、アルカリ濃
度測定手段１０７により、アルカリ系現像液のアルカリ
濃度（つまり‘３％’）が再測定される。

【００６３】これらの各測定信号は、液供給制御手段１
０９に入力され、濃度２％のアルカリ系現像液を調製す
るために必要な現像原液及び純水のうち少なくともいず
れか一方の調製槽１０５への供給量が算出される。この
算出量に基づいて、液供給制御手段１０９からの指示信
号により現像原液及び／又は純水が調製槽１０５に供給
され、所望濃度つまり濃度２％のアルカリ系現像液が得
られる。なお、本例では、少なくとも先述した濃度３％
のアルカリ系現像液の減少量と同量の純水が調製槽１０
５に供給される。また、この際、液量測定手段１０６及
びアルカリ濃度測定手段１０７がアルカリ系現像液の液
量及びアルカリ濃度を実質的に連続測定することが好ま
しい。

【００６４】このように調製されたアルカリ系現像液
は、ポンプ２１２及び流量調節弁３０４を有し且つ調製
槽１０５と加工設備とを接続する管路１１４を通して調
製槽１０５から加工設備における加工工程へ送給され
る。

【００６５】アルカリ系現像液の濃度の管理範囲として
は、例えば、所定濃度の±１／１０００以内が要求され
る。特に、先述のＴＭＡＨ水溶液の場合には、所定濃度
の±１／２０００以内（２．３８０±０．００１重量
％）が要求される傾向にある。本発明の現像液製造装置
１００では、上記の濃度調製を実施することにより、こ
のような厳しい濃度管理を十分に実現することができ
る。また、以上の演算／制御は、制御系による自動制御
によって行われるため、時間的なロスが少なく、アルカ
リ系現像液の迅速な濃度調整が可能となる。

【００６６】さらに、上述した濃度調整を実施できるの
で、要求される種々の濃度のアルカリ系現像液を加工設
備が設けられた使用側において簡便に製造することが可
能となる。よって、多品種小ロットの半導体デバイス等
の電子回路基板の製造に機動的且つ弾力的に対応するこ
とができる。

【００６７】また、管路１１４におけるポンプ２１２の
後段には、濾過機構としてのフィルタ２１３が設けられ
ている。調製槽１０５から送給されるアルカリ系現像液
には、ポンプ２１２の駆動や配管系に起因する微粒子、
現像原液に由来する微粒子、装置系外からのダスト（無
機物質又は有機物質）に起因する微粒子等が混入する可
能性がある。フィルタ２１３は、アルカリ系現像液に混
入したかかる微粒子（パーティクル）成分を除去するた
めのものである。

【００６８】アルカリ系現像液中の微粒子は、加工設備
における電子回路基板等の現像時に現像不具合の原因と
なり得る。こうなると、パターニング欠陥等が生じるお
それがある。よって、電子回路基板の現像工程に用いら
れるようなアルカリ系現像液に対しては、通常、アルカ
リ系現像液１ｍｌ中に０．１μｍ以上のパーティクルが
１０個以下という制限（管理値）が要求される。したが
って、フィルタ２１３の濾材としては、かかる基準を担
保し得る濾過能を有するものが適宜選択され、例えば、
織布・不織布及び濾過膜が挙げられる。

【００６９】さらに、管路１１４におけるフィルタ２１
３の後段には、アルカリ系現像液に含まれる微粒子数を
測定するための微粒子数測定手段２１１が設置されてい
る。上述の如く、調製槽１０５から送給されるアルカリ
系現像液に含まれる微粒子の大部分は、フィルタ２１３
によって除去され得る。微粒子数測定手段２１１は、濾
過されたアルカリ系現像液中の微粒子濃度が管理値を満
たすか否かを判断するためのものである。

【００７０】フィルタ２１３を通過しても所定の管理値
を上回る微粒子を含むアルカリ系現像液は、別の管路を
通して調製槽１０５に返送され、管路１１４を経てフィ
ルタ２１３によって再び濾過される。これにより、アル
カリ系現像液中の微粒子濃度を確実に一定値以下に抑え
ることができる。

【００７１】加えて、管路１１４における後段には、溶
存ガス除去手段２１４が設けられている。アルカリ系現
像液には、一般に酸素ガス、窒素ガス等の気体が溶存し
得る。これらの気体がアルカリ系現像液に溶存している
と、アルカリ系現像液を電子回路基板の製造工程で使用
する際に気泡を発生し、現像液の現像機能が低下してし
まう傾向にある。これに対し、現像液製造装置１００で
は、溶存ガス除去手段２１４によって、かかる溶存気体
（ガス）が除去される。

【００７２】ここで、溶存ガス除去手段２１４として
は、アルカリ系現像液に溶存する気体を除去することが
できるものであれば、特に制限されず、例えば、減圧効
果により液中の溶存ガスを気化させて除去する装置、気
液分離膜を用いた脱ガス装置等が挙げられる。

【００７３】さらに、調製槽１０５には、窒素ガス及び
純水が供給される湿り窒素ガスシール手段２０９が管路
２１０を介して接続されている。また、現像原液タンク
１０１も、管路２１０からの分岐管により湿り窒素ガス
シール手段２０９に接続されている。

【００７４】前述したようにアルカリ系現像液が外気
（大気）と接触すると、空気中の酸素ガス、炭酸ガス等
を吸収し又はそれらと反応し、その性質（液性）が劣化
し得る。他方、乾燥窒素ガスは、アルカリ系現像液とは
実質的に反応しない。しかし、乾燥窒素ガスとアルカリ
系現像液が接触すると、アルカリ系現像液中の水分が蒸
発し、液中アルカリ濃度の上昇を招いてしまう。

【００７５】これに対し、湿潤な窒素ガスが得られる湿
り窒素ガスシール手段２０９に接続された調製槽１０５
の内部は、管路２１０を介して湿り窒素ガスによって封
止（シール）されるので、上述したようなアルカリ系現
像液の液性劣化やアルカリ濃度上昇が有効に防止され
る。また、現像原液タンク１０１も同様に湿り窒素ガス
によって封止されるので、現像原液の液性劣化やアルカ
リ濃度上昇が有効に防止される。ここで、湿り窒素ガス
の具体的な条件としては、例えば、その圧力を１００〜
２００ｍｍＡｑ程度に維持することが挙げられる。

【００７６】このように、現像原液及び調製時のアルカ
リ系現像液の液性劣化やアルカリ濃度変動が防止され、
調製後のアルカリ系現像液が管路１１４を通して大気か
ら封止された状態で加工設備に送給されるので、極めて
良好な管理状態にあるアルカリ系現像液を必要なときに
必要量供給することが可能となる。

【００７７】図２は、本発明による現像液製造装置の第
２実施形態の構成を模式的に示す系統図である。現像液
製造装置２００は、調製槽１０５の後段、つまり電子回
路の加工設備と調製槽１０５との間に、アルカリ系現像
液のアルカリ濃度を平準化するための平準化槽２０２を
備えること以外は、図１に示す現像液製造装置１００と
略同様に構成されたものである。

【００７８】平準化槽２０２は、流量調節弁３０７が設
けられた管路２０１、及び管路１１４に接続された管路
２０５（還流送給用管路）を介して調製槽１０５に接続
されると共に、管路１１４によって加工設備に接続され
ている。また、平準化槽２０２は、先述の管路２１０を
介して湿り窒素ガスシール手段２０９に接続されてい
る。さらに、平準化槽２０２は、流量調節弁３０６が設
けられたドレン用の管路１１５に接続されている。

【００７９】またさらに、平準化槽２０２には、液量測
定手段１０６と同等の液量測定手段２０３（第二液量測
定手段）及びアルカリ濃度測定手段１０７と同等のアル
カリ濃度測定手段２０４（第二アルカリ濃度測定手段）
が設置されている。これらの液量測定手段２０３及びア
ルカリ濃度測定手段２０４は、液量制御手段１０８と同
等の制御機能を有する液量制御手段２０７（第二液量制
御手段）に接続されている。この液量制御手段２０７
は、液量制御手段１０８及び液供給制御手段１０９と接
続されている。

【００８０】さらにまた、平準化槽２０２は、管路１１
１及び純水供給配管１０２から分岐し且つ流量調節弁及
びポンプを有する管路を介して、それぞれ現像原液タン
ク１０１及び純水供給系に接続されている。

【００８１】このように構成された現像液製造装置２０
０においては、アルカリ系現像液が、まず調製槽１０５
で連続方式或いはバッチ方式によって調製される。調製
されたアルカリ系現像液は、アルカリ濃度測定手段１０
７によってそのアルカリ濃度が管理されているが、調製
時毎に不可避的に所望濃度に対する多少の誤差を生じ得
る。平準化槽２０２は、この誤差を可能な限り最小化す
るためのものである。

【００８２】具体的には、アルカリ系現像液が調製槽１
０５から平準化槽２０２に送られ、液量測定手段２０３
によって平準化槽２０２内のアルカリ系現像液の液量が
測定・管理される。液量管理は、例えば、アルカリ系現
像液の液容積及び液重量のうち少なくともいずれか一方
によって行い得る。

【００８３】また、平準化槽２０２内のアルカリ系現像
液のアルカリ濃度は、調製槽１０５におけるアルカリ濃
度測定手段によって測定・管理することができるが、よ
り一層精確な濃度管理の実現を図るべく、平準化槽２０
２内においてアルカリ濃度測定手段２０４によって行っ
ても好ましい。

【００８４】このようなアルカリ濃度測定手段２０４に
よる測定の結果、平準化槽２０２内のアルカリ系現像液
のアルカリ濃度が所望濃度と許容量を超えて異なる場
合、平準化槽２０２内のアルカリ系現像液は、管路２０
５を通して調製槽１０５に還流送給される。こうして調
製槽１０５に還流送給されたアルカリ系現像液は、調製
槽１０５において、再度、アルカリ濃度が所望値に調整
され、管路２０１を通して平準化槽２０２に再送給され
る。

【００８５】また、平準化槽２０２においては、液量測
定手段２０３とアルカリ濃度測定手段２０４からの実測
信号に基づいて液量制御手段２０７によるアルカリ系現
像液の液量制御が行われる。なお、この場合の平準化槽
２０２におけるアルカリ系現像液の液量制御は、前述し
た調製槽１０５におけるのと実質的に同等であるので、
重複説明を避けるため、ここでの詳細説明は省略する。

【００８６】液量制御に伴って平準化槽２０２から排出
されるアルカリ系現像液は、図１に示す現像液製造装置
１００におけるのと同様に管路１１４を通して加工設備
の現像工程に送給してもよいし、管路１１５を通して装
置外に排出してもよく、或いは、管路２０５を通して調
製槽１０５に還流送給しても構わない。環境への影響を
考慮すれば、加工設備又は調製槽１０５に送給すること
が望ましい。調製槽１０５に還流送給されたアルカリ系
現像液は、上述と同様にして調製槽１０５内で濃度調整
が行われた後、平準化槽２０２に再送給される。

【００８７】また、液量測定手段２０３及びアルカリ濃
度測定手段２０４からの測定信号は、液量制御手段１０
８及び液供給制御手段１０９にも送出され得る。これに
より、調製槽１０５の機能が何らかのトラブルに見舞わ
れて喪失するような事態が生じても、平準化槽２０２に
おいて調製槽１０５と同等の濃度調整を行うことができ
る。なお、その場合の平準化槽２０２におけるアルカリ
系現像液の濃度調整は、前述した調製槽１０５における
測定・管理と実質的に同等であるので、重複説明を避け
るため、ここでの詳細説明は省略する。

【００８８】なお、平準化槽２０２には、攪拌手段１１
６と同様な攪拌手段（第二攪拌手段）を設けても好まし
い。こうすれば、平準化槽２０２内のアルカリ系現像液
のアルカリ濃度をより速やかに平準化することができ
る。アルカリ系現像液の攪拌方法としては、前述した調
製槽１０５内における混合液に対するのと同様な手法を
採用でき、アルカリ系現像液の発泡等を考慮すれば、循
環攪拌又は噴流回転攪拌を用いることが好ましい。

【００８９】また、平準化槽２０２でアルカリ濃度が平
準化され、加工設備に送出されるアルカリ系現像液は、
フィルタ２１３により微粒子成分が十分に除去される
が、現像液製造装置２００においては、平準化槽２０２
におけるアルカリ濃度の平準化を考慮すると、循環濾過
が好ましい。さらに、現像液製造装置２００は、調製槽
１０５から平準化槽２０２にアルカリ系現像液を送給し
且つ調製槽１０５及び平準化槽２０２の液面レベルを略
一定に保つための液送給・液面レベル制御手段を備える
と好ましい。

【００９０】平準化槽２０２でアルカリ濃度が平準化さ
れたアルカリ系現像液は、管路１１４を通して加工設備
へ送給され、これにより、平準化槽２０２内の液量は減
少する。そのアルカリ系現像液の減少量を補い、平準化
槽２０２内の液量を略一定に保つために、調製槽１０５
から新たにアルカリ濃度の調製されたアルカリ系現像液
が送給される。

【００９１】この液送給・液面レベル制御手段として
は、アルカリ系現像液が調製槽１０５においてバッチ式
で調製される場合には、例えば、調製槽１０５から平準
化槽２０２へアルカリ系現像液を送給する管路２０１に
図示しないポンプのような液を強制的に送給する手段を
設けたものが挙げられる。

【００９２】一方、アルカリ系現像液が調製槽１０５に
おいて連続式で調製される場合には、上記バッチ式の場
合と同様にポンプ等の液を強制的に送給する手段を有す
る管路、又は、調製槽１０５から平準化槽２０２にアル
カリ系現像液を自然送液する連通管等を挙げることがで
きる。ここで、「連通管」とは、調製槽１０５と平準化
槽２０２との間を、ポンプ等の機械的手段を備えること
なく単に連通する管路である。この意味において、管路
２０１が液送給・液面レベル制御手段として機能し得
る。

【００９３】このような連通管を用いると、平準化槽２
０２内のアルカリ系現像液が減少すれば、調製槽１０５
と平準化槽２０２との水頭圧力差によって調製槽１０５
内のアルカリ系現像液が自然に平準化槽２０２に送給さ
れ、調製槽１０５と平準化槽２０２との液面が略一定に
保たれる。

【００９４】また、ポンプ等を用いて調製槽１０５から
アルカリ系現像液を強制的に平準化槽２０２へ送給する
際に液流の乱れによる発泡及びポンプ駆動により発生す
るダスト等の異物混入といった問題が生じることが予想
される場合には、連通管を用いることが好ましい。

【００９５】またさらに、現像液製造装置２００が、平
準化槽２０２と加工設備との間に配置された図示しない
貯留槽を備えても好適である。かかる貯留槽は、平準化
槽２０２から送給されるアルカリ系現像液を貯留するた
めのものであり、ポンプ等の送液手段を有する管路又は
上述したような連通管を介して平準化槽２０２に接続さ
れる。

【００９６】このような貯留槽を備えると、平準化槽２
０２において平準化されたアルカリ系現像液のアルカリ
濃度を、より一層均一化することが可能となる。よっ
て、加工設備へ送給されるアルカリ系現像液のアルカリ
濃度の調整精度をより一層向上できる。また、調製済み
のアルカリ系現像液の貯留量を増大できるので、電子回
路等の加工設備におけるアルカリ系現像液の使用量の大
幅な増加に即時に対応することができる。また、それの
みならず、調製槽１０５及び／又は平準化槽２０２の保
守（メンテナンス）時において、加工設備を停止するこ
となく稼動させることが可能となる。

【００９７】また、調製槽１０５を複数備えてもよい。
調製槽１０５において調製されるアルカリ系現像液は、
アルカリ濃度測定手段１０７によってそのアルカリ濃度
が適正範囲に管理されるが、先述の如く、調製毎に所望
濃度に対して多少の誤差が生じ得る。

【００９８】これに対し、複数の調製槽１０５で調製さ
れたアルカリ系現像液を一度に平準化槽２０２に送給す
れば、各々の調製槽１０５で生じたアルカリ濃度の誤差
によるばらつきが、平準化槽２０２内で打ち消され、ア
ルカリ濃度を速やかに平均化することができる。また、
多重化により、例えば、複数の調製槽１０５のうちのい
ずれかが、故障、点検等のために稼動できなくなった場
合にも、他の調製槽１０５が稼動することでアルカリ系
現像液の製造を中断することなく継続できる利点があ
る。

【００９９】図３は、本発明による現像液製造装置の第
３実施形態の構成を模式的に示す系統図である。現像液
製造装置３００は、調製槽１０５及び平準化槽２０２が
一体に構成されていること以外は、図２に示す現像液製
造装置２００と同等の機能を奏するように構成されたも
のである。さらに、図４は、かかる一体化された調製槽
１０５及び平準化槽２０２の外形を模式的に示す斜視図
である。同図に示すように、両者は共に円筒状を成して
おり、調製槽１０５が平準化槽２０２の内部に同軸状に
配置されたいわゆる二重円筒構造が構成されている。

【０１００】かかる一体構成により、アルカリ系現像液
の高度な製造・管理機能を阻害することなく、加工設備
の付帯設備たる現像液製造装置３００の小型化が可能と
なり、近年、殊に要求が高まっている加工設備全体の小
型化に対応することができる。

【０１０１】図５は、本発明による現像液製造装置の第
４実施形態の構成を模式的に示す系統図である。現像液
製造装置４００は、調製槽１０５及び平準化槽２０２
に、流量調節弁及びポンプを有する独立した管路を介し
て接続された現像原液タンク４０１を更に備えること以
外は、図２に示す現像液製造装置２００と同様に構成さ
れたものである。現像原液タンク４０１は、現像原液タ
ンク１０１に供給される現像原液１と濃度が異なる現像
原液２が供給されるものである。

【０１０２】一般に、通常用いられる現像原液は、アル
カリ濃度が１５％〜３０％程度の範囲にある一方で、電
子回路基板等の加工設備で使用されるアルカリ系現像液
のアルカリ濃度は０．０５％〜２．５％である。例え
ば、アルカリ系現像液のアルカリ成分としてＴＭＡＨが
用いられる場合には、主としてアルカリ濃度２．３８％
の現像液が使用されている。

【０１０３】この場合、上記構成を有する現像液製造装
置４００において、例えば、現像原液タンク４０１の現
像原液２として、加工設備で使用されるアルカリ系現像
液のアルカリ濃度（例えば、ＴＭＡＨ溶液の場合は、
２．３８％）付近に調整されたものを用いれば、所望濃
度のアルカリ系現像液をより精度よく且つ一層迅速に調
製することが可能となる。なお、現像原液１及び現像原
液２のうちいずれを用いるかは、廃液量の削減等を考慮
して適宜選択することが可能である。

【０１０４】また、加工設備の製造ロット等により、ア
ルカリ濃度が極端に異なるアルカリ系現像液を調製する
際には、それぞれのアルカリ系現像液に要求されるアル
カリ濃度付近の現像原液を現像原液タンク１０１，４０
１に貯留し、その都度切り替えて使用することができ
る。すなわち、本発明による現像液製造装置及び方法に
おいて用いる現像原液１，２は、所定範囲のアルカリ濃
度から選択された任意のアルカリ濃度を有するものであ
る。

【０１０５】なお、上述した現像液製造装置１００，２
００，３００，４００は、多品種小ロットでの電子回路
基板等の製造に一層迅速に対応すべく、種々のアルカリ
濃度のアルカリ系現像液が使用される複数の加工設備の
各々に隣接するように又は一体に設置されてもよい。ま
た、現像液製造装置１００，２００，３００，４００の
前段に前述の特許第２７５１８４９号公報に記載の現像
液の希釈装置といった他の装置を設置してもよい。かか
る希釈装置を備えることにより、現像原液タンク４０１
に供給する現像原液２を簡便に調製し得る。さらに、液
量制御手段１０８，２０７及び液供給制御手段１０９
は、必ずしも独立に設ける必要はなく、これらの複数の
機能を備える制御機器を用いてもよい。

【０１０６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の現像液製
造装置及び現像液製造方法によれば、電子回路基板等の
加工設備のような使用側において、現像原液から所望濃
度の現像液を精度よく且つ迅速に製造することができ、
多品種小ロットでの基板の製造に十分に対応できると共
に、製造された現像液の組成及び濃度を精度よく管理す
ることが可能となる。

【０１０７】また、これらにより、現像原液の希釈装置
や供給側で予め調製した濃度が異なる種々のアルカリ系
現像液を使用側で保管するためのタンク等の設備が不要
となる。さらに、近年の市場の要求に伴う多品種小ロッ
トでの電子回路基板等の製造に使用される高精度に管理
された種々のアルカリ系現像液を、その加工設備及び製
造工程に迅速に供給することが可能となる。

【０１０８】またさらに、加工設備の付帯設備たる現像
液製造装置の小型化を達成し得る。さらにまた、アルカ
リ系現像液のアルカリ濃度のレンジ（ダイナミックレン
ジ）を広く設定することが可能となる。加えて、アルカ
リ系現像液の廃液量を低減でき、これにより、環境に対
する負荷を軽減しつつ更なるコストの削減を図ることが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による現像液製造装置の第１実施形態の
構成を模式的に示す系統図である。

【図２】本発明による現像液製造装置の第２実施形態の
構成を模式的に示す系統図である。

【図３】本発明による現像液製造装置の第３実施形態の
構成を模式的に示す系統図である。

【図４】図３に示す一体化された調製槽及び平準化槽の
外形を模式的に示す斜視図である。

【図５】本発明による現像液製造装置の第４実施形態の
構成を模式的に示す系統図である。

【符号の説明】

１，２…現像原液、１００，２００，３００，４００…
現像液製造装置、１０１，４０１…現像原液タンク、１
０５…調製槽、１０６…液量測定手段（第一液量測定手
段）、１０７…アルカリ濃度測定手段（第一アルカリ濃
度測定手段）、１０８…液量制御手段（第一液量制御手
段）、１０９…液供給制御手段、１１４…管路、１１６
…攪拌手段（攪拌機構）、２０２…平準化槽、２０３…
液量測定手段（第二液量測定手段）、２０４…アルカリ
濃度測定手段（第二アルカリ濃度測定手段）、２０７…
液量制御手段（第二液量制御手段）、２０９…窒素ガス
シール手段、２１１…微粒子数測定手段、２１３…フィ
ルタ（濾過機構）、２１４…溶存ガス除去手段。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 000214250 ナガセケムテックス株式会社 大阪府大阪市西区新町１丁目１番17号 (72)発明者 中川 俊元 神奈川県川崎市中原区田尻町31番地 株式 会社平間理化研究所内 (72)発明者 小川 修 東京都中央区日本橋小舟町５番１号 長瀬 産業株式会社内 (72)発明者 森田 悟 東京都中央区日本橋小舟町５番１号 長瀬 産業株式会社内 (72)発明者 菊川 誠 神奈川県横浜市港北区新横浜１−19−20サ ンハマダビル１階 ナガセシィエムエステ クノロジー株式会社内 (72)発明者 宝山 隆博 兵庫県龍野市龍野町中井236 ナガセケム テックス株式会社内 Ｆターム(参考） 2H096 AA25 AA26 GA25 GA30 GA33 5F046 LA03 LA19

Claims (21)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 微細加工が施された電子回路が形成され
   る加工設備に管路を介して接続されており、該加工設備
   で用いられるアルカリ系現像液が製造される装置であっ
   て、 現像原液と純水とが供給され且つ攪拌されて前記アルカ
   リ系現像液が調製される調製槽と、 前記調製槽内の前記アルカリ系現像液の量を測定する第
   一液量測定手段と、 前記調製槽内の前記アルカリ系現像液のアルカリ濃度を
   測定する第一アルカリ濃度測定手段と、 前記第一液量測定手段による測定値及び前記第一アルカ
   リ濃度測定手段による測定値に基づいて、前記調製槽内
   の前記アルカリ系現像液の量を調整する第一液量制御手
   段と、 前記第一液量測定手段による測定値及び前記第一アルカ
   リ濃度測定手段による測定値に基づいて、前記調製槽へ
   の前記現像原液の供給量及び前記純水の供給量のうち少
   なくともいずれか一方を調整する液供給制御手段と、を
   備える現像液製造装置。
2. 【請求項２】 前記調製槽と前記加工設備との間に配置
   されており、前記アルカリ系現像液のアルカリ濃度を平
   準化する平準化槽を備える、請求項１記載の現像液製造
   装置。
3. 【請求項３】 前記平準化槽が、該平準化槽内の前記ア
   ルカリ系現像液の量を測定する第二液量測定手段を備え
   るものである、請求項２記載の現像液製造装置。
4. 【請求項４】 前記平準化槽が、該平準化槽内の前記ア
   ルカリ系現像液のアルカリ濃度を測定する第二アルカリ
   濃度測定手段を備えるものである、請求項２又は３に記
   載の現像液製造装置。
5. 【請求項５】 前記平準化槽が、前記第二液量測定手段
   による測定値及び前記第二アルカリ濃度測定手段による
   測定値に基づいて、該平準化槽内の前記アルカリ系現像
   液の量を調整する第二液量制御手段を備えるものであ
   る、請求項２〜４のいずれか一項に記載の現像液製造装
   置。
6. 【請求項６】 前記平準化槽内の前記アルカリ系現像液
   を前記調製槽に還流送給する還流送給用管路を備える、
   請求項２〜５のいずれか一項に記載の現像液製造装置。
7. 【請求項７】 前記平準化槽が、該平準化槽内の前記ア
   ルカリ系現像液を攪拌する攪拌機構を備えるものであ
   る、請求項２〜６のいずれか一項に記載の現像液製造装
   置。
8. 【請求項８】 前記平準化槽が、該平準化槽内の前記ア
   ルカリ系現像液を濾過する濾過機構を備えるものであ
   る、請求項２〜７のいずれか一項に記載の現像液製造装
   置。
9. 【請求項９】 前記アルカリ系現像液を前記調製槽から
   前記平準化槽へ送給し、該調製槽における該アルカリ系
   現像液の液面レベル、及び該平準化槽における該アルカ
   リ系現像液の液面レベルを調整する液送給・液面レベル
   制御手段を備える、請求項２〜８のいずれか一項に記載
   の現像液製造装置。
10. 【請求項１０】 前記液送給・液面レベル制御手段は、 前記アルカリ系現像液が前記調製槽から前記平準化槽へ
    自然送液され、且つ、該調製槽及び該平準化槽に接続さ
    れた連通管を有するものである、請求項９記載の現像液
    製造装置。
11. 【請求項１１】 前記平準化槽と前記加工設備との間に
    設置されており、前記アルカリ系現像液が貯留される貯
    留槽を備える、請求項２〜１０のいずれか一項に記載の
    現像液製造装置。
12. 【請求項１２】 前記調製槽及び前記平準化槽を湿り窒
    素ガスでシールする湿り窒素ガスシール手段を備える、
    請求項２〜１１のいずれか一項に記載の現像液製造装
    置。
13. 【請求項１３】 前記調製槽を複数有するものである請
    求項１〜１２のいずれか一項に記載の現像液製造装置。
14. 【請求項１４】 前記調製槽と前記平準化槽とが一体に
    構成されたものである、請求項２〜１３のいずれか一項
    に記載の現像液製造装置。
15. 【請求項１５】 前記加工設備に供給される前の状態に
    おける前記アルカリ系現像液に含まれる微粒子数を測定
    する、微粒子数測定手段を備える、請求項１〜１４のい
    ずれか一項に記載の現像液製造装置。
16. 【請求項１６】 前記アルカリ系現像液に含まれる溶存
    ガスを除去する溶存ガス除去手段を備える、請求項１〜
    １５のいずれか一項に記載の現像液製造装置。
17. 【請求項１７】 前記第一液量測定手段が、前記アルカ
    リ系現像液の容積又は重量のうち少なくともいずれか一
    方を測定するものである、請求項１〜１６のいずれか一
    項に記載の現像液製造装置。
18. 【請求項１８】 前記第一アルカリ濃度測定手段が、導
    電率計、超音波濃度計、液体密度計及び自動滴定装置の
    うち少なくともいずれか一種である、請求項１〜１７の
    いずれか一項に記載の現像液製造装置。
19. 【請求項１９】 前記第二アルカリ濃度測定手段が、導
    電率計、超音波濃度計、液体密度計及び自動滴定装置の
    うち少なくともいずれか一種である、請求項４〜１８の
    いずれか一項に記載の現像液製造装置。
20. 【請求項２０】 前記現像原液は、所定範囲のアルカリ
    濃度から選択された任意のアルカリ濃度を有するもので
    ある、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の現像液製
    造装置。
21. 【請求項２１】 微細加工の施された電子回路を形成す
    る加工工程に管路を介して供給されるアルカリ系現像液
    を製造する方法であって、 現像原液と純水とを攪拌して前記アルカリ系現像液を調
    製する工程と、 前記アルカリ系現像液の量を測定する工程と、 前記アルカリ系現像液のアルカリ濃度を測定する工程
    と、 前記アルカリ系現像液の液量測定値及びアルカリ濃度測
    定値に基づいて該アルカリ系現像液の量を調整する工程
    と、 前記アルカリ系現像液の液量測定値及びアルカリ濃度測
    定値に基づいて、前記アルカリ系現像液を調製する工程
    への前記現像原液の供給量及び前記純水の供給量のうち
    少なくともいずれか一方を調整する工程と、を備える現
    像液製造方法。