JPH11262724A - レジスト組成物の再生方法および再生装置 - Google Patents
レジスト組成物の再生方法および再生装置Info
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- JPH11262724A JPH11262724A JP8927298A JP8927298A JPH11262724A JP H11262724 A JPH11262724 A JP H11262724A JP 8927298 A JP8927298 A JP 8927298A JP 8927298 A JP8927298 A JP 8927298A JP H11262724 A JPH11262724 A JP H11262724A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 スピナーから飛散したレジスト組成物を濃縮
し、所定の粘度に調整する方法および装置を提供する。 【解決手段】 回収したレジスト組成物の再生方法であ
って、前記レジスト組成物の粘度に基づいて溶剤の含有
率を算出し、この算出値と所定の粘度となる含有率との
差に基づいて前記溶剤の蒸発量を演算し、この演算値に
基づいて真空吸引を行い、前記真空吸引後のレジスト組
成物に溶剤を添加して希釈することを特徴としており、
またスピナーから飛散したレジスト組成物の蒸発槽と、
前記レジスト組成物の粘度測定手段と、前記蒸発槽内を
真空吸引する真空吸引手段と、前記レジスト組成物の希
釈槽とからなることを特徴としている。
し、所定の粘度に調整する方法および装置を提供する。 【解決手段】 回収したレジスト組成物の再生方法であ
って、前記レジスト組成物の粘度に基づいて溶剤の含有
率を算出し、この算出値と所定の粘度となる含有率との
差に基づいて前記溶剤の蒸発量を演算し、この演算値に
基づいて真空吸引を行い、前記真空吸引後のレジスト組
成物に溶剤を添加して希釈することを特徴としており、
またスピナーから飛散したレジスト組成物の蒸発槽と、
前記レジスト組成物の粘度測定手段と、前記蒸発槽内を
真空吸引する真空吸引手段と、前記レジスト組成物の希
釈槽とからなることを特徴としている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、シリコンウエハ
にレジスト組成物を塗布する工程において、露光されず
再利用可能なレジスト組成物を再利用できる性状に調整
するための再生方法および再生装置に関するものであ
る。
にレジスト組成物を塗布する工程において、露光されず
再利用可能なレジスト組成物を再利用できる性状に調整
するための再生方法および再生装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】レジスト組成物は、半導体工業等におい
て、大量に使用されており、たとえばＩＣを製作する
際、シリコンウエハにレジスト組成物をスピナーを用い
て塗布している。レジスト組成物の性状としては、膜圧
を均一にするために厳密な粘度管理が要求されており、
粘度の精度としては、±５×１０-4Pa・ s （±０．５c
P）が必要である。レジスト組成物は、前記粘度となる
ように予め溶剤で希釈され、所定の濃度に設定される。
また、スピナーで供給される溶剤には、このレジスト組
成物を希釈する溶剤と同種のものが使用されている。
て、大量に使用されており、たとえばＩＣを製作する
際、シリコンウエハにレジスト組成物をスピナーを用い
て塗布している。レジスト組成物の性状としては、膜圧
を均一にするために厳密な粘度管理が要求されており、
粘度の精度としては、±５×１０-4Pa・ s （±０．５c
P）が必要である。レジスト組成物は、前記粘度となる
ように予め溶剤で希釈され、所定の濃度に設定される。
また、スピナーで供給される溶剤には、このレジスト組
成物を希釈する溶剤と同種のものが使用されている。
【０００３】ところで、レジスト組成物の塗布工程にお
いては、レジスト組成物は、スピナーで供給される溶剤
により希釈されてレジスト組成物の濃度が低下する。し
たがって、そのままでは再利用できないので、レジスト
組成物と溶剤の濃度を調整して再利用できる形態にする
必要がある。
いては、レジスト組成物は、スピナーで供給される溶剤
により希釈されてレジスト組成物の濃度が低下する。し
たがって、そのままでは再利用できないので、レジスト
組成物と溶剤の濃度を調整して再利用できる形態にする
必要がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、前記問題
点に鑑み、回収したレジスト組成物を濃縮し、所定の粘
度に調整する再生方法および再生装置を提供することを
目的とするものである。
点に鑑み、回収したレジスト組成物を濃縮し、所定の粘
度に調整する再生方法および再生装置を提供することを
目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明は、前記課題を
解決するためになされたものであって、請求項１に記載
の発明は、回収したレジスト組成物の再生方法であっ
て、前記レジスト組成物の粘度に基づいて溶剤の含有率
を算出し、この算出値と所定の粘度となる含有率との差
に基づいて前記溶剤の蒸発量を演算し、この演算値に基
づいて真空吸引を行い、前記真空吸引後のレジスト組成
物に溶剤を添加して希釈することを特徴としており、ま
た請求項２に記載の発明は、真空吸引中に窒素ガスを供
給することを特徴としており、また請求項３に記載の発
明は、スピナーから飛散したレジスト組成物の蒸発槽
と、前記レジスト組成物の粘度測定手段と、前記蒸発槽
内を真空吸引する真空吸引手段と、前記レジスト組成物
の希釈槽とからなることを特徴としており、また請求項
４に記載の発明は、前記蒸発槽内への窒素ガス供給手段
を設けたことを特徴としており、また請求項５に記載の
発明は、前記真空吸引手段が液封式真空ポンプであるこ
とを特徴としており、また請求項６に記載の発明は、前
記液封式真空ポンプの封液として、溶剤を使用すること
を特徴としており、さらに請求項７に記載の発明は、前
記液封式真空ポンプの封液の冷却手段を設けたことを特
徴としている。
解決するためになされたものであって、請求項１に記載
の発明は、回収したレジスト組成物の再生方法であっ
て、前記レジスト組成物の粘度に基づいて溶剤の含有率
を算出し、この算出値と所定の粘度となる含有率との差
に基づいて前記溶剤の蒸発量を演算し、この演算値に基
づいて真空吸引を行い、前記真空吸引後のレジスト組成
物に溶剤を添加して希釈することを特徴としており、ま
た請求項２に記載の発明は、真空吸引中に窒素ガスを供
給することを特徴としており、また請求項３に記載の発
明は、スピナーから飛散したレジスト組成物の蒸発槽
と、前記レジスト組成物の粘度測定手段と、前記蒸発槽
内を真空吸引する真空吸引手段と、前記レジスト組成物
の希釈槽とからなることを特徴としており、また請求項
４に記載の発明は、前記蒸発槽内への窒素ガス供給手段
を設けたことを特徴としており、また請求項５に記載の
発明は、前記真空吸引手段が液封式真空ポンプであるこ
とを特徴としており、また請求項６に記載の発明は、前
記液封式真空ポンプの封液として、溶剤を使用すること
を特徴としており、さらに請求項７に記載の発明は、前
記液封式真空ポンプの封液の冷却手段を設けたことを特
徴としている。
【０００６】
【発明の実施の形態】つぎに、この発明の実施の形態に
ついて説明する。この発明は、シリコンウエハにレジス
ト組成物を塗布する工程において、スピナーから飛散し
たレジスト組成物を再利用できるように再生を行う方法
において好適に実施できる。この発明によるレジスト組
成物の再生方法について説明すると、まずスピナーから
飛散したレジスト組成物を蒸発槽内へ導入する。このレ
ジスト組成物は、スピナーで供給される溶剤によって希
釈されて、レジスト組成物の濃度が低下している。そし
て、前記レジスト組成物の粘度および容積を測定した
後、この粘度に基づいて溶剤の含有率を算出する。この
算出値と所定の粘度，すなわち塗布工程に再利用できる
粘度との差に基づいて前記溶剤の蒸発量を演算し、この
蒸発量に基づいて所定の粘度となるレジスト組成物の容
積（第一目標容積）を演算する。そして、前記蒸発槽に
設けた真空吸引手段である液封式真空ポンプを作動させ
ることにより、前記蒸発槽と前記液封式真空ポンプとの
温度差に起因する溶剤の蒸気圧差による拡散作用が生
じ、前記蒸発槽内のレジスト組成物の溶剤が蒸発し、前
記液封式真空ポンプにおいて凝縮する。この結果、前記
蒸発槽内のレジスト組成物の容積が前記第一目標容積よ
りも減少し、レジスト組成物の粘度が所定の粘度より大
となる。そして、前記真空吸引後のレジスト組成物を希
釈槽内へ導入し、この希釈槽において溶剤を添加して希
釈していき、前記レジスト組成物の容積が第二目標容積
に達して前記レジスト組成物の粘度が所定の粘度に達し
たとき、溶剤の添加を終了することによって、前記レジ
スト組成物の粘度を所定の粘度に調整する。
ついて説明する。この発明は、シリコンウエハにレジス
ト組成物を塗布する工程において、スピナーから飛散し
たレジスト組成物を再利用できるように再生を行う方法
において好適に実施できる。この発明によるレジスト組
成物の再生方法について説明すると、まずスピナーから
飛散したレジスト組成物を蒸発槽内へ導入する。このレ
ジスト組成物は、スピナーで供給される溶剤によって希
釈されて、レジスト組成物の濃度が低下している。そし
て、前記レジスト組成物の粘度および容積を測定した
後、この粘度に基づいて溶剤の含有率を算出する。この
算出値と所定の粘度，すなわち塗布工程に再利用できる
粘度との差に基づいて前記溶剤の蒸発量を演算し、この
蒸発量に基づいて所定の粘度となるレジスト組成物の容
積（第一目標容積）を演算する。そして、前記蒸発槽に
設けた真空吸引手段である液封式真空ポンプを作動させ
ることにより、前記蒸発槽と前記液封式真空ポンプとの
温度差に起因する溶剤の蒸気圧差による拡散作用が生
じ、前記蒸発槽内のレジスト組成物の溶剤が蒸発し、前
記液封式真空ポンプにおいて凝縮する。この結果、前記
蒸発槽内のレジスト組成物の容積が前記第一目標容積よ
りも減少し、レジスト組成物の粘度が所定の粘度より大
となる。そして、前記真空吸引後のレジスト組成物を希
釈槽内へ導入し、この希釈槽において溶剤を添加して希
釈していき、前記レジスト組成物の容積が第二目標容積
に達して前記レジスト組成物の粘度が所定の粘度に達し
たとき、溶剤の添加を終了することによって、前記レジ
スト組成物の粘度を所定の粘度に調整する。
【０００７】さらに、真空吸引中に前記蒸発槽内へ窒素
ガスを供給することにより、溶剤の蒸発を促進すること
ができる。
ガスを供給することにより、溶剤の蒸発を促進すること
ができる。
【０００８】つぎに、この発明を実施したレジスト組成
物の再生装置について説明する。前記再生装置にあって
は、スピナーから飛散したレジスト組成物を導入する蒸
発槽を備えている。この蒸発槽には、蒸発槽へ導入した
レジスト組成物の粘度を測定する粘度測定手段が接続さ
れているとともに、前記蒸発槽内を真空吸引する真空吸
引手段が接続されている。また、前記蒸発槽から導入し
たレジスト組成物に溶剤を添加して希釈する希釈槽を備
えている。
物の再生装置について説明する。前記再生装置にあって
は、スピナーから飛散したレジスト組成物を導入する蒸
発槽を備えている。この蒸発槽には、蒸発槽へ導入した
レジスト組成物の粘度を測定する粘度測定手段が接続さ
れているとともに、前記蒸発槽内を真空吸引する真空吸
引手段が接続されている。また、前記蒸発槽から導入し
たレジスト組成物に溶剤を添加して希釈する希釈槽を備
えている。
【０００９】さらに、真空吸引中において、前記蒸発槽
内のレジスト組成物の溶剤の蒸発を促進するために、前
記蒸発槽の底部に窒素ガス供給手段を設けている。
内のレジスト組成物の溶剤の蒸発を促進するために、前
記蒸発槽の底部に窒素ガス供給手段を設けている。
【００１０】前記真空吸引手段としては、液封式真空ポ
ンプが好適に用いられる。この液封式真空ポンプの封液
は、封液タンクから供給されるが、封液として、前記レ
ジスト組成物に使用する溶剤を用いるのが好ましい。ま
た、この封液は、封液タンクに冷却手段を設けて、冷却
するのが好ましく、この冷却により、前記のような前記
蒸発槽内の溶剤の蒸発を促進することができる。
ンプが好適に用いられる。この液封式真空ポンプの封液
は、封液タンクから供給されるが、封液として、前記レ
ジスト組成物に使用する溶剤を用いるのが好ましい。ま
た、この封液は、封液タンクに冷却手段を設けて、冷却
するのが好ましく、この冷却により、前記のような前記
蒸発槽内の溶剤の蒸発を促進することができる。
【００１１】
【実施例】以下、この発明の具体的実施例を図面に基づ
いて詳細に説明する。この発明の第一実施例を示す図１
について説明する。図1 は、この発明に係るレジスト組
成物の再生装置の構成を示す概略説明図である。
いて詳細に説明する。この発明の第一実施例を示す図１
について説明する。図1 は、この発明に係るレジスト組
成物の再生装置の構成を示す概略説明図である。
【００１２】図１において、スピナー（図示省略）から
飛散したレジスト組成物を一時的に貯留しておくための
原液槽１と攪拌器２を備えた蒸発槽３の上部とを原液供
給ライン４で接続している。この攪拌器２は、前記蒸発
槽３内を一様に攪拌するような回転羽根を形成してお
り、またその回転軸は、前記蒸発槽３との接触部におい
てシール構造を備え、外気の侵入を防止するようになっ
ている。前記原液供給ライン４には、原液供給ポンプ５
および第一電磁弁６が上流側から順次設けられている。
また、前記蒸発槽３の下部とレジスト組成物の粘度を測
定する粘度測定部７とを第一粘度測定ライン８で接続し
ている。この第一粘度測定ライン８には、第二電磁弁９
が設けられている。そして、後述するように、前記第一
粘度測定ライン８に前記蒸発槽３内のレジスト組成物を
前記粘度測定部７へ供給するポンプ（図示省略）を設け
ることや、あるいは前記蒸発槽３の上部に前記蒸発槽３
内へ窒素ガスを供給する第一窒素ガス供給ライン（図示
省略）を設けることも、実施に応じて好適である。
飛散したレジスト組成物を一時的に貯留しておくための
原液槽１と攪拌器２を備えた蒸発槽３の上部とを原液供
給ライン４で接続している。この攪拌器２は、前記蒸発
槽３内を一様に攪拌するような回転羽根を形成してお
り、またその回転軸は、前記蒸発槽３との接触部におい
てシール構造を備え、外気の侵入を防止するようになっ
ている。前記原液供給ライン４には、原液供給ポンプ５
および第一電磁弁６が上流側から順次設けられている。
また、前記蒸発槽３の下部とレジスト組成物の粘度を測
定する粘度測定部７とを第一粘度測定ライン８で接続し
ている。この第一粘度測定ライン８には、第二電磁弁９
が設けられている。そして、後述するように、前記第一
粘度測定ライン８に前記蒸発槽３内のレジスト組成物を
前記粘度測定部７へ供給するポンプ（図示省略）を設け
ることや、あるいは前記蒸発槽３の上部に前記蒸発槽３
内へ窒素ガスを供給する第一窒素ガス供給ライン（図示
省略）を設けることも、実施に応じて好適である。
【００１３】そして、前記蒸発槽３の下部とレジスト組
成物に溶剤を添加して希釈する希釈槽１０とを希釈槽供
給ライン１１で接続している。この希釈槽供給ライン１
１には、第三電磁弁１２が設けられている。また、前記
粘度測定部７と前記希釈槽１０の下部とを第二粘度測定
ライン１３で接続している。この第二粘度測定ライン１
３には、第四電磁弁１４が設けられている。そして、後
述するように、前記第二粘度測定ライン１３に前記希釈
槽１０内のレジスト組成物を前記粘度測定部７へ供給す
るポンプ（図示省略）を設けることや、あるいは前記希
釈槽１０の上部に前記希釈槽１０内へ窒素ガスを供給す
る第二窒素ガス供給ライン（図示省略）を設けること
も、実施に応じて好適である。また、レジスト組成物を
希釈するための溶剤を貯留した溶剤槽１５と前記希釈槽
１０の上部とを溶剤供給ライン１６で接続している。こ
の溶剤供給ライン１６には、溶剤供給ポンプ１７および
第五電磁弁１８が上流側から順次設けられている。さら
に、前記希釈槽１０の下部には、処理液ライン１９が接
続されており、この処理液ライン１９には、第六電磁弁
２０が設けられている。
成物に溶剤を添加して希釈する希釈槽１０とを希釈槽供
給ライン１１で接続している。この希釈槽供給ライン１
１には、第三電磁弁１２が設けられている。また、前記
粘度測定部７と前記希釈槽１０の下部とを第二粘度測定
ライン１３で接続している。この第二粘度測定ライン１
３には、第四電磁弁１４が設けられている。そして、後
述するように、前記第二粘度測定ライン１３に前記希釈
槽１０内のレジスト組成物を前記粘度測定部７へ供給す
るポンプ（図示省略）を設けることや、あるいは前記希
釈槽１０の上部に前記希釈槽１０内へ窒素ガスを供給す
る第二窒素ガス供給ライン（図示省略）を設けること
も、実施に応じて好適である。また、レジスト組成物を
希釈するための溶剤を貯留した溶剤槽１５と前記希釈槽
１０の上部とを溶剤供給ライン１６で接続している。こ
の溶剤供給ライン１６には、溶剤供給ポンプ１７および
第五電磁弁１８が上流側から順次設けられている。さら
に、前記希釈槽１０の下部には、処理液ライン１９が接
続されており、この処理液ライン１９には、第六電磁弁
２０が設けられている。
【００１４】ここで、前記蒸発槽３は、前記原液槽１か
ら導入されたレジスト組成物を加温して恒温に維持する
ための手段（以下、「加温手段」という。）２１を備え
ている。この加温手段２１としては、たとえば電気ヒー
タあるいは温水を熱源とした加熱器等が用いられる。ま
た、前記蒸発槽３には、前記蒸発槽３内の液位を検出す
るための第一液位計２２が設けられている。この第一液
位計２２としては、たとえば液面センサ，静電センサ等
の電気式のものが用いられる。また、前記希釈槽１０に
は、前記希釈槽１０内の液位を検出するための第二液位
計２３が設けられている。この第二液位計２３として
は、前記第一液位計２２と同様のものが用いられる。
ら導入されたレジスト組成物を加温して恒温に維持する
ための手段（以下、「加温手段」という。）２１を備え
ている。この加温手段２１としては、たとえば電気ヒー
タあるいは温水を熱源とした加熱器等が用いられる。ま
た、前記蒸発槽３には、前記蒸発槽３内の液位を検出す
るための第一液位計２２が設けられている。この第一液
位計２２としては、たとえば液面センサ，静電センサ等
の電気式のものが用いられる。また、前記希釈槽１０に
は、前記希釈槽１０内の液位を検出するための第二液位
計２３が設けられている。この第二液位計２３として
は、前記第一液位計２２と同様のものが用いられる。
【００１５】また、前記蒸発槽３の上部とこの蒸発槽３
内を真空吸引する液封式真空ポンプ２４とを真空吸引ラ
イン２５で接続している。そして、この液封式真空ポン
プ２４と封液タンク２６の下部とを封液ライン２７で接
続するとともに、前記液封式真空ポンプ２４と前記封液
タンク２６の上部とを排気ライン２８で接続している。
この封液タンク２６には、この封液タンク２６内の封液
を冷却するための冷却器２９が設けられている。この冷
却器２９としては、図示した冷水発生器の他に、コイル
を設けてその中に冷却水を通してもよい。また、封液と
しては、レジスト組成物に使用する溶剤と同種の溶剤が
用いられる。
内を真空吸引する液封式真空ポンプ２４とを真空吸引ラ
イン２５で接続している。そして、この液封式真空ポン
プ２４と封液タンク２６の下部とを封液ライン２７で接
続するとともに、前記液封式真空ポンプ２４と前記封液
タンク２６の上部とを排気ライン２８で接続している。
この封液タンク２６には、この封液タンク２６内の封液
を冷却するための冷却器２９が設けられている。この冷
却器２９としては、図示した冷水発生器の他に、コイル
を設けてその中に冷却水を通してもよい。また、封液と
しては、レジスト組成物に使用する溶剤と同種の溶剤が
用いられる。
【００１６】そして、前記原液供給ポンプ５，前記各電
磁弁６，９，１２，１４，１８，２０，前記粘度測定部
７，前記溶剤供給ポンプ１７，前記加温手段２１，前記
第一液位計２２，前記第二液位計２３および前記液封式
真空ポンプ２４は、それぞれ第一〜第十三信号線３０，
３１，３２，３３，３４，３５，３６，３７，３８，３
９，４０，４１，４２を介して制御器４３に接続されて
いる。
磁弁６，９，１２，１４，１８，２０，前記粘度測定部
７，前記溶剤供給ポンプ１７，前記加温手段２１，前記
第一液位計２２，前記第二液位計２３および前記液封式
真空ポンプ２４は、それぞれ第一〜第十三信号線３０，
３１，３２，３３，３４，３５，３６，３７，３８，３
９，４０，４１，４２を介して制御器４３に接続されて
いる。
【００１７】つぎに、前記第一実施例の構成におけるレ
ジスト組成物の再生方法について説明する。まず、レジ
スト組成物の塗布工程において、スピナー（図示省略）
から飛散したレジスト組成物が原液槽１に貯留される。
このレジスト組成物は、スピナーで供給される溶剤によ
って希釈されて、レジスト組成物の濃度が低下してい
る。そして、制御器４３を介して第一電磁弁６：開とす
るとともに、原液供給ポンプ５を起動する。この結果、
前記原液槽１内のレジスト組成物は、原液供給ライン４
を介して蒸発槽３内へ導入される。前記蒸発槽３内へ導
入されたレジスト組成物は、攪拌器２によって攪拌さ
れ、この攪拌は、再生工程が終了するまで継続する。
ジスト組成物の再生方法について説明する。まず、レジ
スト組成物の塗布工程において、スピナー（図示省略）
から飛散したレジスト組成物が原液槽１に貯留される。
このレジスト組成物は、スピナーで供給される溶剤によ
って希釈されて、レジスト組成物の濃度が低下してい
る。そして、制御器４３を介して第一電磁弁６：開とす
るとともに、原液供給ポンプ５を起動する。この結果、
前記原液槽１内のレジスト組成物は、原液供給ライン４
を介して蒸発槽３内へ導入される。前記蒸発槽３内へ導
入されたレジスト組成物は、攪拌器２によって攪拌さ
れ、この攪拌は、再生工程が終了するまで継続する。
【００１８】そして、前記制御器４３を介して第二電磁
弁９：開とする。さらに、前記のように第一粘度測定ラ
イン８にポンプ（図示省略）を設けている場合は、この
ポンプを作動させ、あるいは第一窒素ガス供給ライン
（図示省略）を設けている場合は、この第一窒素ガス供
給ラインを介して前記蒸発槽３内へ窒素ガスを供給して
前記蒸発槽３内を加圧する。この結果、前記蒸発槽３内
のレジスト組成物の一部が前記第一粘度測定ライン８を
介して粘度測定部７へ流入し、この粘度測定部７におい
てその粘度が測定される。一方、第一液位計２２によ
り、前記蒸発槽３内のレジスト組成物の容積が測定され
る。この後、前記のように測定されたレジスト組成物の
粘度および容積の値は、各信号線３７および４０を介し
て前記制御器４３へ出力される。
弁９：開とする。さらに、前記のように第一粘度測定ラ
イン８にポンプ（図示省略）を設けている場合は、この
ポンプを作動させ、あるいは第一窒素ガス供給ライン
（図示省略）を設けている場合は、この第一窒素ガス供
給ラインを介して前記蒸発槽３内へ窒素ガスを供給して
前記蒸発槽３内を加圧する。この結果、前記蒸発槽３内
のレジスト組成物の一部が前記第一粘度測定ライン８を
介して粘度測定部７へ流入し、この粘度測定部７におい
てその粘度が測定される。一方、第一液位計２２によ
り、前記蒸発槽３内のレジスト組成物の容積が測定され
る。この後、前記のように測定されたレジスト組成物の
粘度および容積の値は、各信号線３７および４０を介し
て前記制御器４３へ出力される。
【００１９】さて、これらの各信号を受けた前記制御器
４３には、レジスト組成物および溶剤の組成比率に対す
る粘度が予め設定されており、前記制御器４３は、この
予め設定されている粘度に基づいて溶剤の含有率を算出
し、この算出値と所定の粘度との差に基づいて前記溶剤
の蒸発量を演算する。そして、この蒸発量に基づいて所
定の粘度となるレジスト組成物の容積，すなわち第一目
標容積を演算する。ここで、所定の粘度とは、塗布工程
に使用される，すなわち再利用できる初期のレジスト組
成物の粘度である。
４３には、レジスト組成物および溶剤の組成比率に対す
る粘度が予め設定されており、前記制御器４３は、この
予め設定されている粘度に基づいて溶剤の含有率を算出
し、この算出値と所定の粘度との差に基づいて前記溶剤
の蒸発量を演算する。そして、この蒸発量に基づいて所
定の粘度となるレジスト組成物の容積，すなわち第一目
標容積を演算する。ここで、所定の粘度とは、塗布工程
に使用される，すなわち再利用できる初期のレジスト組
成物の粘度である。
【００２０】そして、前記制御器４３を介して加温手段
２１を作動させ、前記蒸発槽３内のレジスト組成物を加
温した後、５０℃前後の恒温に維持する。それと同時
に、前記制御器４３を介して液封式真空ポンプ２４を作
動させる。この液封式真空ポンプ２４の封液は、冷却器
２９により２０℃程度に冷却されており、したがって前
記蒸発槽３と前記液封式真空ポンプ２４との温度差に起
因する溶剤の蒸気圧差による拡散作用が生じる。その結
果、前記蒸発槽３内のレジスト組成物の溶剤が蒸発し、
前記液封式真空ポンプ２４において凝縮するとともに、
発生する溶剤の気泡により前記蒸発槽３内のレジスト組
成物が攪拌される。このように、溶剤の蒸気が封液に回
収されるので、引火性のある溶剤を飛散させることな
く、安全に回収することができる。また、この真空吸引
過程において、レジスト組成物中の溶存気体が脱気さ
れ、塗布工程時の気泡による塗布不良を防止することが
できる。
２１を作動させ、前記蒸発槽３内のレジスト組成物を加
温した後、５０℃前後の恒温に維持する。それと同時
に、前記制御器４３を介して液封式真空ポンプ２４を作
動させる。この液封式真空ポンプ２４の封液は、冷却器
２９により２０℃程度に冷却されており、したがって前
記蒸発槽３と前記液封式真空ポンプ２４との温度差に起
因する溶剤の蒸気圧差による拡散作用が生じる。その結
果、前記蒸発槽３内のレジスト組成物の溶剤が蒸発し、
前記液封式真空ポンプ２４において凝縮するとともに、
発生する溶剤の気泡により前記蒸発槽３内のレジスト組
成物が攪拌される。このように、溶剤の蒸気が封液に回
収されるので、引火性のある溶剤を飛散させることな
く、安全に回収することができる。また、この真空吸引
過程において、レジスト組成物中の溶存気体が脱気さ
れ、塗布工程時の気泡による塗布不良を防止することが
できる。
【００２１】前記蒸発槽３内のレジスト組成物の液位が
低下すると、前記第一液位計２２が、前記第一目標容積
よりもわずかに少ない容積に到達したことを検知する。
ここにおいて、前記蒸発槽３内のレジスト組成物は、そ
の粘度が所定の粘度より大きい状態，すなわちレジスト
組成物の濃度が高く、過濃縮した状態となる。そして、
前記第一液位計２２は、前記検知信号を前記制御器４３
へ出力し、この検知信号を受けた前記制御器４３は、前
記加温手段２１を停止する。
低下すると、前記第一液位計２２が、前記第一目標容積
よりもわずかに少ない容積に到達したことを検知する。
ここにおいて、前記蒸発槽３内のレジスト組成物は、そ
の粘度が所定の粘度より大きい状態，すなわちレジスト
組成物の濃度が高く、過濃縮した状態となる。そして、
前記第一液位計２２は、前記検知信号を前記制御器４３
へ出力し、この検知信号を受けた前記制御器４３は、前
記加温手段２１を停止する。
【００２２】一方、前記液封式真空ポンプ２４は運転を
継続しており、したがって前記蒸発槽３内のレジスト組
成物の溶剤は、引き続き蒸発し、この蒸発に伴って前記
蒸発槽３内の温度が低下する。そして、前記蒸発槽３内
に設けた温度センサ（図示省略）が、前記蒸発槽３内の
温度が約２０〜４０℃の常温に低下したことを検知し、
この検知信号を前記制御器４３へ出力する。この検知信
号を受けた前記制御器４３は、前記液封式真空ポンプ２
４を停止し、これにより、前記蒸発槽３内の真空状態が
徐々に破壊され、前記蒸発槽３内の圧力は、大気圧とな
る。
継続しており、したがって前記蒸発槽３内のレジスト組
成物の溶剤は、引き続き蒸発し、この蒸発に伴って前記
蒸発槽３内の温度が低下する。そして、前記蒸発槽３内
に設けた温度センサ（図示省略）が、前記蒸発槽３内の
温度が約２０〜４０℃の常温に低下したことを検知し、
この検知信号を前記制御器４３へ出力する。この検知信
号を受けた前記制御器４３は、前記液封式真空ポンプ２
４を停止し、これにより、前記蒸発槽３内の真空状態が
徐々に破壊され、前記蒸発槽３内の圧力は、大気圧とな
る。
【００２３】そして、前記制御器４３を介して第三電磁
弁１２：開とすることにより、前記蒸発槽３内のレジス
ト組成物は、希釈槽供給ライン１１を介して希釈槽１０
へ流入する。
弁１２：開とすることにより、前記蒸発槽３内のレジス
ト組成物は、希釈槽供給ライン１１を介して希釈槽１０
へ流入する。
【００２４】そして、前記制御器４３を介して第四電磁
弁１４：開とする。さらに、前記のように第二粘度測定
ライン１３にポンプ（図示省略）を設けている場合は、
このポンプを作動させ、あるいは第二窒素ガス供給ライ
ン（図示省略）を設けている場合は、この第二窒素ガス
供給ラインを介して前記希釈槽１０内へ窒素ガスを供給
して前記希釈槽１０内を加圧する。この結果、前記希釈
槽１０内のレジスト組成物の一部が前記第二粘度測定ラ
イン１３を介して前記粘度測定部７へ流入し、前記粘度
測定部７においてその粘度が測定される。一方、第二液
位計２３により、前記希釈槽１０内のレジスト組成物の
容積が測定される。この後、前記のように測定されたレ
ジスト組成物の粘度および容積の値は、前記各信号線３
７および４１を介して前記制御器４３へ出力される。
弁１４：開とする。さらに、前記のように第二粘度測定
ライン１３にポンプ（図示省略）を設けている場合は、
このポンプを作動させ、あるいは第二窒素ガス供給ライ
ン（図示省略）を設けている場合は、この第二窒素ガス
供給ラインを介して前記希釈槽１０内へ窒素ガスを供給
して前記希釈槽１０内を加圧する。この結果、前記希釈
槽１０内のレジスト組成物の一部が前記第二粘度測定ラ
イン１３を介して前記粘度測定部７へ流入し、前記粘度
測定部７においてその粘度が測定される。一方、第二液
位計２３により、前記希釈槽１０内のレジスト組成物の
容積が測定される。この後、前記のように測定されたレ
ジスト組成物の粘度および容積の値は、前記各信号線３
７および４１を介して前記制御器４３へ出力される。
【００２５】さて、これらの各信号を受けた前記制御器
４３は、前記第一目標容積の演算と同様にして、所定の
粘度に調整するために溶剤を添加した後のレジスト組成
物の容積，すなわち第二目標容積を演算し、これより溶
剤の添加量を演算する。
４３は、前記第一目標容積の演算と同様にして、所定の
粘度に調整するために溶剤を添加した後のレジスト組成
物の容積，すなわち第二目標容積を演算し、これより溶
剤の添加量を演算する。
【００２６】そして、前記制御器４３を介して第五電磁
弁１８：開とするとともに、溶剤供給ポンプ１７を起動
し、溶剤槽１５内の溶剤を前記希釈槽１０内へ導入し
て、レジスト組成物を希釈する。
弁１８：開とするとともに、溶剤供給ポンプ１７を起動
し、溶剤槽１５内の溶剤を前記希釈槽１０内へ導入し
て、レジスト組成物を希釈する。
【００２７】そして、前記制御器４３を介して第六電磁
弁２０：開とすることにより、前記のように所定の粘度
に調整されたレジスト組成物は、処理液ライン１９を介
して取り出され、再生工程が終了する。
弁２０：開とすることにより、前記のように所定の粘度
に調整されたレジスト組成物は、処理液ライン１９を介
して取り出され、再生工程が終了する。
【００２８】ところで、前記第一実施例において、前記
粘度測定部７を前記蒸発槽３および前記希釈槽１０とは
別個に設けているが、前記蒸発槽３および前記希釈槽１
０にそれぞれ攪拌による回転トルクを測定する手段を付
設してもよい。回転トルクの増減量を測定することによ
り、粘度計を用いないで、レジスト組成物の粘度に対応
した変化を測定する。そして、前記目標容積の代わりに
所定の粘度となる目標トルクを設定し、この目標トルク
に到達させるように前記蒸発槽３および前記希釈槽１０
内のレジスト組成物をそれぞれ蒸発，希釈する方法も実
施に応じて好適である。
粘度測定部７を前記蒸発槽３および前記希釈槽１０とは
別個に設けているが、前記蒸発槽３および前記希釈槽１
０にそれぞれ攪拌による回転トルクを測定する手段を付
設してもよい。回転トルクの増減量を測定することによ
り、粘度計を用いないで、レジスト組成物の粘度に対応
した変化を測定する。そして、前記目標容積の代わりに
所定の粘度となる目標トルクを設定し、この目標トルク
に到達させるように前記蒸発槽３および前記希釈槽１０
内のレジスト組成物をそれぞれ蒸発，希釈する方法も実
施に応じて好適である。
【００２９】また、前記蒸発槽３内のレジスト組成物の
容積変化，すなわち溶剤の蒸発量を前記第一液位計２２
によって測定しているが、前記液封式真空ポンプ２４に
おける溶剤の凝縮量を測定して、レジスト組成物の容積
を間接的に前記第一目標容積以下にする方法もある。こ
の場合、前記溶剤の凝縮量は、前記封液タンク２６の液
位変化量を測定することにより、あるいは前記排気ライ
ン２８に流量計を設けて測定することにより求めること
ができる。
容積変化，すなわち溶剤の蒸発量を前記第一液位計２２
によって測定しているが、前記液封式真空ポンプ２４に
おける溶剤の凝縮量を測定して、レジスト組成物の容積
を間接的に前記第一目標容積以下にする方法もある。こ
の場合、前記溶剤の凝縮量は、前記封液タンク２６の液
位変化量を測定することにより、あるいは前記排気ライ
ン２８に流量計を設けて測定することにより求めること
ができる。
【００３０】また、前記第一実施例の構成において、前
記原液供給ポンプ５を作動させて前記蒸発槽３内へ原液
を導入するが、前記液封式真空ポンプ２４を作動させて
前記蒸発槽３内を真空吸引することによっても、前記蒸
発槽３内へ原液を導入することができる。したがって、
前記構成において、前記原液供給ポンプ５を省略するこ
とができる。
記原液供給ポンプ５を作動させて前記蒸発槽３内へ原液
を導入するが、前記液封式真空ポンプ２４を作動させて
前記蒸発槽３内を真空吸引することによっても、前記蒸
発槽３内へ原液を導入することができる。したがって、
前記構成において、前記原液供給ポンプ５を省略するこ
とができる。
【００３１】さらに、前記第一実施例におけるレジスト
組成物の再生方法によれば、回収したレジスト組成物の
原液を前記蒸発槽３内へ導入した後、前記粘度測定部７
において粘度を測定するが、前記原液槽１へ原液を導入
した段階で、予め粘度を測定しておくこともできる。こ
の方法によれば、前記蒸発槽３内を真空吸引して原液を
前記蒸発槽３内へ導入し、この真空吸引を継続しなが
ら、前記のとおり説明したレジスト組成物の容積測定，
目標容積の演算処理およびレジスト組成物の恒温維持を
行った後、前記希釈槽１０においてレジスト組成物の希
釈を行うことにより、レジスト組成物を再生する。
組成物の再生方法によれば、回収したレジスト組成物の
原液を前記蒸発槽３内へ導入した後、前記粘度測定部７
において粘度を測定するが、前記原液槽１へ原液を導入
した段階で、予め粘度を測定しておくこともできる。こ
の方法によれば、前記蒸発槽３内を真空吸引して原液を
前記蒸発槽３内へ導入し、この真空吸引を継続しなが
ら、前記のとおり説明したレジスト組成物の容積測定，
目標容積の演算処理およびレジスト組成物の恒温維持を
行った後、前記希釈槽１０においてレジスト組成物の希
釈を行うことにより、レジスト組成物を再生する。
【００３２】つぎに、この発明の第二実施例を示す図２
について説明する。図２は、この発明に係るレジスト組
成物の再生装置の構成を示す概略説明図である。第二実
施例は、前記第一実施例の構成に窒素ガス供給手段４４
を加えたものである。この窒素ガス供給手段４４は、前
記蒸発槽３の底部に設けられており、第十四信号線４５
を介して前記制御器４３に接続されている。前記窒素ガ
ス供給手段４４を除く構成は、前記第一実施例と同一で
あり、したがってその詳細な説明は省略する。
について説明する。図２は、この発明に係るレジスト組
成物の再生装置の構成を示す概略説明図である。第二実
施例は、前記第一実施例の構成に窒素ガス供給手段４４
を加えたものである。この窒素ガス供給手段４４は、前
記蒸発槽３の底部に設けられており、第十四信号線４５
を介して前記制御器４３に接続されている。前記窒素ガ
ス供給手段４４を除く構成は、前記第一実施例と同一で
あり、したがってその詳細な説明は省略する。
【００３３】つぎに、前記第二実施例の構成におけるレ
ジスト組成物の再生方法について説明する。このレジス
ト組成物の再生方法の基本的な過程は、前記第一実施例
と同様なので、相違点のみを説明する。すなわち、液封
式真空ポンプ２４を作動させると同時に、制御器４３を
介して窒素ガス供給手段４４を作動させ、蒸発槽３内の
液相部へ微量の窒素ガスを供給する。この窒素ガスの気
泡は、前記窒素ガス供給手段４４の噴射ノズル（図示省
略）の作用によって微細化されるとともに、前記蒸発槽
３内が真空吸引されていることにより、その容積が増加
する。この気泡の作用によって前記蒸発槽３内が攪拌さ
れ、また溶剤の蒸気を伴流し、したがって溶剤の蒸発が
促進される。
ジスト組成物の再生方法について説明する。このレジス
ト組成物の再生方法の基本的な過程は、前記第一実施例
と同様なので、相違点のみを説明する。すなわち、液封
式真空ポンプ２４を作動させると同時に、制御器４３を
介して窒素ガス供給手段４４を作動させ、蒸発槽３内の
液相部へ微量の窒素ガスを供給する。この窒素ガスの気
泡は、前記窒素ガス供給手段４４の噴射ノズル（図示省
略）の作用によって微細化されるとともに、前記蒸発槽
３内が真空吸引されていることにより、その容積が増加
する。この気泡の作用によって前記蒸発槽３内が攪拌さ
れ、また溶剤の蒸気を伴流し、したがって溶剤の蒸発が
促進される。
【００３４】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、回収
したレジスト組成物の再生方法であって、前記レジスト
組成物の粘度に基づいて溶剤の含有率を算出し、この算
出値と所定の粘度となる含有率との差に基づいて前記溶
剤の蒸発量を演算し、この演算値に基づいて真空吸引を
行い、前記真空吸引後のレジスト組成物に溶剤を添加し
て希釈するので、希釈されたレジスト組成物を濃縮し、
所定の粘度に調整することにより、効率よく再生するこ
とができる。また、前記蒸発槽内の真空吸引手段とし
て、溶剤と同種の封液を使用した液封式真空ポンプを用
いるとともに、封液を冷却するので、溶剤が蒸気として
飛散することがなく、溶剤を安全かつ効率的に封液中へ
回収することができる。
したレジスト組成物の再生方法であって、前記レジスト
組成物の粘度に基づいて溶剤の含有率を算出し、この算
出値と所定の粘度となる含有率との差に基づいて前記溶
剤の蒸発量を演算し、この演算値に基づいて真空吸引を
行い、前記真空吸引後のレジスト組成物に溶剤を添加し
て希釈するので、希釈されたレジスト組成物を濃縮し、
所定の粘度に調整することにより、効率よく再生するこ
とができる。また、前記蒸発槽内の真空吸引手段とし
て、溶剤と同種の封液を使用した液封式真空ポンプを用
いるとともに、封液を冷却するので、溶剤が蒸気として
飛散することがなく、溶剤を安全かつ効率的に封液中へ
回収することができる。
【図１】この発明に係るレジスト組成物の再生装置の第
一実施例の構成を示す概略説明図である。
一実施例の構成を示す概略説明図である。
【図２】この発明に係るレジスト組成物の再生装置の第
二実施例の構成を示す概略説明図である。
二実施例の構成を示す概略説明図である。
１…原液槽 ２…攪拌器 ３…蒸発槽 ４…原液供給ライン ７…粘度測定部 ８…第一粘度測定ライン １０…希釈槽 １１…希釈槽供給ライン １３…第二粘度測定ライン １５…溶剤槽 １６…溶剤供給ライン １９…処理液ライン ２１…加温手段 ２２…第一液位計 ２３…第二液位計 ２４…液封式真空ポンプ ２５…真空吸引ライン ２６…封液タンク ２７…封液ライン ２８…排気ライン ２９…冷却器 ４３…制御器 ４４…窒素ガス供給手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ０５Ｄ 3/00 Ｂ０５Ｄ 3/00 Ｅ Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｚ
Claims (7)
- 【請求項１】 回収したレジスト組成物の再生方法であ
って、前記レジスト組成物の粘度に基づいて溶剤の含有
率を算出し、この算出値と所定の粘度となる含有率との
差に基づいて前記溶剤の蒸発量を演算し、この演算値に
基づいて真空吸引を行い、前記真空吸引後のレジスト組
成物に溶剤を添加して希釈することを特徴とするレジス
ト組成物の再生方法。 - 【請求項２】 真空吸引中に窒素ガスを供給することを
特徴とする請求項１に記載のレジスト組成物の再生方
法。 - 【請求項３】 スピナーから飛散したレジスト組成物の
蒸発槽と、前記レジスト組成物の粘度測定手段と、前記
蒸発槽内を真空吸引する真空吸引手段と、前記レジスト
組成物の希釈槽とからなることを特徴とするレジスト組
成物の再生装置。 - 【請求項４】 前記蒸発槽内への窒素ガス供給手段を設
けたことを特徴とする請求項３に記載のレジスト組成物
の再生装置。 - 【請求項５】 前記真空吸引手段が液封式真空ポンプで
あることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の
レジスト組成物の再生装置。 - 【請求項６】 前記液封式真空ポンプの封液として、溶
剤を使用することを特徴とする請求項５に記載のレジス
ト組成物の再生装置。 - 【請求項７】 前記液封式真空ポンプの封液の冷却手段
を設けたことを特徴とする請求項５または請求項６に記
載のレジスト組成物の再生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8927298A JPH11262724A (ja) | 1998-03-18 | 1998-03-18 | レジスト組成物の再生方法および再生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8927298A JPH11262724A (ja) | 1998-03-18 | 1998-03-18 | レジスト組成物の再生方法および再生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11262724A true JPH11262724A (ja) | 1999-09-28 |
Family
ID=13966117
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8927298A Pending JPH11262724A (ja) | 1998-03-18 | 1998-03-18 | レジスト組成物の再生方法および再生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11262724A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004206098A (ja) * | 2002-12-13 | 2004-07-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 色分割光透過構造物用調整光反応型配合物 |
| JP2007103895A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-04-19 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | レジスト液供給装置及び当該レジスト液供給装置を得るための改造キット |
| JP2022033602A (ja) * | 2020-08-17 | 2022-03-02 | 株式会社神戸製鋼所 | 粘度測定装置 |
-
1998
- 1998-03-18 JP JP8927298A patent/JPH11262724A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004206098A (ja) * | 2002-12-13 | 2004-07-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 色分割光透過構造物用調整光反応型配合物 |
| JP4580637B2 (ja) * | 2002-12-13 | 2010-11-17 | 大日本印刷株式会社 | 色分割光透過構造物用調整光反応型配合物 |
| JP2007103895A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-04-19 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | レジスト液供給装置及び当該レジスト液供給装置を得るための改造キット |
| JP2022033602A (ja) * | 2020-08-17 | 2022-03-02 | 株式会社神戸製鋼所 | 粘度測定装置 |
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