JP2007103837A - 非対称構造を有する電界効果型トランジスタを含む半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
とのできる、半導体装置およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】半導体シリコン基板の表面領域にソース領域およびドレイン領域を備えた電
界効果型トランジスタを含む半導体装置であって、
前記ドレイン領域は、第一導電型の不純物拡散層と第二導電型の不純物拡散層とを少な
くとも含む多重不純物拡散層を有し、
前記ドレイン領域側に設けられたゲート電極下部のバーズビークは、前記ソース領域側
に設けられたゲート電極下部のバーズビークに比較して大きいことを特徴とする半導体装
置。
【選択図】図1
Description
の表面領域に設けられたソース領域側の不純物拡散層と同ドレイン領域側に設けられた不
純物拡散層の構造が非対称である電界効果型トランジスタを含む半導体装置およびその製
造方法に関する。
半導体装置は、より一層の高密度化、低消費電力化が求められて来ている。
前記電界効果型トランジスタのドレイン領域等の抵抗の低減を目的として、半導体シリ
コン基板に設けられたソース領域側の不純物拡散層と、同ドレイン領域側に設けられた不
純物拡散層の構造が非対称である半導体装置が提案されている。
この半導体装置について図面に基づいて説明すると以下の通りである。
図9は、前記半導体シリコン基板1の表面領域に設けられたソース領域側の不純物拡散
層930、931と、同ドレイン領域側に設けられた不純物拡散層940、941との構
造が互いに非対称である半導体装置の模式要部断面図である。
この図9に示される半導体装置によると、上記の様に不純物拡散層の構造を非対称とす
ることによりドレイン領域等の抵抗の低減が可能とされる(特許文献1)。
ればなるほど前記半導体シリコン基板中におけるホットキャリアの問題が無視できなくな
る問題があった。
本発明の目的は、ドレイン領域の抵抗の低減を図りつつ、前記ホットキャリアの発生を
抑制することのできる、半導体装置およびその製造方法を提供することにある。
ス領域側の不純物拡散層と同ドレイン領域側に設けられた不純物拡散層の構造が非対称で
あり、かつ、前記ドレイン領域側のゲート電極下部に形成されるバーズビークが、前記ソ
ース領域側のゲート電極下部に形成されるバーズビークに比較して大きい半導体装置が本
発明の目的に適うことを見出し、本発明を完成するに至った。
[1] 半導体シリコン基板と、
前記半導体シリコン基板上に、ゲート酸化膜を介して設けられたゲート電極と、
前記半導体シリコン基板の表面領域であって、前記ゲート電極の両側に設けられた一対
のソース領域およびドレイン領域と、
前記半導体シリコン基板上に設けられた、ソースせり上げ構造およびドレインせり上げ
構造と、
前記ゲート電極のソース領域側に設けられた第一の側壁スペーサと、
前記ゲート電極下部のソース領域側およびドレイン領域側のそれぞれに設けられた、シ
リコン酸化膜からなるバーズビークと、
を備えた半導体装置であって、
前記ドレイン領域は、第1導電型の不純物拡散層と第2導電型の不純物拡散層とを少な
くとも含む多重不純物拡散層を有し、
前記ドレイン領域側の前記バーズビークは、前記ソース領域側の前記バーズビークに比
較して大きいことを特徴とする半導体装置を提供するものであり、
[2]前記半導体装置は、DRAM用電界効果型セルトランジスタを備えたことを特徴と
する上記[1]に記載の半導体装置を提供するものであり、
[3]半導体シリコン基板上に、ゲート酸化膜を介してゲート電極を形成する工程と、
前記半導体シリコン基板の表面領域であって前記ゲート電極の両側に一対のソース領域
およびドレイン領域を形成する工程と、
前記ゲート電極に対し、前記ソース領域側に第一の側壁スペーサを形成し、前記ドレイ
ン領域側に第二の側壁スペーサを形成する工程と、
前記半導体シリコン基板上に、前記ソース領域および前記ドレイン領域にそれぞれ接し
てソースせり上げ構造およびドレインせり上げ構造を形成する工程と、
前記ドレイン領域側に形成された第二の側壁スペーサをエッチング操作により除去する
工程と、
前記ドレイン領域に、第1導電型の不純物拡散層と第2導電型の不純物拡散層とを少な
くとも含む多重不純物拡散層を形成する工程と、
前記ドレイン領域側の前記ゲート電極下部に、前記ソース領域側の前記ゲート電極下部
のバーズビークよりも大きいバーズビークを形成する工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法を提供するものである。
することのできる半導体装置およびその製造方法を提供することができる。
図1は、本発明の半導体装置の一実施態様について、その模式要部断面図を例示したも
のである。
本発明に使用する半導体シリコン基板1としては、例えば、ホウ素等の不純物を含むp
型半導体シリコン基板等を挙げることができる。
られていて、前記ゲート酸化膜2を介してゲート電極300が設けられている。
このゲート酸化膜2の厚みは、通常1〜20nmの範囲である。
4および酸化シリコン等からなる上部酸化膜5がそれぞれ設けられている。
前記ポリシリコン3の厚みは通常30〜200nmの範囲である。
また、前記窒素含有絶縁膜4の厚みは通常20〜300nmの範囲であり、前記上部酸
化膜5の厚みは通常20〜300nmの範囲である。
を含むもの等を挙げることができる。
なお、特に図1に示していないが、前記ポリシリコン3の上にはタングステンシリサイ
ド膜や、タングステン/窒化タングステン膜等を設けることができる。前記ポリシリコン
3に対し、目的に応じて適宜サリサイド処理を行なうこともできる。
酸化膜601の厚みは通常0.5〜30nmの範囲である。前記ポリシリコン3の下部の
両端には、それぞれ酸化シリコン等が成長したバーズビーク610および620が設けら
れている。前記ポリシリコン3の側壁に対する前記酸化膜601およびバーズビーク62
0は省略することも可能である。
は、前記ソース領域910側の前記バーズビーク620に比較して大きいことが必要であ
る。
記半導体シリコン基板1を垂直に切断した際の切断面に対する、前記ゲート電極300下
部の酸化シリコンの占める面積割合から決定することができる。
、前記バーズビーク610、前記バーズビーク620および前記ゲート酸化膜2に該当す
る部分を抜き出して拡大した要部部分断面図である。
にバーズビーク610および620が明確に現れている場合は比較的容易に決定できるが
、例えば前記酸化膜601が大きく成長している場合であっても、前記ゲート電極下部の
前記ポリシリコン3のバーズビーク610に相当する部分の断面面積と、前記ゲート電極
下部の前記ポリシリコン3のバーズビーク620に相当する部分の断面面積とを比較する
ことにより決定することができる。
例えば図2の場合であれば、前記バーズビーク610に相当する部分の断面面積が前記
バーズビーク620に相当する部分の断面面積よりも大きいことが分かる。
従って、この場合であれば、前記バーズビーク620よりも前記バーズビーク610は
大きいといえる。
前記ゲート電極300の側壁には、化学気相成長(CVD)法等により形成された酸化
シリコン等からなる側壁酸化膜7がそれぞれ設けられている。
前記側壁酸化膜7の厚みは、通常2〜20nmの範囲である。
この側壁酸化膜7を介して前記ゲート電極300の一方に第一の側壁スペーサ801が
設けられている。
のソース領域910およびドレイン領域920が設けられている。
ている。かかる第一の不純物拡散層として、図1に例示される通り、エクステンション9
01が前記半導体シリコン基板1の表面領域に設けられている。
このエクステンション901は前記半導体シリコン基板1の表面から、通常10〜20
0nmの深さまで設けられている。
また、エクステンション901に含まれるリン等のn型不純物の注入量は、通常1×1
012〜1×1014/cm2の範囲である。
えて、第一の不純物拡散層の内部に形成されるリン等のn型不純物を含む第二の不純物拡
散層、第一の不純物拡散層を囲むように形成されるホウ素等のp型不純物を含む第三の不
純物拡散層等の多重不純物拡散層が設けられている。
が、その一実施態様としては、図1に例示される通り、前記第一の不純物拡散層としてエ
クステンション902、前記第二の不純物拡散層としてエクステンション903および前
記第三の不純物拡散層としてポケット904が前記半導体シリコン基板1の表面領域に設
けられているものを挙げることができる。
拡散層とを少なくとも含むものである。
前記エクステンション902に含まれるリン等のn型不純物の注入量は、先のエクステ
ンション901の場合と同様である。
常1.0×1012〜1.0×1014/cm2の範囲である。
前記ポケット904を形成する際のホウ素等のp型不純物の注入量は、通常1.0×1
012〜1.0×1014/cm2の範囲である。
コン基板1の表面から半導体シリコンを成長させたソースせり上げ構造10およびドレイ
ンせり上げ構造11が設けられている。
前記ソースせり上げ構造10およびドレインせり上げ構造11の高さは、通常、前記半
導体シリコン基板1の表面から20〜200nmの範囲である。
不純物がイオン注入法等の方法により導入されている。この際の注入量は、通常1.0×
1013〜5.0×1015/cm2の範囲である。
ラグ、金属配線等の公知の構造が適宜設けられていて、上記に説明した構成を有する本発
明の半導体装置を電界効果型トランジスタとして動作させることができる。
なお、本発明は説明上使用した数値により限定されるものではない。
置として、特に好適に使用することができる。
れらの実施例により何ら限定されるものではない。
断面図である。
リコン基板1の表面を高温で水蒸気と反応させることにより、厚みが7nmの酸化シリコ
ンからなるゲート酸化膜2を形成した。続いて前記ゲート酸化膜2上にシリコンをCVD
法により堆積させて厚みが100nmのポリシリコン3を形成した。
なお、前記CVD法の際にリンを不純物として混入させることにより、前記ポリシリコ
ン3にはリンが不純物として含まれている。
前記ポリシリコン3の上に窒化シリコンからなる窒素含有絶縁膜4および酸化シリコン
からなる上部酸化膜5を順次形成した。
酸化膜5、窒素含有絶縁膜4および前記ポリシリコン3のそれぞれの不要部分を公知のエ
ッチング手法により除去した。
続いて、前記ポリシリコン3の側壁を、水蒸気と高温下に反応させて酸化し、酸化シリ
コンからなる酸化膜601を形成した。この酸化膜601の厚みは、5〜10nmの範囲
であった。
10および620が形成された。この際の前記バーズビーク610および前記バーズビー
ク620の大きさはほぼ同等であった。
ト電極300をマスクとして、前記半導体シリコン基板1にリンイオンを、1.0×10
13/cm2の注入量でイオン注入法により自己整合的に導入し、前記ゲート電極300
の両側の前記半導体シリコン基板1の表面領域にそれぞれエクステンション901および
エクステンション902を形成した。
上記操作により、図3の模式要部断面図に示す半導体装置101の構造が得られる。
部断面図である。
まず前記ゲート電極300および前記ゲート酸化膜2の上面に、CVD法により厚み1
0nmの酸化シリコン膜を設けた。
続いて窒化シリコン膜を前記半導体シリコン基板1に対してCVD法により堆積させた
後、図4に示す様に、側壁酸化膜7、窒化シリコンからなる側壁スペーサ801および8
02を形成した。
した後、選択エピタキシャル成長法により、前記半導体シリコン基板1の表面から半導体
シリコンを成長させ、図4に示す様にソースせり上げ構造10およびドレインせり上げ構
造11を形成した。
前記ソースせり上げ構造10および前記ドレインせり上げ構造11に、注入量を1.0
×1014/cm2として、イオン注入法によりリンを導入した。
上記操作により、図4の模式要部断面図に示す半導体装置102の構造が得られる。
に、レジスト膜13を設ける工程を説明するための模式要部断面図である。
前記半導体装置の上部に、CVD法により酸化シリコンからなるハードマスク12を形
成し、さらにその上の図5に示す位置にレジスト膜13を設けた。
上記操作により、図5の模式要部断面図に示す半導体装置103の構造が得られる。
された側の側壁スペーサ802を除去する工程を説明するための模式要部断面図である。
まず、レジスト膜13をマスクとして、ハードマスク12をエッチングにより除去し、
レジスト膜13を除去した。その後、熱リン酸を用いたウエットエッチング法により、窒
化シリコンからなる前記側壁スペーサ802を除去した。この時、ソース領域側の側壁ス
ペーサ801は、ハードマスク12で覆われているので除去されることなく残存する。
上記操作により、図6の模式要部断面図に示す半導体装置104の構造が得られる。
より、ドレイン領域側のゲート電極下部に前記バーズビーク610を成長させた。この時
、ソース領域側には窒化シリコンからなる側壁スペーサ801が残存しているため、ソー
ス領域側は酸化されず、ゲート電極下部のバーズビーク620は成長しない。
従って、ドレイン領域側のゲート電極下部に形成されるバーズビークは、ソース領域側
のゲート電極下部に形成されるバーズビークよりも大きくなる。
なお、前記バーズビーク610を効果的に成長させるために、前記バーズビーク610
近傍の側壁酸化膜7を除去しておいても良い。
この処理により、ドレインせり上げ構造11の表面には熱酸化膜14が形成される。こ
のようにして図7に示す通り、前記バーズビーク620に比較して大きい前記バーズビー
ク610を有する半導体装置105の構造が得られる。
前記エクステンション902からなる第一の不純物拡散層の内部に位置するように第二の
不純物拡散層であるエクステンション903を形成し、同様に注入量を1.0×1013
/cm2とし、イオン注入法によりホウ素を導入して、前記エクステンション902から
なる第一の不純物拡散層を囲むように第三の不純物拡散層であるポケット904を形成し
た。また、第二の不純物拡散層の形成と第三の不純物拡散層の形成の順番を入れ替えても
良い。さらに形成する位置は、イオン注入条件や拡散させるための熱処理条件により適宜
制御することが可能である。また、エクステンション903を形成する不純物には、リン
に代えて砒素を用いても良い。
ソース領域910としてエクステンション901を形成することができる。
また、同様に前記ドレイン領域920として、エクステンション902、エクステンシ
ョン903およびポケット904の多重不純物拡散層を形成することができる。
この様に、この多重不純物拡散層は、第一導電型の不純物拡散層と第二導電型の不純物
拡散層とを少なくとも含むものである。
この後、全体に層間絶縁膜を形成し、ドレインせり上げ構造11上の前記層間絶縁膜お
よび熱酸化膜14を除去して、コンタクトプラグを設けることによりビットライン配線等
を適宜形成することができる(図示せず。)。
ホットキャリアの問題が生じず、安定して動作した。
図8に示す通り、上記実施例1の場合で、前記バーズビーク610を成長させる操作を
実施しなかった他は、実施例1と全く同様に半導体装置を製造し、ほぼ左右対称のバーズ
ビーク611および622を有する半導体装置106を製造した。
この半導体装置106の構造を有する電界効果型セルトランジスタを有するDRAMは
ホットキャリアの問題が生じ、その動作は不安定であった。
2 ゲート酸化膜
3 ポリシリコン
300 ゲート電極
4 窒素含有絶縁膜
5 上部酸化膜
601 酸化膜
610、611、620、622 バーズビーク
7 側壁酸化膜
801、802 側壁スペーサ
901、902、903 エクステンション
904 ポケット
910 ソース領域
920 ドレイン領域
10 ソースせり上げ構造
11 ドレインせり上げ構造
100、101、102、103、104、105、106 半導体装置
12 ハードマスク
13 レジスト膜
14 熱酸化膜
Claims (3)
- 半導体シリコン基板と、
前記半導体シリコン基板上に、ゲート酸化膜を介して設けられたゲート電極と、
前記半導体シリコン基板の表面領域であって、前記ゲート電極の両側に設けられた一対
のソース領域およびドレイン領域と、
前記半導体シリコン基板上に設けられた、ソースせり上げ構造およびドレインせり上げ
構造と、
前記ゲート電極のソース領域側に設けられた第一の側壁スペーサと、
前記ゲート電極下部のソース領域側およびドレイン領域側のそれぞれに設けられた、シ
リコン酸化膜からなるバーズビークと、
を備えた半導体装置であって、
前記ドレイン領域は、第1導電型の不純物拡散層と第2導電型の不純物拡散層とを少な
くとも含む多重不純物拡散層を有し、
前記ドレイン領域側の前記バーズビークは、前記ソース領域側の前記バーズビークに比
較して大きいことを特徴とする半導体装置。 - 前記半導体装置は、DRAM用電界効果型セルトランジスタを備えたことを特徴とする
請求項1に記載の半導体装置。 - 半導体シリコン基板上に、ゲート酸化膜を介してゲート電極を形成する工程と、
前記半導体シリコン基板の表面領域であって前記ゲート電極の両側に一対のソース領域
およびドレイン領域を形成する工程と、
前記ゲート電極に対し、前記ソース領域側に第一の側壁スペーサおよび前記ドレイン領
域側に第二の側壁スペーサを形成する工程と、
前記半導体シリコン基板上に、前記ソース領域および前記ドレイン領域にそれぞれ接し
てソースせり上げ構造およびドレインせり上げ構造を形成する工程と、
前記ドレイン領域側に形成された第二の側壁スペーサをエッチング操作により除去する
工程と、
前記ドレイン領域に、第1導電型の不純物拡散層と第2導電型の不純物拡散層とを少な
くとも含む多重不純物拡散層を形成する工程と、
前記ドレイン領域側の前記ゲート電極下部に、前記ソース領域側の前記ゲート電極下部
のバーズビークよりも大きいバーズビークを形成する工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
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