TWM545941U - 藥液調製供給裝置及藥液使用費算出系統、與電解液調製供給裝置及電解液使用費算出系統 - Google Patents

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Description

藥液調製供給裝置及藥液使用費算出系統、與電解液調製供給裝置及電解液使用費算出系統
本創作係關於半導體或液晶顯示器製程所使用的各種藥液的調製供給裝置、所調製的各種藥液的使用費算出方法、及藥液使用費算出系統、與用於製造各種電池的各種電解液的調製供給裝置、所調製的各種電解液的使用費算出方法、及電解液使用費算出系統。
半導體或液晶顯示器的製程中，會使用到例如顯影液、蝕刻液、剝離液、帶電防止劑、清洗液等的各種藥液。此外，在電池的製造中也要使用各種電解液。為了讓這些藥液或電解液(以下，在不需特別加以區別的情況中，藥液與電解液統稱為「藥液」。)發揮其性能的最大限度，而調製成能因應所需的預定濃度來使用。
傳統上，這些藥液的使用者係依據下述的任 一種形態來準備要使用的藥液。亦即，第一種形態為，從藥液製造廠購入所需濃度的各種藥液來使用。第二種形態為，從裝置廠商購入已將各種藥液調製成所需濃度進行供給的裝置(以下有稱為「藥液調製供給裝置」的情形。)，並組裝於藥液使用設備，藉該裝置自行一邊從藥液原料製造所需濃度的藥液，一邊加以使用。
例如，專利文獻1或專利文獻2即揭示有藥液調製供給裝置。專利文獻1中係揭示從固體原料調製以草酸為主成分的蝕刻液的藥液調製供給裝置。此外，專利文獻2中則揭示在高濃度的顯影液原液中加入純水以調製經稀釋為預定濃度的顯影液的藥液調製供給裝置。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2003-209092號公報
[專利文獻2]日本特開2002-324753號公報
但，在傳統的態樣中，使用藥液的一方(以下有稱為「使用者側」的情形。)必須在每次需要的時候購入並提供所需濃度的藥液，或者，必須購入如專利文獻1或2所載的藥液調製供給裝置加以運用。
因此，使用者側必須一直持續擔負每次需要的時候都要提供所需濃度的藥液的責任、每次需要的時候提供藥液原料的責任、或者購入及運用藥液調製供給 裝置並執行維持管理的責任。
本創作係有鑑於上述的各項課題而研發者。亦即，本創作之目的係在提供使用者側不用背負上述的責任就能使用藥液的藥液調製供給裝置、藥液使用費算出方法及藥液使用費算出系統、與電解液調製供給裝置、電解液使用費算出方法及電解液使用費算出系統。
為了達成前述之目的，本創作的藥液調製供給裝置係為調製並供給藥液至使用半導體或液晶顯示器製程用藥液之設備的藥液調製供給裝置，其中，供所調製的藥液輸送至設備的配管具備有累計流量計。
為了達成前述之目的，本創作的電解液調製供給裝置係為調製並供給電池製造用電解液的電解液調製供給裝置，其中，供輸送所調製的電解液的配管具備累計流量計。
若依本創作的藥液調製供給裝置或電解液調製供給裝置，因將所調製的藥液或電解液供給至使用者側設備的配管裝設有累計流量計，故可掌握每個既定期間(例如一個禮拜或一個月)供給至使用者側設備的藥液或電解液量。若將該藥液或電解液的量乘以藥液或電解液量的每單位費用作為藥液或電解液的使用費，即可請求供給至使用者側的藥液或電解液的費用。
為了達成前述之目的，本創作的藥液調製供給裝置或電解液調製供給裝置中，其累計流量計具備通訊功能。
若依本創作的藥液調製供給裝置或電解液調製供給裝置，因可將各使用者側工廠所使用的累計流量計連接於網路，故可將累計流量計所量測的供應量累計值等各種量測數據，藉連接於該網路的伺服系統進行遠程監視，而不用為了查核累計流量計儀錶而前往使用者側的工廠。
為了達成前述之目的，本創作的藥液使用費算出方法係在半導體或液晶顯示器製程用藥液的使用費算出方法中，包含：利用經由具備累計流量計的配管供給藥液至藥液使用設備的供應者所擁有的藥液調製供給裝置，從供應者所提供的藥液原料調製藥液使用者所要求的成分濃度的藥液，並按照藥液使用者的要求，一面藉累計流量計量測累計流量，一面將所調製的藥液供給至設備，且根據藉累計流量計所量測的既定期間的累計流量，算出要向藥液使用者請求的使用費。
為了達成前述之目的，本創作的電解液使用費算出方法係在電池製造用電解液的使用費算出方法中，包含：利用經由具備累計流量計的配管供給電解液的供應者所擁有的電解液調製供給裝置，從供應者所提供的電解液原料調製電解液使用者所要求的成分濃度的電解液，並按照電解液使用者的要求，一面藉累計流量計計算累計流量，一面供給所調製的電解液，且根據藉累計流量計所量測的既定期間的累計流量，算出要向電解液使用者請求的使用費。
若依本創作的藥液或電解液的使用費算出方 法，因將藥液調製供給裝置或電解液調製供給裝置設置於使用者側的工廠作為供應者側的所擁有物件，並和使用者側設備連接，所以使用者側不需要購入藥液調製供給裝置或電解液調製供給裝置。因為是供應者側所擁有的物件，所以使用者側不需擔負藥液調製供給裝置或電解液調製供給裝置的維持管理責任。再者，因藥液的原料也由供應者側提供，所以使用者側也不需擔負提供藥液或電解液原料的責任。使用者側只要接受使用藥液或電解液的供給，故得以實現使用者只須接受供給藥液或電解液的使用費通知的藥液或電解液供給形態。
為了達成前述之目的，本創作的藥液使用費算出方法係為利用連接有具備通訊功能的累計流量計及伺服系統的網路以算出藥液的使用費的方法，其中，該累計流量計係裝設在調製並供給藥液至半導體或液晶顯示器製程用藥液使用設備的裝置之配管，該方法包含：伺服系統經由網路取得各累計流量計所計算的累計流量的步驟；將伺服系統取得的累計流量的履歷按每個累計流量計加以記憶的步驟；及伺服系統根據履歷按每個設備算出既定期間中要向藥液使用者請求的使用費的步驟。
為了達成前述之目的，用以算出藥液使用費的藥液使用費算出系統具備：具有通訊功能的累計流量計，其係裝設在調製並供給藥液至半導體或液晶顯示器製程用藥液使用設備的裝置之配管；及伺服系統，經由網路和累計流量計連接，該伺服系統具備：接收部，經由網路接收累計流量計所計算的累計流量；記憶部，將 所接收的累計流量履歷按每個累計流量計加以記憶；及算出部，根據履歷按每個設備算出既定期間中的前述藥液使用費。
為了達成前述之目的，本創作的電解液使用費算出方法係為利用連接有具備通訊功能的累計流量計及伺服系統的網路以算出電解液使用費的方法，其中，該累計流量計係裝設在調製並供給電池製造用電解液至電解液使用設備的裝置之配管，該方法包含：伺服系統經由網路取得各累計流量計所計算的累計流量的步驟；按每個累計流量計將伺服系統所取得的累計流量履歷加以記憶的步驟；及伺服系統根據履歷按每個設備算出在既定期間中要向電解液使用者請求的使用費的步驟。
為了達成前述之目的，用以算出電解液使用費的電解液使用費算出系統係在設備中具備：具有通訊功能的累計流量計，裝設在調製電池製造用電解液並供給至製電解液使用設備的裝置之配管；及伺服系統，經由網路和累計流量計相連接，該伺服系統則具備：接收部，經由網路接收累計流量計所計算的累計流量；記憶部，按每個累計流量計將所接收的累計流量履歷加以記憶；算出部，根據履歷按每個設備算出既定期間中的電解液使用費。
若依本創作的藥液或電解液的使用費算出方法，因可藉由將各使用者工廠所使用的累計流量計連接於網路的伺服系統而作遠程單向方式的監視，供應者不需為了查核累計流量計的儀錶而前往使用者的工廠。供 應者可按照供給至使用者側設備的藥液或電解液量，算出要向藥液使用者請求的藥液使用費，或要向電解液使用者請求的電解液使用費。
若依本創作，可藉具備累計流量計的藥液調製供給裝置，實現前所未有的新穎藥液使用費算出方法。若依本創作，可藉具備累計流量計的電解液調製供給裝置，實現前所未有的新穎電解液使用費算出方法。
若依本創作，藥液使用者不需擔負提供藥液或其原料、或者購入藥液調製供給裝置、或者維持管理的責任，只要支付按照藥液使用量而算出的使用費，就可取得預定濃度的藥液。
若依本創作，藥液供應者可以遠程單向方式監視複數個現場使用的各藥液調製供給裝置的累計流量計。
1‧‧‧電腦
2‧‧‧藥液貯留槽
3‧‧‧藥液調製槽
4‧‧‧藥液供給配管
5‧‧‧累計流量計
6‧‧‧原料供給配管
7‧‧‧累計流量計
10‧‧‧藥液調製供給裝置
11、12‧‧‧藥液原料貯留容器
13、14、15、16、17、18、19、20‧‧‧閥
21、31‧‧‧濃度量測裝置
22、32‧‧‧液面計
23、33‧‧‧循環攪拌泵
24、34‧‧‧循環管路
25‧‧‧輸送泵
35‧‧‧連通管
41‧‧‧純水供給配管
42‧‧‧藥液原料補充配管
43‧‧‧藥液原料供給配管
44、45、46、47、48、49、92‧‧‧訊號線
51‧‧‧純水入口
52‧‧‧藥液原料入口
53‧‧‧藥液供給口
54‧‧‧原液供給口
61、62、63、 64、65‧‧‧工廠
71、72、73、74、75‧‧‧累計流量計
80‧‧‧網路
81‧‧‧伺服系統
82‧‧‧接收部
83‧‧‧記憶部
84‧‧‧算出部
85‧‧‧顯示器
90‧‧‧設備
100‧‧‧藥液使用費算出系統
圖1為藥液調製供給裝置的示意圖。
圖2為變形例的藥液調製供給裝置的示意圖。
圖3為藥液使用費算出方法的說明用流程圖。
圖4為顯示藥液使用費算出系統構成的示意圖。
[實施新型之形態]
以下，一面參照適當圖式，一面就本創作的較佳實施形態加以詳細說明。但，這些實施形態所載的 裝置等的形狀、大小、尺寸比、其相對配置等，只要沒有刻意作特定性記載，就不僅限定於本創作範圍的圖示內容，而僅作示意性的圖示當作單純的說明例。
再者，下文的陳述中，係適當採用顯影步驟中主要使用作顯影液的2.38%四甲基氫氧化銨水溶液(下文中，四甲基氫氧化銨係稱為TMAH)作為半導體或液晶顯示器製程用藥液的具體例來說明。
但是，本創作所應用的藥液並不限定於此。本創作可應用的其他藥液例，除顯影液之外，還有蝕刻液、剝離液、帶電防止劑、或者清洗液等。
這些藥液分別存在有更多樣種類或組成的藥液。例如，顯影液另外還可舉出氫氧化鉀、氫氧化鈉、磷酸鈉、矽酸鈉等無機化合物水溶液、或氫氧化三甲基單乙醇銨(膽鹼)等有機化合物水溶液。例如，蝕刻液可舉出草酸水溶液、硫酸和過氧化氫的混合水溶液、硫酸銅溶液、磷酸和乙酸及硝酸的混合水溶液、熱磷酸、硝酸鈰銨水溶液、及三氯化鐵溶液等。例如，剝離液可舉出二甲基亞碸系原液和純水的溶液、N-甲基吡咯烷酮系原液和純水的溶液、醇胺和乙二醇醚及純水的溶液等水系阻劑剝離液、及單乙醇胺和丁基二甘醇及添加劑的混合溶液等非水系阻劑剝離離液等。
傳統技術中，使用上述各種藥液者(以下稱為「藥液使用者」)每次有需要時就要從藥液製造廠等購入必要量的已調製為預定濃度的藥液供使用。因此，藥液使用者必須擔負提供藥液的責任。
此外，藥液使用者也多從裝置廠商等購入能夠從藥液原料調製並供給預定濃度藥液的藥液調製供給裝置，並設置於藥液使用者的工廠，一面使藥液調製供給裝置運轉，一面製造所需藥液來使用。在此情況中，藥液使用者除了擔負提供藥液原料的責任及購入藥液調製供給裝置的責任外，還必須擔負運轉並維持管理藥液調製供給裝置的責任。
本案創作人有鑑於這種情形，而創作了新穎的藥液供給方法(藥液使用費算出方法)。茲就該新穎的藥液使用費算出方法加以說明。
首先，存在有藥液供給者(下文中也稱為「藥液供應者」)及藥液使用者。藥液供應者擁有藥液調製供給裝置，藥液使用者擁有使用藥液的設備。藥液供應者擁有的藥液調製供給裝置係設置於藥液使用者的工廠，並和使用藥液的設備連接。
接著，藥液供應者從以自身的責任所提供的藥液原料在藥液使用者的工廠內製造藥液使用者所要求的預定濃度藥液(所謂藥液的「當場製造」)。藥液調製供給裝置的運轉或維持管理等則由藥液供應者負責。
藥液供應者會將所調製的藥液按照藥液使用者的要求供給至藥液使用設備。此時，係先將所供給的藥液量(下文中也稱為「供應量」)進行量測，然後根據藥液的供應量計算藥液使用費，向藥液使用者請求。藥液使用者可從以往所擔負的前述種種責任獲得解脫，並且只要支付使用費即可自動接受所需藥液的供給。
為了實現本創作的藥液使用費算出方法，具備可量測藥液供應量的累計流量計之藥液調製供給裝置乃不可或缺。以下，參照附圖就具備此種累計流量計的藥液調製供給裝置的具體實施例加以說明。
〔第一實施形態〕
圖1為用以說明本實施形態的藥液調製供給裝置的示意圖。在本實施形態的說明中，係以將20%的TMAH水溶液和純水調配製成2.38%的TMAH水溶液的藥液調製供給裝置作為具體例進行說明。
本實施形態的藥液調製供給裝置10主要由：調製預定濃度藥液的藥液調製槽3；貯留所調製的藥液的藥液貯留槽2；用來貯留藥液原料的藥液原料貯留容器11及12；將所調製的藥液向使用者側設備90輸送的藥液供給配管4；及裝設於藥液供給配管4的累計流量計5等所構成。
將20%的TMAH水溶液和純水調配製成2.38%的TMAH水溶液的情況中，係以20%的TMAH水溶液為原料。將20%的TMAH水溶液從藥液原料入口52經由藥液原料補充配管42貯留於藥液原料貯留容器11或12。
閥13至18係經由訊號線44連接於電腦1。電腦1經由訊號線44將控制訊號傳送至閥13至18，以控制閥13至18的開閉。將20%的TMAH水溶液充填於藥液原料貯留容器11之際，係將閥13打開。20%的TMAH水溶液充填於藥液原料貯留容器12之際，則將閥15打開。
藥液原料貯留容器11及12係以氮氣(氮氣供 應設備未圖示)加壓，並經由連接於藥液調製槽3的藥液原料供給配管43將貯留中的20%的TMAH水溶液進行輸送。將藥液原料貯留容器11內的20%的TMAH水溶液進行輸送之際，係打開閥14及閥17。藥液原料貯留容器12內的20%的TMAH水溶液輸送之際，則打開閥16及閥17。
要從20%的TMAH水溶液調製2.38%的TMAH水溶液時，係在20%的TMAH水溶液中混入純水進行稀釋。純水則從純水入口51經由純水供給配管41供給至藥液調製槽3。在輸送純水之際，係打開閥18。
藥液調製槽3具備濃度量測裝置31及液面計32。濃度量測裝置31係對藥液調製槽3內的藥液進行採樣，並量測其濃度。液面計32則量測藥液調製槽3內藥液的液面位置。再者，藥液調製槽3內的藥液係以配備在循環管路34的循環攪拌泵33施以循環攪拌。藉此，藥液調製槽3內的藥液即成為均一濃度。
濃度量測裝置31及液面計32經由訊號線45及46而和電腦1連接。電腦1則對濃度量測裝置31所量測的藥液濃度、及液面計32所量測的藥液液面位置進行監視，並以下述方式控制閥13至18的開閉。藉此，即可經常自動調製預定量之預定濃度的藥液，例如，本實施形態中的2.38%的TMAH水溶液。
例如，藥液調製槽3內的TMAH濃度低於2.38%的情況中，電腦1即打開閥14或16的任一方及閥17，以補足20%的TMAH水溶液。閥17為調節開時流量的開閉控制閥，藉由電腦1進行控制，使閥17打開預定時間， 即得以補給必要量的20%的TMAH水溶液。
例如，在藥液調製槽3內的TMAH濃度高於2.38%的情況中，電腦1就打開閥18以補足純水。閥18為調節開時流量的開閉控制閥，藉由電腦1進行控制，使閥18打開預定時間，即得以補給必要量的純水。
例如，在藥液調製槽3內的液面位置降低的情況中，係適當打開閥14或16的任一方及閥17與閥18，以增加藥液的調製量。
再者，在藥液原料貯留容器11變空時，電腦1會關閉閥14，打開閥13，對藥液原料貯留容器11補充藥液原料。同樣的，藥液原料貯留容器12變空時，電腦1會關閉閥16，打開閥15，對藥液原料貯留容器12補充藥液原料。依此方式，電腦1就可使藥液原料貯留容器11或12的任一方保持一定充滿藥液原料的狀態。
依此方式以藥液調製槽3調製的2.38%的TMAH水溶液係通過連接藥液調製槽3與藥液貯留槽2的連通管35而貯留於藥液貯留槽2。連通管35為藥液流通的管路。若從藥液貯留槽2供給藥液而使貯留其內部的藥液量減少時，以藥液調製槽3調製的藥液即通過連通管35移動到藥液貯留槽2。連通管35具有適度的長度與配管內徑，具有緩衝濃度變動的作用，使藥液調製槽3中產生的藥液濃度變動不致及於藥液貯留槽2內部。
藥液貯留槽2也和藥液調製槽3同樣具備濃度量測裝置21與液面計22。該濃度量測裝置21與液面計22也經由訊號線47及48而和電腦1連接。電腦1會按照濃度 量測裝置21所量測的藥液貯留槽2內藥液濃度、及液面計22所量測的藥液貯留槽2內藥液液面位置，而適當控制閥13至18。其控制係和藥液調製槽3的情況相同。但因藥液貯留槽2的濃度變動極少，所以實際上是在進行監視內部的藥液濃度與液量管理。
再者，藥液貯留槽2內的藥液係藉由裝設在循環管路24的循環攪拌泵23施以循環攪拌。藉此方式，藥液貯留槽2內的藥液即得以維持均一濃度。
藥液貯留槽2所貯留的藥液係藉由輸送泵25通過藥液供給配管4及累計流量計5，從藥液供給口53供給到使用藥液的使用者側設備90。使用者側設備90則經由訊號線92而和電腦1連接。電腦1則將從使用者側設備90發出的藥液供給要求訊號經由訊號線92接收。閥19則經由訊號線49而和電腦1連接。電腦1係按照來自設備90側的使用者要求，對裝設於藥液供給配管4的閥19施以開閉控制。藉此方式，設備90在需要藥液時，即可接受必要量的藥液供給。此時，因為累計流量計5會計算供給至使用者側設備90的藥液累計流量，所以可根據每個既定期間的累計流量而算出使用費，以實現藥液使用費的算出方法。
上述的藥液調製供給裝置10的實施態樣中，係以從20%的TMAH原液稀釋調配而獲得作為顯影液的2.38%的TMAH水溶液的裝置作為具體例來說明。該實施態樣所說明的藥液調製供給裝置10的藥液調製部分為典型例，本創作並非限定於此。只要能從該原料調製獲得 使用者要求的成分濃度的藥液，可採用各種態樣。當然，藥液調製供給裝置10的藥液調製部分可按照應調製的藥液種類而採用各種變形例。除了以純水稀釋調配原液的情況外，調配複數種藥液的情況、或從固體原料調製的情況等，都可應用實現各種調製方法的裝置構成。例如，目前流通的TMAH原液濃度，在日本及韓國一般為20%，日本有一部分為25%，台灣及中國則一般為25%。在TMAH原液的濃度不同的情況中，只要將藥液調製的稀釋率等加以適當變更即可。
再者，訊號線44至49、92係指發自電腦1的控制訊號的傳送(路徑)，訊號線44至49、92可為訊號纜線，也可為無線通訊。
本創作的特徵主要係在供給調製藥液至使用者側設備的藥液供給配管4裝設有累計流量計5。
本創作的特徵也在供給調製藥液至使用者側設備的藥液供給配管4所設置的累計流量計5具備通訊功能。因此，可以遠端監視累計流量計5量測所得的藥液累計流量，亦即，可利用該通訊功能遠端監視藥液的供應量。
具備此種通訊功能的累計流量計，已存在有例如基恩斯(KEYENCE)公司的科里奧利(Coriolis)式數位流量感測器FD-S系列等。藉由安裝通訊裝置，可以將量測所得的累計流量數據等各種數據和個人電腦等進行通訊。因此，可以從遠離累計流量計的設置場所，或經由網路監視累計流量。
圖2揭示第一實施形態的藥液調製供給裝置10的變形例。和圖1所示的藥液調製供給裝置10相同構成的要素，有賦予相同符號並省略其說明的情形。
圖2所示的藥液調製供給裝置10具備：用以將藥液原料貯留容器11及12所貯留的原料往使用者側設備90輸送的原料供給配管6、以及裝設在原料供給配管6的累計流量計7與閥20。閥20係經由訊號線49而和電腦1連接。
電腦1係經由訊號線92接收從使用者側設備90發送的原料供給要求訊號。電腦1會按照從設備90側發出的使用者要求，對裝設在原料供給配管6的閥20執行開閉控制。藉此機制，貯留在藥液原料貯留容器11及12的原料即通過原料供給配管6及累計流量計7，自原料供給口54供給至使用者側設備90。
設備90在需要原料時，可只接受必要量的原料供給。此時，因累計流量計7已計算獲得供給到設備90的原料累計流量，故可根據每個既定期間的累計流量算出使用費，而實現藥液使用費的算出方法。
此處，所稱藥液，係指按照使用者的要求從原料調製的藥液，也包含不調製濃度的情況。
〔第二實施形態〕
接著，就本創作的藥液使用費算出方法加以說明。圖3為本實施形態的藥液使用費算出方法的說明用流程圖。
在供給藥液之前，先將藥液供應者擁有的藥 液調製供給裝置連接於藥液使用者擁有的設備。將藥液調製供給裝置的藥液供給配管連接於使用者設備，並且進行從藥液使用者側接受供給所需的設施資源(utility)的連接。此處，所稱設施資源係指例如電力或純水、及氮氣等。
設置作業完成後，啟動藥液調製供給裝置，一面運轉藥液調製供給裝置，一面調製藥液，且按照藥液使用者的供給要求供應藥液。藥液調製供給裝置的運轉或維持管理係由擁有藥液調製供給裝置的藥液供應者側負責進行。
藥液供應者會提供藥液調製所需的各種原料。例如，在以純水稀釋20%的TMAH水溶液調製2.38%的TMAH水溶液的情況中，要提供20%的TMAH水溶液(所謂TMAH原液)作為原料。提供工作係由藥液供應者側負責進行。
藥液供應者係使用藥液調製供給裝置，從所提供的藥液原料調製藥液使用者所要求的成分濃度的藥液。調製所得的藥液則予以貯留，準備向使用者側設備供應。
每次因調製藥液而致藥液原料用完時，藥液供應者就會提供藥液原料，並對藥液調製供給裝置補充原料。藥液供應者為了不使藥液調製供給裝置的藥液調製停滯，而實施藥液原料的提供及藥液調製供給裝置的維持管理。
若有藥液供給要求來自藥液使用設備時，藥 液調製供給裝置會將所調製的藥液供給至藥液使用設備。藥液的供給係經由具備累計流量計的配管進行。藉由該累計流量計，可計算藥液供應量作為累計流量。
只要有藥液供給要求，藥液調製供給裝置就會重複進行藥液的調製與供給。藉此方式，即可向使用者側設備進行藥液的供給而不會中斷。
藥液供應者會監視累計流量計所計算的藥液供應量，亦即，監視累計流量。藥液的使用費係根據既定期間，例如一個禮拜或一個月的期間的藥液供應量(累計流量)來計算。將例如一個月的藥液供應量(累計流量：Q1(L/M))乘以藥液每單位量的費用(單價：P1(日圓/L))即算出當月的藥液使用費。
要算出藥液使用費時，雖可依上述方式以藥液供應量(Q1)×單價(P1)來算出，也可將藥液供應量(Q1)換算為原料供應量(Q2(L/M))，再將原料供應量(Q2)乘以原液每單位量的費用(單價：P2(日圓/L))，而算出當月的使用費。
茲就例如將20%的TMAH水溶液與純水進行調配以調製2.38%的TMAH水溶液的情況來說明。若將通過累計流量計的2.38%的TMAH水溶液供應量設為Q1，調製Q1所需的20%的TMAH水溶液必要量設為Q2時，即可成立2.38×Q1=20×Q2的關係。
當月的使用費，係將20%的TMAH水溶液的單價設為P2，換算率設為K時，即構成：使用費=P2×Q2=P2×K×Q1=P2×(2.38/20)×Q1。換算率K從原料濃度、 及藥液濃度即可容易求得。
本實施形態中，雖是以用純水稀釋20%的TMAH水溶液而調製成藥液的一成分系為例來說明，但並不限定於此。例如，對於作為Al等電極材料的蝕刻藥液而為眾所公知的包含磷酸、乙酸及硝酸等三成分的PAN(Phosphoric acid、Acetic acid、Nitric acid)藥液，同樣也可算出當月的使用費。
藥液供應者即以依此方式算出的藥液使用費向藥液使用者請求付費。藥液使用者則將所請求的藥液使用費支付藥液供應者。如此，藥液的供給即得以成立。
本實施形態的藥液使用費算出方法的特徵係在：利用經由具備累計流量計的配管對藥液使用設備供給藥液的供應者所擁有的藥液調製供給裝置，從供應者所提供的藥液原料調製藥液使用者所要求的成分濃度的藥液，按照藥液的需要一面藉由累計流量計來量測累計流量，一面將所調製的藥液供給至使用者側設備，並根據藉累計流量計所量測的既定期間累計流量算出的藥液使用費向藥液使用者請款。
藉由該特徵，若依本實施形態的藥液使用費算出方法，藥液使用者不用自行負責提供藥液。再者，也不需負責購入藥液調製供給裝置、或使用該裝置自行調製藥液、或提供藥液原料。藥液使用者只要指示藥液的必要量，即可自動接收藥液的供給。若依本實施形態的藥液使用費算出方法，可實現按照藥液供應量徵收藥液使用費的新穎藥液使用費算出方法。此種藥液供給形 態，在半導體或液晶顯示器的製程及各種電池的製程上，為以往完全不存在的新形態，相對於前述的第一形態或第二形態，可稱為「第三形態」的劃時代創舉。
〔第三實施形態〕
接著，就利用連接有具備通訊功能的累計流量計及電腦的網路進行的藥液使用費算出方法、及藥液使用費算出系統加以說明。圖4為具備使用者側工廠的累計流量計、及經由網路連接的供應者側伺服系統的藥液使用費算出系統的示意圖。
圖4所示本實施形態的藥液使用費算出系統100具備：藥液供應者所擁有的1台伺服系統81；及分別設置於經由網路80連接的藥液使用者工廠61,62,63,64及65，且具有通訊功能的累計流量計71,72,73,74及75(亦即，分別設置於5個地方的工廠的5台累計流量計)。
構成藥液使用費算出系統100的累計流量計及伺服系統的數量並不限定於圖4所示的數量。本創作的藥液使用費算出系統只要具備經由網路連接的1台累計流量計及1台伺服系統即可。
圖4中未詳細圖示的是，各工廠中，藥液使用設備連接有藥液調製供給裝置。藉由該藥液調製供給裝置，藥液可當場調製，並供應至藥液使用設備。用以供應藥液的配管設有具備通訊功能的累計流量計71,72,73,74及75。累計流量計71,72,73,74及75可將供給至藥液使用設備的藥液供應量計算作為累計流量。
具有通訊功能的累計流量計可使用基恩斯 (KEYENCE)公司的科里奧利式數位流量感測器FD-S系列等。經由互聯網等網路可遠端取得累計流量等量測數據。
伺服系統81具備接收部82、記憶部83、及算出部84。再者，伺服系統81具備顯示器85。伺服系統81會對連接於網路80的累計流量計71至75個者依序發送服務要求，令其傳送累計流量計的量測數據。累計流量計71至75則按照服務要求，將累計流量的量測數據送至伺服系統81。
依此方式，伺服系統81的接收部82即可從各累計流量計71,72,73,74及75取得累計流量的量測數據。此時，可配合累計流量的量測數據，取得累計流量計的個體識別編號(所謂的裝置ID)及量測日期時間(亦即，量測的日期和時刻)。也可不量測日期時間，而改用例如通訊日期時間。
伺服系統81可根據各累計流量計71,72,73,74及75的個體識別編號，將按每個累計流量計71,72,73,74,75取得的累計流量計的計算值和量測日期時間追加註記在以記憶體或硬碟等構成的記憶部83，並加以記憶。
藉由將從累計流量計取得量測數據的步驟依預定的時間間隔(例如間隔1分鐘或間隔1小時)連續重複執行，即得以記憶藥液供應量的演變(亦即，累計流量的履歷)。
因伺服系統81的記憶部83中，按每個累計流 量計71,72,73,74,75記憶有其累計流量履歷，故可掌握每個既定期間(例如一個禮拜或一個月)中的藥液供應量。例如按每一個月掌握藥液供應量時，即可決定每月的查錶日期時間，從本月的查錶日期時間的累計流量扣除前月的查錶日期時間的累計流量而求得前月的查錶日後至本月的查錶日的累計流量。
伺服系統81又可從既定期間中的藥液供應量計算該既定期間的藥液使用費。例如，必須算出每一個月的使用費時，即將依前述方式所求得的累計流量乘以例如藥液每單位液量的費用(單價)，以算出藥液的使用費。只要將使用費的算出式、及單價預先寫成程式輸入伺服系統81的記憶部83即可。
藥液供應者會將按每個既定期間算出的藥液使用費向藥液使用者請款。此處，藥液使用者係指在藥液供給契約中就所接受的供給藥液具有支付使用費義務者。伺服系統81若以網路和屬於藥液使用費支付方的藥液使用者的電腦連接，則藥液使用費的請款也可藉伺服系統81自動進行。此時，伺服系統81只要預先寫成程式，俾就算出的藥液使用費以電子方式自動製作請求付費的請款書，並按每個既定期間自動向藥液使用者以電子方式送出該請款書即可。
藉由藥液使用者支付藥液使用費，每個既定期間的藥液供給就告完成。依此方式，就可利用網路在一邊以遠端統一監視各地方的藥液供應量一邊供應藥液的供給形態下，實現藥液的使用費算出方法。
本實施形態的網路80並不限定於藉設置於各個工廠的累計流量計所構成者。例如，也可為在規模較大的工廠具有複數條生產線，且將各個設置於該複數條生產線的累計流量計連接的較小規模網路。也可為例如某累計流量計設置於中國工廠，某累計流量計設置於台灣工廠，某累計流量計則設置於韓國工廠，還有某累計流量計設置於日本工廠的方式，且將分別設置於世界各國工廠的累計流量計連接的世界規模網路。
以上，一邊參照附圖一邊就各實施形態逐次說明的內容，對於半導體或液晶顯示器製程用的各種藥液、或電池製造用的各種電解液、電解液調製供給裝置及電解液使用費算出系統也可同樣實施。
若依本創作，使用者得以從使用者側擔負提供藥液或其原料的責任、或擔負購入並運用藥液調製供給裝置及施行維持管理的責任中獲得解脫，而實現一種新穎的藥液供給形態。再者，若依本創作，可以提供實現該新穎藥液供給形態所不可或缺的藥液調製供給裝置。若依本創作，可藉由連接於網路的伺服系統以遠端統一監視各使用者工廠所使用的累計流量計。
1‧‧‧電腦
2‧‧‧藥液貯留槽
3‧‧‧藥液調製槽
4‧‧‧藥液供給配管
5‧‧‧累計流量計
10‧‧‧藥液調製供給裝置
11、12‧‧‧藥液原料貯留容器
13、14、15、 16、17、18、19‧‧‧閥
21、31‧‧‧濃度量測裝置
22、32‧‧‧液面計
23、33‧‧‧循環攪拌泵
24、34‧‧‧循環管路
25‧‧‧輸送泵
35‧‧‧連通管
41‧‧‧純水供給配管
42‧‧‧藥液原料補充配管
43‧‧‧藥液原料供給配管
44、45、46、 47、48、49、92‧‧‧訊號線
51‧‧‧純水入口
52‧‧‧藥液原料入口
53‧‧‧藥液供給口
90‧‧‧設備

Claims (6)

  1. 一種藥液調製供給裝置，係為調製半導體或液晶顯示器製程用藥液並供給前述藥液至使用設備的藥液調製供給裝置，其於將所調製的前述藥液輸送到前述設備的配管具備有累計流量計。
  2. 如請求項1之藥液調製供給裝置，其中，前述累計流量計具備通訊功能。
  3. 一種藥液使用費算出系統，係用以算出藥液使用費的藥液使用費算出系統，其具備：具有通訊功能的累計流量計，裝設於用以調製半導體或液晶顯示器製程用藥液並供給前述藥液至藥液使用設備的裝置之配管；及伺服系統，經由網路而和前述累計流量計連接，其中，前述伺服系統具備：接收部，經由前述網路接收前述累計流量計所計算的累計流量；記憶部，按每個前述累計流量計將所接收的前述累計流量履歷加以記憶；及算出部，根據前述履歷按每個前述設備算出在既定期間中的前述藥液的使用費。
  4. 一種電解液調製供給裝置，係為調製並供給電池製造用電解液的電解液調製供給裝置，其於輸送所調製的前述電解液的配管具備累計流量計。
  5. 如請求項4之電解液調製供給裝置，其中，前述累計流 量計具備通訊功能。
  6. 一種電解液使用費算出系統，係用以算出電解液使用費的電解液使用費算出系統，其具備：具有通訊功能的累計流量計，裝設於用以調製電池製造用電解液並供給至電解液使用設備的裝置之配管；及伺服系統，經由網路而和前述累計流量計連接，前述伺服系統具備：接收部，經由前述網路接收前述累計流量計所計算的累計流量；記憶部，按每個前述累計流量計將所接收的前述累計流量履歷加以記憶；及算出部，根據前述履歷按每個前述設備算出既定期間中的前述電解液的使用費。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7398886B2 (ja) * 2018-07-02 2023-12-15 東京エレクトロン株式会社 流量制御器、ガス供給系及び流量制御方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0834768B2 (ja) * 1985-10-22 1996-03-29 伊東公業 株式会社 流体物品の貯蔵タンク内残量検知方法
JPH0868746A (ja) * 1994-08-29 1996-03-12 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 透過光測定用フローセル
JP3815661B2 (ja) * 2000-10-13 2006-08-30 株式会社タツノ・メカトロニクス 液体燃料供給機構の料金徴収システム
JP3972015B2 (ja) * 2003-04-11 2007-09-05 シャープ株式会社 薬液装置
JP4623488B2 (ja) * 2004-03-24 2011-02-02 パナソニック株式会社 流体の流れ計測装置
JP5165185B2 (ja) * 2005-02-15 2013-03-21 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理システムおよび基板処理装置
JP5163736B2 (ja) * 2010-12-20 2013-03-13 横河電機株式会社 監視管理装置、監視管理プログラム、及び記録媒体
JP5977058B2 (ja) * 2012-03-28 2016-08-24 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 処理液供給装置および処理液供給方法
JP2015026367A (ja) * 2013-05-15 2015-02-05 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 流量計測装置および流量計測装置に利用される無線装置
CN206311889U (zh) * 2015-11-25 2017-07-07 株式会社平间理化研究所 药液以及电解液的调制供给装置和使用费用计算系统

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