JPH0799175A

JPH0799175A - 処理液の供給方法及び供給装置

Info

Publication number: JPH0799175A
Application number: JP13144394A
Authority: JP
Inventors: Kaoru Sato; 薫佐藤
Original assignee: Nippon Steel Corp
Current assignee: Nippon Steel Corp
Priority date: 1993-06-04
Filing date: 1994-05-20
Publication date: 1995-04-11

Abstract

(57)【要約】【目的】洗浄処理やエッチング処理等において、処理
槽内の処理液を常に安定した状態に保つことができるよ
うにする。【構成】処理槽１内の処理液２の濃度や組成等の変化
を処理液２の蒸気圧または発生気体量の変化としてとら
え、その処理液２の蒸気圧または発生気体量を、処理液
２の液面上に配置した検出管７により検出して圧力計測
器８または気体量計測器によって計測する。この計測値
に基づいて演算制御器９により演算を行い、定量ポンプ
５を制御して、処理液タンク４から所定量の処理液２を
処理液供給管６を通じて処理槽１内に自動的に追加供給
する。これにより、処理槽１内の処理液２が常に安定し
た状態に保たれる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体装置の製
造工程で使用される洗浄装置等に付属して各種の処理液
を供給するための方法及び装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置の製造工程においては、ウエ
ハ等の半導体基板に対するウエット洗浄やウエットエッ
チング等、各種の洗浄液やエッチング液等の処理液を使
用する工程が多い。

【０００３】このような洗浄処理やエッチング処理等に
おける従来の処理液の供給装置は、例えば図１０に示す
ように、処理液１６を入れた容器１１、定量ポンプ１
２、処理液供給管１３等からなり、処理液１６を定量ポ
ンプ１２により一定量だけ処理液供給管１３を通じて処
理槽１４内に供給するように構成されている。

【０００４】そして、洗浄処理における上記処理液１６
としては、純水だけの場合もあるが、ウエハの表面にお
ける種々の汚染物に対する洗浄能力の違いから、数種類
の薬液を混合した混合処理液を用いて洗浄効果を高めて
いる。また、エッチング処理における上記処理液１６と
しても、エッチング除去する各種の薄膜に応じて、各種
の薬液を混合した混合処理液が使用されている。さら
に、このような処理液１６は適当な温度に加熱して使用
すると処理効果が一層高くなるので、処理槽１４内に設
けられた加熱ヒータ１５によって処理液１６を加熱する
ことも一般的に行われている。

【０００５】また、他の従来の湿式エッチング装置を図
１１のブロック図に基づき説明する。同図において、耐
蝕性の処理槽２１の底部には、ヒータ２２が配置されて
いる。処理槽２１の内部には、リン酸を純水によって希
釈して得られる熱リン酸２３がヒータ２２によって常時
沸騰状態に加熱されている。この場合、処理槽２１に
は、当該処理槽２１に貯溜されている熱リン酸２３の温
度を計測する温度センサ２４と、当該処理槽２１の内部
に開放端が挿入され、他端部が図示しない純水供給源に
接続された純水供給管２７と、この純水供給管２７の途
中に配置され、当該純水供給管２７から処理槽２１の内
部に注入される純水２８の流量を制御する純水供給バル
ブ２６とが設けられている。

【０００６】温度センサ２４と、純水供給バルブ２６と
の間には、バルブ制御器２５が介設されており、温度セ
ンサ２４からの沸点上昇検出信号２４ａに基づいて、純
水供給バルブ２６の開度を制御するバルブ開閉指令信号
２５ａを当該純水供給バルブ２６に与える動作を行う。

【０００７】例えば、従来の湿式エッチング装置は、特
開平４−１８８７２８号公報に記載されている。また、
処理槽の処理液中の汚濁物濃度を測定し、処理液を処理
槽に補給する方法及び装置は、特開平３−１０７４７７
号公報に記載されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した図
１０に示したような処理槽１４内の処理液１６による処
理プロセス中に、例えば加熱ヒータ１５での処理液１６
の加熱等による処理液１６の蒸発等によって、処理液１
６の濃度や組成等が変化してしまう。例えば、エッチン
グ液として使用されるリン酸水溶液は１６０〜１７０℃
程度に加熱して使用するが、水分が蒸発することによっ
てエッチングレートが大きく変化する。また、複数の薬
液を混合した混合処理液では、水分の蒸発だけでなく、
処理の進行に伴う薬液の化学変化による蒸発によっても
濃度や組成等が変化する。さらに、洗浄液として使用さ
れる硫酸−過酸化水素水混合液は１００〜１４０℃程度
に加熱して使用されるが、過酸化水素水の分解・蒸発に
よって濃度や組成等が大きく変化する。

【０００９】このように、処理槽１４内の処理液１６の
蒸発・分解等によって、処理液１６の濃度や組成等が変
化するが、従来は、処理槽１４内に処理液１６を一定量
だけ供給していたので、処理液１６の状態変化に充分に
対応することができなかった。

【００１０】このため、常に安定した洗浄処理やエッチ
ング処理等を行うことができなくなり、この結果、処理
液１６による処理の安定性やスループットが大幅に低下
するという問題があった。

【００１１】なお、処理プロセス中に、処理槽１４内の
処理液１６の比重などを測定して濃度をモニタすること
が試みられてはいるが、特に腐蝕性の処理液や高温の処
理液の場合には、測定器具の材質等の問題があるので、
処理液１６の濃度を常時モニタするのは困難で、処理槽
１４内の処理液１６を常に安定した状態に保つことは容
易でない。

【００１２】また、近赤外線を用いた透過分光測定を行
って、その結果より自動的に処理液を供給して濃度や組
成を保つ方法があるが、装置構成が複雑になり、装置コ
ストが大幅に増加してしまうという問題がある。

【００１３】また、処理槽の処理液の補給のために温度
センサや濃度検出センサなどを処理槽の処理液に浸して
補給制御を行っていたが、センサが腐蝕してしまい処理
槽の処理液の温度や濃度の計測が正確に行えないため、
処理槽内に安定した量の処理液を供給することが困難で
あった。

【００１４】そこで本発明は、処理槽内の処理液を常に
安定した状態に保つことができる処理液の供給方法及び
供給装置を提供することを目的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による処理液の供給方法は、処理槽内に供給
されている処理液の液面上の少なくとも一箇所において
その処理液より発生する気体の蒸気圧または気体の量を
計測し、前記気体の蒸気圧または前記気体の量の計測結
果に応じて少なくとも一種の所定量の処理液を前記処理
槽内に供給するものである。

【００１６】また、本発明による処理液の供給装置は、
処理槽内に少なくとも一種の処理液を供給する処理液供
給手段と、前記処理槽内の処理液の液面上の少なくとも
一箇所においてその処理液より発生する気体の蒸気圧ま
たは気体の量を計測する気体計測手段と、この気体計測
手段の計測値に基づいて前記処理液供給手段を制御する
制御手段とを備え、前記気体計測手段による前記気体の
蒸気圧または前記気体の量の計測結果に応じて、前記制
御手段により前記処理液供給手段を制御して、前記処理
槽内に少なくとも一種の所定量の処理液を供給するよう
に構成したものである。

【００１７】

【作用】上記のように構成された本発明によれば、処理
槽内に予め供給されている処理液の濃度や組成等の変化
を、その処理液より発生する気体の蒸気圧または気泡等
の気体の量の変化として計測する。そして、この蒸気圧
または気体量の計測結果に応じて、処理槽内に所定量の
処理液を自動的に追加供給する。これにより、処理槽内
の処理液を常に安定した状態に保つことができる。しか
も、処理液を直接測定することなく、処理液より発生す
る気体の蒸気圧または気体の量を計測するので、特に腐
蝕性の処理液や高温の処理液の場合でも、測定器具の材
質等を問題にすることなく、常に確実な計測を連続的に
行うことができる。

【００１８】

【実施例】以下、本発明による処理液の供給方法及び供
給装置の実施例を図１〜図９を参照して説明する。

【００１９】まず、図１は第１実施例における供給装置
の概略構成図である。同図において、本実施例の供給装
置によって処理液が供給される処理槽１に予め一定量の
処理液２が供給されている。この処理槽１は上方が開放
され、ここからウエハ等の半導体基板（図示せず）が処
理液２に対して挿脱される。処理槽１内には処理液２を
所定の温度に加熱する（或いは予め加熱された処理液２
を所定の温度に保つ）ための加熱ヒータ３が設けられて
いる。処理液２は処理液タンク４内に貯溜されており、
定量ポンプ５によって処理液供給管６を通じて処理槽１
内に供給される。

【００２０】そして、この供給装置においては、処理槽
１内における処理液２の蒸気圧を計測するために、検出
管７と圧力計測器８とが設けられている。検出管７はそ
の下端を処理液２に浸した状態で配置されており、これ
により処理液２の液面上における検出管７の内部が蒸気
圧検出用の閉塞空間となっている。そして、この検出管
７内の蒸気圧が圧力計測器８によって計測される。

【００２１】そして、圧力計測器８の出力は演算制御器
９に送られ、この演算制御器９は圧力計測器８による蒸
気圧の計測値に基づいて演算を行い、定量ポンプ５を制
御する。なお、演算制御器９には、処理液２の種類や温
度等に対応させて、その処理液２の濃度や組成と蒸気圧
との関係が予め設定されている。圧力計測器８には、検
出管７に残存する処理液２の気体を排出する（若しくは
検出管７の負圧の状態を所定の圧力に戻す）ための排気
用のバルブ１０が配接管を介して（若しくは直接）接続
されている。

【００２２】この排気用のバルブ１０の開閉は、演算制
御器９により制御される。以下に、処理槽１内の処理液
２から発生する気体による蒸気圧測定によって処理槽１
内に処理液２を供給する構成を、図５に基づき具体的に
説明する。図５は第１実施例（後述の第２実施例も同
様）の蒸気圧測定のフローチャートである。同図におい
て、検出管７を介して圧力計測器８で処理槽１内の処理
液２から発生する気体の蒸気圧を計測する場合は、ま
ず、演算制御器９によりバルブ１０を閉める制御を行う
（ステップＡ）。次に、圧力計測器８にて検出管７を介
して処理槽１内の処理液２から発生する気体の蒸気圧を
計測する（ステップＢ）。圧力計測器８により計測され
た計測結果を演算制御器９にて演算し、演算制御器９に
予め設定された蒸気圧の数値と演算された計測結果とを
対比する。この予め設定された蒸気圧の数値と計測結果
とが合致し（若しくはその近辺の数値に達し）たら、演
算制御器９から定量ポンプ５を作動して処理液タンク４
の所定量の処理液２を処理槽１内に供給するように制御
する（ステップＣ）。処理槽１内に処理液２の供給が終
わったら、演算制御器９によりバルブ１０を開く制御を
行う（ステップＤ）。検出管７に残存する処理液２の気
体を排出し（若しくは検出管７の負圧の状態を所定の圧
力に戻し）たら、ステップＡに戻る。

【００２３】上記のように構成された処理液の供給装置
によれば、処理槽１内の処理液２による処理プロセス中
に、例えば加熱ヒータ３での処理液２の加熱等による処
理液２の蒸発等によって、処理液２の濃度変化や組成変
化が起こる。この変化を検出管７内で処理液２の蒸気圧
の変化として検出し、圧力計測器８により計測する。こ
の計測値に基づいて、演算制御器９により演算を行い、
再び処理槽１内の処理液２が始めの適正な濃度や組成の
状態に戻るように定量ポンプ５を制御する。

【００２４】これにより、処理液タンク４から所定量の
処理液２が処理液供給管６を通じて処理槽１内に自動的
に追加供給される。この結果、処理槽１内の処理液２を
常に安定した状態に保つことができる。しかも、処理液
２を直接測定することなく、処理液２の蒸気圧を計測す
るので、特に処理液２が腐蝕性や高温の場合であって
も、測定器具の材質等を問題にすることなく、常に確実
な計測を連続的に行うことができる。なお、処理プロセ
ス中における処理液２の蒸気圧の計測の都度、排気用の
バルブ１０を開閉することによって、その計測を極めて
正確に行うことができる。

【００２５】なお、処理槽１が上方開放型の場合、処理
液２の蒸気は液面上の外気と混ざり合うことになる。と
ころが、本実施例においては、検出管７の下端を処理液
２の液面に浸すことによって、その液面上に蒸気圧検出
用の閉塞空間を形成しているので、上方開放型の処理槽
１であっても、処理液２の液面上の蒸気圧を極めて高精
度に検出することができる。なお、処理プロセス中に処
理液２の液面上が密閉空間となる処理槽の場合には、そ
の密閉空間内の蒸気圧を計測すればよい。なお、第１実
施例の処理液２は、例えば（Ｈ₃ＰＯ₄＋Ｈ₂Ｏ）の水
溶液の場合に想定することができる。

【００２６】次に、図２は第２実施例における供給装置
の概略構成図である。この例においては、処理槽１内の
処理液２として、例えば薬液２Ａ、薬液２Ｂ、純水２Ｃ
からなる混合処理液を使用している。薬液２Ａ、薬液２
Ｂ、純水２Ｃはタンク４Ａ、４Ｂ、４Ｃに貯溜され、そ
れぞれ定量ポンプ５Ａ、５Ｂ、５Ｃによって個別に供給
管６Ａ、６Ｂ、６Ｃを通じて処理槽１内に供給される。

【００２７】第１実施例と同様に、検出管７と圧力計測
器８と演算制御器９とが設けられ、圧力計測器８には、
検出管７に残存する処理液２の気体を排出する（若しく
は検出管７の負圧の状態を所定の圧力に戻す）ための排
気用のバルブ１０が接続されている。

【００２８】この第２実施例においては、図５で説明し
た演算制御器９の制御機能に加えて、検出管７及び圧力
計測器８による混合処理液２の蒸気圧の計測結果に応じ
て、演算制御器９は定量ポンプ５Ａ、５Ｂ、５Ｃを選択
的に制御して、必要な薬液２Ａ、薬液２Ｂ、純水２Ｃを
選択的に所定量だけ処理槽１内に自動的に追加供給す
る。これにより、処理槽１内の混合処理液２を常に安定
した状態に保つことができる。なお、この例のような混
合処理液２の場合には、検出管７及び圧力計測器８を薬
液２Ａ、薬液２Ｂ、純水２Ｃに対応させて複数設けても
よい。例えば、（薬液２Ａ・薬液２Ｂ）は、（Ｈ₃ＰＯ
₄溶液）または（ＮＨ₄ＯＨ溶液・Ｈ₂Ｏ₂）また（Ｈ
₂ＳＯ₄溶液）を想定することができる。

【００２９】ところで、上記第１及び第２実施例におい
ては、検出管７を処理液２の液面上の１箇所に配置した
が、処理槽１の構造や形状、処理液供給管６による処理
液２の供給位置、加熱ヒータ３による処理液２の加熱状
態、処理液２に対するウエハの挿脱方法等によって、処
理液２の液面上の蒸気圧は必ずしも均一ではない。

【００３０】そこで、図３に示すように、検出管７を処
理液２の液面上の複数箇所に配置し、各々の検出管７及
び圧力計測器８による蒸気圧の計測値を、演算制御器９
によって平均化するように構成してもよい。このように
検出管７を複数箇所に設けると、液面上の蒸気圧を全体
的に平均化して計測することができ、計測精度をさらに
向上させることができる。

【００３１】また、図４に示すように、検出管７′を処
理槽１の上部に蓋状に配置して処理液２の液面上を密閉
空間Ａとし、検出管７′及び圧力計測器８による蒸気圧
の計測を行ってもよい。このように検出管７′を蓋状に
配置することにより、液面上の蒸気圧を全体的に計測す
ることができ、計測精度をさらに向上させることができ
る。

【００３２】次に、図６は第３実施例における供給装置
の概略構成図である。同図において、処理液が供給され
る処理槽１に予め一定量の処理液２が供給されている。
この処理槽１は上方が開放され、ここからウエハ等の半
導体基板（図示せず）が処理液２に対して挿脱される。
処理槽１内には処理液２を所定の温度に加熱する（或い
は予め加熱された処理液２を所定の温度に保つ）ための
加熱ヒータ３が設けられている。処理液２は処理液タン
ク４内に貯溜されており、定量ポンプ５によって処理液
供給管６を通じて処理槽１内に供給される。

【００３３】また、処理槽１内における処理液２より発
生する気体の量を計測するために、検出管７と気体量計
測器８′とが設けられている。検出管７はその下端を処
理液２に浸した状態で配置されており、これにより処理
液２の液面上における検出管７の内部が発生気体量検出
用の閉塞空間となっている。そして、この検出管７内の
処理液２からの発生気体量が気体量計測器８′によって
計測される。なお、気体量計測器８′がフローセンサで
あってもよい。

【００３４】また、気体量計測器８′には検出管７を介
して測定された気体を排出する排出用バルブを配置して
いても構わない。例えば気体量計測器８′をフローセン
サとして気体量（若しくは気体流量）を測定した場合
に、測定済み気体を外に排出しながら処理槽１内の処理
液２から発生する気体の流量を正確に測定することが可
能となる。

【００３５】そして、気体量計測器８′の出力は演算制
御器９′に送られ、この演算制御器９′は気体量計測器
８′による発生気体量の計測値に基づいて演算を行い、
定量ポンプ５を制御する。なお、演算制御器９′には、
処理液２の種類や温度条件等に対応させて、その処理液
２の濃度や組成と発生気体量との関係が予め設定されて
いる。

【００３６】上記のように構成された処理液の供給装置
によれば、処理槽１内の処理液２による処理プロセス中
に、例えば加熱ヒータ３での処理液２の加熱等による処
理液２の蒸発や分解や化学反応等によって、処理液２の
濃度変化や組成変化が起こる。この変化を検出管７内で
処理液２から発生する発生気体量の変化として検出し、
気体量計測器８′により計測する。この計測値に基づい
て、演算制御器９′により演算を行い、再び処理槽１内
の処理液２が始めの適正な濃度や組成の状態に戻るよう
に定量ポンプ５を制御する。

【００３７】これにより、処理液タンク４から所定量の
処理液２が処理液供給管６を通じて処理槽１内に自動的
に追加供給される。この結果、処理槽１内の処理液２を
常に安定した状態に保つことができる。しかも、処理液
２を直接測定することなく、処理液２からの発生気体量
を計測するので、特に処理液２が腐蝕性や高温の場合で
あっても、センサ等の測定器具の材質等を問題にするこ
となく、常に確実な計測を連続的に行うことができる。
例えば処理液中に浸しておいて測定を行う温度センサや
濃度センサのように、センサが腐蝕するというような問
題はない。

【００３８】なお、処理槽１が上方開放型の場合、処理
液２より発生する気体は液面上の外気と混ざり合うこと
になる。ところが、本実施例においては、検出管７の下
端を処理液２の液面に浸すことによって、その液面上に
発生気体量検出用の閉塞空間を形成しているので、処理
槽１内の処理液２より発生する気体が外気と混合するこ
となく、処理液２の発生気体量を正確に検出することが
できる。従って、上方開放型の処理槽１であっても、処
理液２の液面上の発生気体量を極めて高精度に検出する
ことが可能となる。

【００３９】なお、処理プロセス中に処理液２の液面上
が密閉空間となる処理槽の場合には、その密閉空間内の
発生気体量を計測すればよい。例えば、図９に示すよう
に、検出管７′を処理槽１の上部に蓋状に配置して処理
液２の液面上を密閉空間Ａとし、検出管７′及び気体量
計測器８′による発生気体量の計測を行ってもよい。こ
のように検出管７′を蓋状に配置することにより、液面
上の発生気体量を全体的に計測することができ、計測精
度をさらに向上させることができる。

【００４０】次に、図７は第４実施例における供給装置
の概略構成図である。同図において処理槽１内の処理液
２として、第１の薬液２Ａ、薬液２Ａと異なる第２の薬
液２Ｂ、純水２Ｃからなる混合処理液２を使用する場合
は、処理槽１の外部に薬液２Ａ、薬液２Ｂ、純水２Ｃを
貯溜したタンク４Ａ、４Ｂ、４Ｃを配置し、それぞれ定
量ポンプ５Ａ、５Ｂ、５Ｃによって個別に供給管６Ａ、
６Ｂ、６Ｃを通じて処理槽１内に供給し、処理槽１に配
置した検出管７とこの検出管７に接続した気体量計測器
８′とによる混合処理液２の発生気体量の計測結果に応
じて、演算制御器９′は定量ポンプ５Ａ、５Ｂ、５Ｃを
選択的に制御して、必要な薬液２Ａ、薬液２Ｂ、純水２
Ｃを選択的に所定量だけ処理槽１内に自動的に追加供給
する。これにより、処理槽１内の混合処理液２を常に安
定した状態に保つことができる。なお、この例のような
混合処理液２の場合には、図８に示すように、検出管７
Ａ、７Ｂ、７Ｃと気体量計測器８Ａ′、８Ｂ′、８Ｃ′
とを、それぞれ薬液２Ａ、薬液２Ｂ、純水２Ｃに対応さ
せて複数設けてもよい。

【００４１】また、上記第３及び第４実施例において
は、検出管７を処理液２の液面上の１箇所に配置した
が、処理槽１の構造や形状、処理液供給管６による処理
液２の供給位置、加熱ヒータ３による処理液２の加熱状
態、処理液２に対するウエハの挿脱方法等によって、処
理液２の液面上の発生気体量は必ずしも均一ではない。

【００４２】そこで、図８に示すように、検出管７Ａ、
７Ｂ、７Ｃを処理液２の液面上の複数箇所に配置し、各
々の検出管７Ａ、７Ｂ、７Ｃと気体量計測器８Ａ′、８
Ｂ′、８Ｃ′とによる発生気体量の計測値を、演算制御
器９′によって平均化するように構成してもよい。この
ように検出管７Ａ、７Ｂ、７Ｃを複数箇所に設けると、
液面上の発生気体量を全体的に平均化して計測すること
ができ、計測精度をさらに向上させることができる。

【００４３】なお、処理液２が（Ｈ₃ＰＯ₄＋Ｈ₂Ｏ）
水溶液の場合、第３実施例が好ましい。また、薬液２
Ａ、薬液２Ｂ、純水２Ｃの混合処理液２の場合、（薬液
２Ａ・薬液２Ｂ）の組み合わせは、（Ｈ₃ＰＯ₄溶
液）、（ＮＨ₄ＯＨ溶液・Ｈ₂Ｏ₂）、（Ｈ₂ＳＯ₄溶
液）が好ましい。

【００４４】以上、本発明の実施例に付き説明したが、
本発明は上記実施例に限定されることなく、本発明の技
術的思想に基づいて各種の有効な変更並びに応用が可能
である。例えば、実施例では演算制御器により定量ポン
プを制御したが、処理液供給管に設けたバルブの開閉を
制御してもよい。また、処理液によっては、第１及び第
２実施例と第３及び第４実施例とを組み合わせて実施す
ることによって処理槽の処理液の供給を正確に行える場
合は、組み合わせても何ら問題はない。なお、本発明
は、処理液の状態の安定化を必要とする各種の処理液の
供給方法及び供給装置に適用可能である。

【００４５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
処理槽内の処理液の濃度や組成等の変化を処理液の蒸気
圧の変化または処理液からの発生気体量の変化としてと
らえ、その蒸気圧または発生気体量の計測結果に応じ
て、処理槽内に所定量の処理液を追加供給することによ
って、処理槽内の処理液を常に安定した状態に保つこと
ができる。これによって、洗浄処理やエッチング処理等
における安定性やスループットを大幅に向上させること
ができる。しかも、処理液を直接測定することなく、処
理液の蒸気圧または処理液からの発生気体量を計測する
ことによって、特に腐蝕性の処理液や高温の処理液の場
合でも、測定器具の材質等を問題にすることなく、常に
確実な計測を連続的に行うことができるので、処理液の
安定化に際して極めて微妙な制御が可能となる。かくし
て、半導体装置等の性能と信頼性を向上させ、また、製
造歩留りやスループットを向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による処理液の供給装置の第１実施例に
おける概略構成図である。

【図２】本発明による処理液の供給装置の第２実施例に
おける概略構成図である。

【図３】上記各実施例における検出管の別の配置例を示
す要部の概略図である。

【図４】上記各実施例における検出管のさらに別の配置
例を示す概略構成図である。

【図５】上記各実施例における蒸気圧測定のフローチャ
ートである。

【図６】本発明による処理液の供給装置の第３実施例に
おける概略構成図である。

【図７】本発明による処理液の供給装置の第４実施例に
おける概略構成図である。

【図８】上記各実施例における検出管の別の配置例を示
す要部の概略図である。

【図９】上記各実施例における検出管のさらに別の配置
例を示す概略構成図である。

【図１０】従来の処理液の供給装置における概略構成図
である。

【図１１】他の従来の湿式エッチング装置における概略
構成図である。

【符号の説明】

１処理槽２処理液３加熱ヒータ４、４Ａ、４Ｂ、４Ｃ処理液タンク５、５Ａ、５Ｂ、５Ｃ定量ポンプ６、６Ａ、６Ｂ、６Ｃ処理液供給管７、７′、７Ａ、７Ｂ、７Ｃ検出管８圧力計測器８′、８Ａ′、８Ｂ′、８Ｃ′ 気体量計測器９、９′ 演算制御器１０排気用バルブ２Ａ、２Ｂ薬液２Ｃ純水

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】処理槽内に供給されている処理液の液面
上の少なくとも一箇所においてその処理液より発生する
気体の蒸気圧または気体の量を計測し、前記気体の蒸気
圧または前記気体の量の計測結果に応じて少なくとも一
種の所定量の処理液を前記処理槽内に供給することを特
徴とする処理液の供給方法。
【請求項２】処理槽内に少なくとも一種の処理液を供
給する処理液供給手段と、前記処理槽内の処理液の液面
上の少なくとも一箇所においてその処理液より発生する
気体の蒸気圧または気体の量を計測する気体計測手段
と、この気体計測手段の計測値に基づいて前記処理液供
給手段を制御する制御手段とを備え、前記気体計測手段による前記気体の蒸気圧または前記気
体の量の計測結果に応じて、前記制御手段により前記処
理液供給手段を制御して、前記処理槽内に少なくとも一
種の所定量の処理液を供給するように構成したことを特
徴とする処理液の供給装置。
【請求項３】請求項２記載の処理液の供給装置におい
て、前記気体計測手段が、前記処理槽内の処理液の液面
上に蒸気圧または気体量検出用の閉塞空間を形成する検
出管を具備することを特徴とする処理液の供給装置。
【請求項４】請求項２または３記載の処理液の供給装
置において、前記処理液供給手段が、前記処理槽内に複
数の処理液を個別に供給する手段であり、前記制御手段
が、前記気体計測手段による前記気体の蒸気圧または前
記気体の量の計測結果に応じて前記処理槽内に所定量の
複数の処理液を選択的に供給すべく前記処理液供給手段
を制御する手段であることを特徴とする処理液の供給装
置。
【請求項５】請求項２、３または４記載の処理液の供
給装置において、前記処理槽内の処理液より発生する気
体の蒸気圧の計測結果に応じて前記処理液供給手段を制
御する場合の前記制御手段が、前記気体計測手段を介し
て計測された気体の蒸気圧を排出する開閉バルブを制御
するバルブ開閉制御手段と、前記気体計測手段による前
記気体の蒸気圧の計測値と予め設定された蒸気圧の数値
とを対比して算出した算出データに基づいて前記処理液
供給手段を制御する処理液供給制御手段とを具備するこ
とを特徴とする処理液の供給装置。