JP5203558B2 - トランジスタ及びこれの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、本出願人による特願2004−65736号(2004年8月20日付の出願)の改良発明であり、前記特許出願の内容は本出願に参照として記載する。
導電膜パターンは、しきい電圧の印加によってソース領域とドレイン領域とを電気的に連結させるチャンネル層を基板に選択的に形成させる。ソース領域は、キャリアをチャンネル層に供給し、ドレイン領域はソース領域から供給されたキャリアを外部に放出させる。
前述したLDD構造での短チャンネル効果を抑制するために、例えば、特許文献1、特許文献2などにはゲート電極の両側に凹陥部を形成し、凹陥部にシリコンゲルマニウムエピタキシャル層を成長させ、単一不純物構造(Single Drain Cell構造)を有する半導体装置が開示されている。
このように、単一不純物の構造を有するトランジスタを製造する技術は、低い抵抗、急なPN接合形成、低い熱履歴(reduced thermal budget)などのような利点を有しているので、100nm以下のゲート幅を有する超高集積トランジスタを製造するための方法として提案されている。
しかし、10nm程度のゲート幅を有するトランジスタでは、従来の構造製造方法は、まだ低抵抗、急なPN接合構造などの面で改善の余地がある。また、従来のトランジスタは、接合漏洩電流の減少、動作信頼性の確保、しきい電圧の改善などの問題を有している。
本発明の他の目的は、前述したトランジスタを製造するのに特に適合したトランジスタの製造方法を提供することにある。
本発明の他の実施例によると、不純物領域にドーピングされた不純物が半導体基板に拡散することを防止するためのハローイオン注入領域が第3表面と接する前記半導体基板の部位に形成される。
本発明の他の実施例によると、不純物を注入する段階は、エピタキシャル層を成長させる段階と同時に実施する。
前述した本発明によると、不純物領域が{111}面である側面を有するので、急なPN接合を形成することができるため、不純物領域間の短チャンネル効果の発生を抑制することが可能である。したがって、電気的な得請求項特性が優秀なトランジスタを取得することができる。
実施例1
図1は、本発明の実施例1による半導体装置のトランジスタを示した断面図である。
図1を参照すると、本実施例による半導体装置のトランジスタ100は、シリコン基板、シリコンゲルマニウム基板などのような半導体基板110、半導体基板110上に形成されたゲート構造物120、ゲート構造物120の両側に形成された二つのエピタキシャル層150、及びエピタキシャル層150に形成された不純物領域を含む。
図2乃至図5は、図1に示したトランジスタを製造する方法を順次に示した断面図である。
本実施例によるトランジスタは不純物領域170がエピタキシャル層150と側面と一致しなく、エピタキシャル層150の側面よりゲートパターンの中央に拡散された側面を有することを除いては図1に示した実施例1のトランジスタと実質的に同じ構成を有する。したがって、本実施例によるトランジスタに対して重複された説明は省略し、製造方法に対して説明する。
本実施例によるトランジスタは、製造方法が異なることを除いては実施例1と同様である。したがって、トランジスタに対して重複された説明は省略し、製造方法に対して説明する。したがって、製造方法で実施例1と同じ部材に同じ図面符号を付与する。
図9を参照すると、シリコン窒化物からなる第1スペーサ142をゲートパターン130の側壁に形成する。
図13は、本発明の実施例4による半導体装置のトランジスタを示した断面図である。
図13を参照すると、本実施例による半導体装置のトランジスタ200は半導体基板210、半導体基板210上に形成されたゲート構造物220、ゲート構造物220の両側に形成された二つのエピタキシャル層250、エピタキシャル層250に形成された不純物領域、及びハローイオン注入領域260を含む。
エピタキシャル層250に不純物をイオン注入して、不純物領域が形成される。本実施例による不純物領域はエピタキシャル層250と実質的に一致する側面を有する。
図14を参照すると、絶縁膜パターン232、導電膜パターン234及びハードマスク膜パターン236が積層された構造で構成されたゲートパターン230を半導体基板210の{100}である表面218上に形成する。
本実施例によるトランジスタは不純物領域270がエピタキシャル層250と側面が一致せず、エピタキシャル層250の側面よりゲートパターンの中央に拡散された側面を有することを除いては図13に示した実施例4のトランジスタと実質的に同じ構成を有する。したがって、本実施例によるトランジスタに対する説明は省略し、製造方法に対して説明する。
図21乃至図26は、本発明の実施例6によって図13に示したトランジスタを製造する方法を順次に示した断面図である。本実施例によると、第1スペーサと第2スペーサを形成する工程の間にエピタキシャル層を成長させる工程を遂行して、図13に示した同じトランジスタを製造する。したがって、同じ部材に同じ参照符号を付与する。
図22を参照すると、シリコン窒化物からなる第1スペーサ242をゲートパターン230の側壁に形成する。
図27は、本発明の実施例7によるトランジスタを示した断面図である。
本実施例によるトランジスタは隆起された(elevated)エピタキシャル層155を有することを除いては図1に示した実施例1のトランジスタと実質的に同じ構成を有する。したがって、同じ部材に対しては同じ参照符号に示し、詳細な説明は省略する。
図28は本発明の実施例8による半導体装置のトランジスタを示す断面図である。
図28を参照すると、本実施例による半導体装置のトランジスタ300はシリコン基板、シリコンゲルマニウム基板などのような半導体基板310、半導体基板310上に形成されたゲート構造物320、ゲート構造物320の両側に形成された二つのエピタキシャル層350、エピタキシャル層350の側部に位置した低濃度不純物領域385、エピタキシャル層350の下部に位置した第1高濃度不純物領域380、及びエピタキシャル層350に形成された第2不純物領域を含む。
図29を参照すると、ゲートパターン330をシリコン基板、シリコンゲルマニウム基板のような半導体基板310の{100}である表面318上に形成する。具体的に、酸化物のような絶縁膜(図示せず)を半導体基板310の表面318上に形成する。タングステンのような金属物質からなる導電膜(図示せず)を絶縁膜上に形成する。シリコン窒化物のようなハードマスク膜(図示せず)を導電膜上に形成する。その後、フォトレジストパターンをエッチングマスクとして用いて、ハードマスク膜、導電膜及び絶縁膜を部分的にエッチングして、絶縁膜パターン332、導電膜パターン334及びハードマスク膜パターン336が積層された構造を有するゲートパターン330を形成する。
本実施例によるトランジスタは、第2高濃度不純物領域370がエピタキシャル層350と側面と一致せず、エピタキシャル層350の側面よりゲートパターンの中央に拡散された側面を有することを除いては図28に示した実施例8のトランジスタと実質的に同一の構成を有する。したがって、本実施例によるトランジスタに対する重複された説明は省略し、製造方法に対してのみ説明する。
図35及び図36は、本実施例の実施例9によってトランジスタを製造する方法を順次に示した断面図である。本実施例にしたがってトランジスタを製造する方法は不純物領域を形成する工程を除いては実施例8の図29ないし図34を参照にして説明した工程と実質的に同一である。したがって、同一の部材に対しては同一の参照番号を示し、エピタキシャル層の形成工程以後の工程に対してのみ説明する。
ここで、第2高濃度不純物領域370は、エピタキシャル層350と側面と一致せず、エピタキシャル層350の側面よりゲートパターン330の中央と近接した側面を有する。このような第2高濃度不純物領域370は熱処理工程を通じて第3不純物を半導体基板310内にさらに拡散させることで形成することができる。また、実施例8と同様に、第2高濃度不純物領域370がエピタキシャル層350の側面と同一の境界を有することもできる。
本実施例によるトランジスタは製造方法が異なることを除いては実施例8と同一である。したがって、トランジスタに対する重複された説明は省略し、製造方法に対してのみ説明する。したがって、製造方法の説明で実施例8と同一の部材については同一の参照符号を付与する。
エッチングガスの例としては、実施例8で説明したように、塩化水素HClとGeH4、SiH4及びジクロロシラン(SiH2Cl2:DCS)のうち少なくとも一つが混合されたガスを挙げることができる。他のエッチング条件などは実施例8で説明したことと同一である。
または、実施例9のように、炭素、ホウ素、燐などのような第3不純物をエピタキシャル層350にイオン注入して、エピタキシャル層350と側面と一致せずエピタキシャル層350の側面よりゲートパターン300の中央と近接した側面を有する第2高濃度不純物領域370を形成することもできる。
図44は本発明の実施例11による半導体装置のトランジスタを示す断面図である。
図44を参照すると、本実施例による半導体装置のトランジスタ400は半導体基板410、半導体基板410上に形成されたゲート構造物420、ゲート構造物420の両側に形成された2個のエピタキシャル層450、エピタキシャル層450の側部に位置した低濃度不純物領域485、エピタキシャル層450の下部に位置した第1高濃度不純物領域480、エピタキシャル層450に形成された第2高濃度不純物領域、及びハローイオン注入領域460を含む。
シリコンゲルマニウムからなるエピタキシャル層450が凹陥部412内に形成される。エピタキシャル層450は、{111}である側面と、{100}である底面を有する。
エピタキシャル層450に第3不純物をイオン注入して、第2高濃度不純物領域が形成される。本実施例による第2高濃度不純物領域は、エピタキシャル層450と実質的に一致する側面を有する。
図45を参照すると、絶縁膜パターン432、導電膜パターン434、及びハードマスク膜パターン436が積層された構造で構成されたゲートパターン430を半導体基板410の{100}である表面418上に形成する。
ここで、半導体基板410のうち、ハロードーパントがイオン注入された部分では、シリコンと塩化水素間の反応がより活発に発生することができる。したがって、ハロードーパントがイオン注入されない半導体基板をエッチングして、凹陥部412を形成する時間よりハロードーパントがイオン注入された半導体基板410をエッチングして、凹陥部412を形成する時、半導体基板410の垂直方向へのエッチング時間が相対的に減少され、スペーサの下に{111}面を容易に形成することができる。
一方、第2高濃度不純物領域は、ハローイオン注入領域460と異なる導電型を有する。例えば、ハローイオン注入領域460がP型であれば、第2高濃度不純物領域はN型であり、又は、その逆になる。ハローイオン注入領域460が第2高濃度不純物領域と異なる導電型を有するので、第2高濃度不純物領域内の第3不純物が半導体基板410に拡散されることがハローイオン注入領域460によって抑制される。したがって、ソース領域とドレイン領域が近接することによって発生される短チャンネル効果が抑制される。本実施例による第2高濃度不純物領域は、エピタキシャル層450と一致する側面を有する。
本実施例によるトランジスタは、第2高濃度不純物領域470がエピタキシャル層450と側面と一致しなく、エピタキシャル層450の側面よりゲートパターンの中央に拡散された側面を有することを除いては、図44に図示された実施例11のトランジスタと実質的に同じ構成で構成される。したがって、本実施例によるトランジスタについての重複説明は省略し、製造方法についてのみ説明する。
ここで、第2高濃度不純物領域470は、エピタキシャル層450と側面と一致しなく、エピタキシャル層450の側面よりゲートパターン430の中央と近接した側面を有する。このような第2高濃度不純物領域470は、熱処理工程を通じて第3不純物を半導体基板410内により拡散させることによって形成されることができる。又は、実施例11と同様に、第2高濃度不純物領域470がエピタキシャル層450の側面と同じ境界を有することができる。
図54乃至図61は、本発明の実施例13によって、図44に図示されたトランジスタを製造する方法を順次に示す断面図である。本実施例によると、第1スペーサと第2スペーサを形成する工程の間にエピタキシャル層を成長させる工程を行って、図44に図示した同じトランジスタを製造する。したがって、同じ部材には同じ参照符号を付与する。
ここで、シリコンゲルマニウムを含むソースガスと炭素、ホウ素、燐等のような第3不純物を含むガスを同時に注入して、第3不純物がドーピングされたエピタキシャル層450を形成することができる。このようにすると、第2高濃度不純物領域は、エピタキシャル層450の側面と同じ境界を有することになる。
図62は、本発明の実施例14によるトランジスタを示す断面図である。
本実施例によるトランジスタ300aは、隆起されたエピタキシャル層355を有するという点を除いては、図28に図示された実施例8のトランジスタ300と実質的に同じ構成で構成される。したがって、同じ部材には同じ参照符号を付与して、その重複説明は省略する。
一方、本実施例によってトランジスタを製造する方法は、エピタキシャル層を成長させる工程を除いては、実施例8の図29乃至図33を参照して説明した工程と実質的に同じである。したがって、同じ部材には同じ参照符号を付与して、エピタキシャル層を形成する工程より先行する工程についての説明は省略する。
又は、実施例9で説明したように、ドーピングされない隆起されたエピタキシャル層355をまず成長させた後、第3不純物をドーピングされない隆起されたエピタキシャル層355に別に注入して、隆起されたソース/ドレインを形成することもできる。
図63は、本発明の実施例15による半導体装置のトランジスタを示す断面図である。
本実施例によるトランジスタ300bは、ゲート構造物320bを除いては実施例8によるトランジスタ300と実質的に同一の構成を有する。したがって、同一の部材に対しては同一の参照符合で示し、また同一部材に対する説明は省略する。
ここで、エピタキシャルゲート層338は、エピタキシャル層350と共に形成される。したがって、エピタキシャルゲート層338は、エピタキシャル350と実質的に同一である材質からなる。
図64を参照すると、酸化物のような絶縁膜(図示せず)を半導体基板310の表面318上に形成する。タングステンのような金属物質からなる導電膜(図示せず)を絶縁膜上に形成する。その後、フォトレジストパターン(図示せず)を導電膜上に形成する。その後、フォトレジストパターンをエッチングマスクとして用いて導電膜と絶縁膜を部分的にエッチングして、ゲート絶縁膜パターン332と導電膜パターン334を形成する。
実施例15によるトランジスタの製造
図64乃至図69に示したトランジスタの製造方法によって、図63に示したトランジスタ300bを製造した。具体的には、半導体基板310の{100}面である表面318上にゲート絶縁膜332と導電膜を順次形成した。導電膜を部分的にエッチングして、導電膜パターン334を形成した。導電膜パターン334をイオン注入マスクとして用いて半導体基板310に第1不純物をイオン注入して、予備低濃度不純物領域387を形成した。第1スペーサ342及び第2スペーサ344を導電膜パターン334の側壁上に形成した。導電膜パターン334の両側部位である半導体基板310を部分的にエッチングして、{111}面である側面314と{100}面である底面316を有する凹陥部312を形成した。これと同時に、予備低濃度不純物領域387を部分的に除去して低濃度不純物領域385を形成した。導電膜パターン334をイオン注入マスクとして用いて凹陥部312の底面に第2不純物をイオン注入し、第1高濃度不純物領域380を形成した。シリコンゲルマニウムを半導体基板310上に導入して、凹陥部312内にエピタキシャル層350を成長させると共に導電膜パターン334の表面からエピタキシャルゲート層338を成長させた。第3不純物をエピタキシャル層350にイオン注入し、第2高濃度不純物領域を形成した。
図70は、従来のトランジスタ500の一例を示す。図70を参照すると、従来のトランジスタ500は、半導体基板510、半導体基板510上に形成されたゲート構造物520、ゲート構造物520の両側に形成された高濃度不純物領域570、及び高濃度不純物領域570の側部に位置した低濃度不順物領域585を含む。
図71は、従来のトランジスタ600の他の例を示す。図71に示したトランジスタ600は、製造方法が異なることを除いては、図63に示したトランジスタ300bと実質的に同一に構成される。したがって、図71に示したトランジスタ600に対する説明は省略する。
実施例15と比較例1及び比較例2にて製造したトランジスタに対して接合漏洩電流(junction leakage current)と電流利得率を測定し、測定結果を図72のグラフに示した。図72で、横軸は実施例15と比較例1及び比較例2を示し、左側縦軸は接合漏洩電流(任意単位:Arbitrary Unit)を示し、右側縦軸は電流利得率(単位:%)を示す。また、比較的大きくて中間に分割線が入っている長方形は、接合漏洩電流を示し、グラフ■は電流利得率を示す。
電流利得率は、電流大きさを測定して改善した結果を示し、比較例1のトランジスタを基準である0%にして示した。電流利得が大きいほど電流の大きさが大きく測定され、これはイオン注入効果が優秀であることを示す。
したがって、比較例2のトランジスタは比較例1のトランジスタに比べて電流利得率の面からは改善の効果があるが、接合漏洩電流は悪化した反面、本発明の実施例15によるトランジスタは接合漏洩電流は比較例1と同一の効果を示す反面、電流利得率面からは優秀な効果を示すことがわかる。
実施例15と比較例1及び比較例2にて製造したトランジスタに対してターンオン電流とターンオフ電流をそれぞれ測定し、測定された結果を図73のグラフに示した。図73で、横軸はターンオン電流を示し、縦軸はターンオフ電流示す。また、□は比較例1によるトランジスタの電流を示し、△は比較例2によるトランジスタの電流を示し、■は実施例15によるトランジスタの電流を示す。
実施例15と比較例1及び比較例2によるトランジスタに対してしきい電圧を測定し、その測定結果を図74のグラフに示した。図74で、横軸はゲートの長さを示し、縦軸はしきい電圧を示す。また、グラフaは実施例15のトランジスタに関し、グラフbは比較例1のトランジスタに関し、グラフcは比較例2に関する。
図74を参照すると、同一のゲート長さに対して実施例15のしきい電圧が比較例1及び比較例2より相対的に高いことがわかる。したがって、本発明によるトランジスタが相対的に高いしきい電圧を有するため、改善した動作性能を有することができる。
また、本発明のトランジスタは低い接合漏洩電流、ターンオフ電流に対するターンオン電流の高い割合及び高いしきい電圧を有するため、優秀な電気的な特性を有するようになる。
112、312 凹陥部
114、314 側面
116、316 底面
118、318 表面
120、320 ゲート構造物
130、330 ゲートパターン
132、332 ゲート絶縁膜パターン
134、334 導電膜パターン
136、336 ハードマスク膜パターン
142、342 第1スペーサ
144、344 第2スペーサ
150、350 エピタキシャル層
170 不純物領域
260、360 ハローイオン注入領域
370 第2高濃度不純物領域
380 第1高濃度不純物領域
Claims (39)
- {100}面である第1表面、前記第1表面より低い高さを有する{100}面である第2表面、及び前記第1表面と第2表面との間を連結しながら、前記第1及び第2表面に傾斜を有する{111}面である第3表面を有する半導体基板と、
前記半導体基板の第2表面下部に形成された第1高濃度不純物領域と、
前記半導体基板の第1表面上に形成されたゲート構造物と、
前記半導体基板の第2表面及び第3表面上に形成され、前記第3表面から[111]方向に成長した第1結晶構造物及び第2表面から[100]方向に成長した第2結晶構造物を含むヘテロエピタキシャル層と、
前記ゲート構造物に隣接して及び少なくともその一部が前記へテロエピタキシャル層内に形成されて、前記第1高濃度不純物と組合わせてソース/ドレイン領域を形成する第2高濃度不純物領域と、を含むが、
前記第2高濃度不純物領域は、前記ヘテロエピタキシャル層の第3表面と一致する側面を有するか、又は、前記ヘテロエピタキシャル層の第3表面と一致せず、かつ前記ヘテロエピタキシャル層の前記第3表面より拡散された側面を含み、
前記第3表面と接する前記半導体基板の部位に形成され、前記第2高濃度不純物領域にドーピングされた不純物が前記半導体基板に拡散することを防止するためのハローイオン注入領域を更に含み、前記ハローイオン注入領域は、前記第2高濃度不純物領域と異なる導電型を有することを特徴とするトランジスタ。 - 前記半導体基板の第3表面の下部に形成された低濃度不純物領域を更に含むことを特徴とする請求項1記載のトランジスタ。
- 前記ゲート構造物は、
前記半導体基板の第1表面上に形成されたゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成された導電膜パターンと、を含むことを特徴とする請求項1記載のトランジスタ。 - 前記導電膜パターン上に形成されたハードマスク膜パターンを更に含むことを特徴とする請求項3記載のトランジスタ。
- 前記導電膜パターン上に形成されたエピタキシャルゲート層を更に含むことを特徴とする請求項3記載のトランジスタ。
- 前記エピタキシャルゲート層は、シリコンゲルマニウムを含むことを特徴とする請求項5記載のトランジスタ。
- 前記導電膜パターンの側壁上に順次に形成された第1スペーサ及び第2スペーサを更に含むことを特徴とする請求項3記載のトランジスタ。
- 前記第3表面は、前記第1スペーサ及び第2スペーサの下に位置することを特徴とする請求項7記載のトランジスタ。
- 前記エピタキシャル層は、シリコンゲルマニウムを含むことを特徴とする請求項1記載のトランジスタ。
- 前記第2高濃度不純物領域は、前記半導体基板の第3表面と一致する側面を有することを特徴とする請求項1記載のトランジスタ。
- 前記エピタキシャル層は、前記半導体基板の第1表面より高い表面を有することを特徴とする請求項1記載のトランジスタ。
- {100}面である第1表面、前記第1表面より低い高さを有する{100}面である第2表面、及び前記第1表面と第2表面との間を連結しながら、前記第1及び第2表面に傾斜を有する{111}面である第3表面を有する半導体基板と、
前記半導体基板の第1表面上に形成されたゲート絶縁膜、前記ゲート絶縁膜上に形成された導電膜パターン、及び前記導電膜パターン上に形成されたエピタキシャルゲート層で構成されたゲート構造物と、
前記半導体基板の第2表面及び第3表面上に形成され、前記第3表面から[111]方向に成長した第1結晶構造物及び前記第2表面から[100]方向に成長した第2結晶構造物を含むヘテロエピタキシャル層と、
前記ゲート構造物に隣接して及び少なくともその一部が前記ヘテロエピタキシャル層内に形成されてソース/ドレイン領域を形成する高濃度不純物領域と、を含むが、
前記高濃度不純物領域は、前記ヘテロエピタキシャル層の第3表面と一致する側面を有するか、又は、前記ヘテロエピタキシャル層の第3表面と一致せず、かつ前記ヘテロエピタキシャル層の前記第3表面より拡散された側面を含み、
前記第3表面と接する前記半導体基板の部位に形成され、前記不純物領域にドーピングされた不純物が前記半導体基板に拡散することを防止するためのハローイオン注入領域を更に含み、前記ハローイオン注入領域は、前記不純物領域と異なる導電型を有することを特徴とするトランジスタ。 - 前記ゲート構造物は、前記導電膜パターンの側壁上に形成された第1スペーサ及び第2スペーサを更に含むことを特徴とする請求項12記載のトランジスタ。
- 前記第3表面は、前記第1スペーサ及び第2スペーサの下に位置することを特徴とする請求項13記載のトランジスタ。
- 前記エピタキシャル層は、シリコンゲルマニウムを含むことを特徴とする請求項12記載のトランジスタ。
- 前記不純物領域は、前記半導体基板の第3表面と一致する側面を有することを特徴とする請求項12記載のトランジスタ。
- 前記エピタキシャル層は、前記半導体基板の第1表面より高い表面を有することを特徴とする請求項12記載のトランジスタ。
- {100}面である第1表面、前記第1表面より低い高さを有する{100}面である第2表面、及び前記第1表面と第2表面との間を連結しながら、前記第1及び第2表面に傾斜を有する{111}面である第3表面を有する半導体基板を提供する段階と、
前記第1表面上にゲート構造物を形成する段階と、
前記ゲート構造物をイオン注入マスクとして用いて、前記半導体基板の第2表面に第1不純物をイオン注入して、第1高濃度不純物領域を形成する段階と、
前記第3表面から[111]方向に第1結晶構造物を成長させ、前記第2表面から[100]方向に第2結晶構造物を成長させて前記第1及び第2結晶構造物を含むヘテロエピタキシャル層を形成する段階と、
前記エピタキシャル層に第2不純物をイオン注入して、第2高濃度不純物領域を形成する段階と、をこの順序で含むが、
前記第2高濃度不純物領域は、前記ゲート構造物に隣接して及び少なくともその一部が前記ヘテロエピタキシャル層内に形成されて前記第1高濃度不純物領域と組合わせてソース/ドレーン領域を形成し、また、前記ヘテロエピタキシャル層の第3表面と一致する側面を有するか、又は、前記ヘテロエピタキシャル層の第3表面と一致せず、かつ前記ヘテロエピタキシャル層の前記第3表面より拡散された側面を含むことを特徴とするトランジスタの製造方法。 - 前記第1高濃度不純物領域を形成する段階の前に、前記ゲート構造物をイオン注入マスクとして用いて第3不純物を前記半導体基板の第2表面にイオン注入して低濃度不純物領域を形成する段階を更に含むことを特徴とする請求項18記載のトランジスタの製造方法。
- 前記ゲート構造物を形成する段階は、
前記半導体基板の第1表面上にゲート絶縁膜を形成する段階と、
前記ゲート絶縁膜上に導電膜パターンを形成する段階と、を含むことを特徴とする請求項18記載のトランジスタの製造方法。 - 前記導電膜パターン上にハードマスク膜パターンを形成する段階を更に含むことを特徴とする請求項20記載のトランジスタの製造方法。
- 前記導電膜パターン上にエピタキシャルゲート層を成長させる段階を更に含むことを特徴とする請求項20記載のトランジスタの製造方法。
- 前記エピタキシャルゲート層を形成する段階は、前記エピタキシャル層を成長させる段階と同時に行われることを特徴とする請求項22記載のトランジスタの製造方法。
- 前記導電膜パターンの側壁上に第1スペーサ及び第2スペーサを順次に形成する段階を更に含み、第1スペーサ及び第2スペーサの下に前記第3表面が位置することを特徴とする請求項20記載のトランジスタの製造方法。
- 前記半導体基板を500〜700℃の温度にて塩化水素とGeH4、SiH4、及びDCSで構成された群から選択された少なくとも一つを用いて部分的にエッチングして、前記第2表面及び第3表面を形成することを特徴とする請求項19記載のトランジスタの製造方法。
- 前記半導体基板のエッチング段階の前に、前記半導体基板に前記第2不純物と異なる導電型を有するハロードーパントをイオン注入して予備ハローイオン注入領域を形成する段階を更に含み、
前記半導体基板のエッチング段階にて、前記予備ハローイオン注入領域を部分的に除去して、前記第3表面と接するよう形成され、前記第2不純物が前記半導体基板に拡散することを防止するハローイオン注入領域を形成することを特徴とする請求項25記載のトランジスタの製造方法。 - 前記エピタキシャル層は、シリコンゲルマニウムを含むことを特徴とする請求項19記載のトランジスタの製造方法。
- 前記第2不純物を注入する段階は、前記エピタキシャル層を成長させる段階と同時に行うことを特徴とする請求項19記載のトランジスタの製造方法。
- {100}面である第1表面、前記第1表面より低い高さを有する{100}面である第2表面、及び前記第1表面と第2表面との間を連結しながら、第1及び第2表面に傾斜を有する{111}面である第3表面を有する半導体基板を提供する段階と、
前記半導体基板の第1表面上にゲート絶縁膜と導電膜パターン及びエピタキシャルゲート層が順次積層されたゲートパターンを形成する段階と、
前記半導体基板の第3表面から[111]方向に第1結晶構造物を成長させ、前記半導体基板の第2表面から[100]方向に第2結晶構造物を成長させて前記第1及び第2結晶構造物を含むヘテロエピタキシャル層を形成する段階と、
前記エピタキシャル層に第1不純物をイオン注入して、高濃度不純物領域を形成する段階と、をこの順序で含むが、
前記高濃度不純物領域は、前記ゲートパターンに隣接して及び少なくともその一部が前記ヘテロエピタキシャル層内に形成されて、ソース/ドレーン領域を形成し、また、前記ヘテロエピタキシャル層の第3表面と一致する側面を有するか、又は、前記ヘテロエピタキシャル層の第3表面と一致せず、かつ前記ヘテロエピタキシャル層の前記第3表面より拡散された側面を含み、
前記半導体基板のエッチング段階の前に、前記半導体基板にハロードーパントをイオン注入して予備ハローイオン注入領域を形成する段階を更に含み、
前記半導体基板のエッチング段階で、前記予備ハローイオン注入領域を部分的に除去して、前記第3表面と接するように形成され、前記不純物が前記半導体基板に拡散することを防止するハローイオン注入領域を形成することを特徴とするトランジスタの製造方法。 - 前記エピタキシャル層を成長させる段階の前に、前記ゲートパターンをイオン注入マスクとして用いて、第2不純物を前記半導体基板にイオン注入して低濃度不純物領域を形成する段階を更に含むことを特徴とする請求項29記載のトランジスタの製造方法。
- 前記エピタキシャル層を成長させる段階は、前記エピタキシャルゲート層を前記導電膜パターンの表面から成長させる段階と同時に行われることを特徴とする請求項29記載のトランジスタの製造方法。
- 前記半導体基板を部分的にエッチングして、前記第2表面及び第3表面を形成することを特徴とする請求項29記載のトランジスタの製造方法。
- {100}面である半導体基板の表面上に絶縁膜と導電膜パターンを順次形成する段階と、
前記導電膜パターンの側壁に第1スペーサを形成する段階と、
前記第1スペーサ上に第2スペーサを形成する段階と、
前記導電膜パターンの両側である前記半導体基板の部位を部分的にエッチングして、前記半導体基板の表面より低い{100}面である底面と、前記底面と表面との間を連結しながら前記第1及び第2表面に傾斜を有する{111}面である側面を有しかつ、前記導電膜パターンの一部と前記第1スペーサ及び第2スペーサを露出させる凹陥部を形成する段階と、
前記凹陥部の底面に第1不純物をイオン注入して、第1高濃度不純物領域を形成する段階と、
前記凹陥部内で前記第3表面から[111]方向に第1結晶構造物を成長させ、前記第2表面から[100]方向に第2結晶構造物を成長させて前記第1及び第2結晶構造物を含むヘテロエピタキシャル層を形成すると同時に、前記導電膜パターンの表面からエピタキシャルゲート層を成長させる段階と、
前記エピタキシャル層に第2不純物を注入して、第2高濃度不純物領域を形成する段階とをこの順序で含み、
前記第2高濃度不純物領域は、前記導電膜パターンに隣接して及び少なくともその一部が前記ヘテロエピタキシャル層内に形成されて前記第1高濃度不純物領域と組合わせてソース/ドレーン領域を形成し、また、前記ヘテロエピタキシャル層の第3表面と一致する側面を有するか、又は、前記ヘテロエピタキシャル層の第3表面と一致せず、かつ前記ヘテロエピタキシャル層の前記第3表面より拡散された側面を含むことを特徴とするトランジスタの製造方法。 - 前記第1スペーサを形成する段階の前に、前記導電膜パターンをイオン注入マスクとして用いて第3不純物を前記半導体基板にイオン注入して低濃度不純物領域を形成する段階を更に含むことを特徴とする請求項33記載の方法。
- 前記第2スペーサを形成する前に、前記第1スペーサをイオン注入マスクとして用いて前記半導体基板にハロードーパントをイオン注入して予備ハローイオン注入領域を形成する段階を更に含み、
前記凹陥部を形成する段階で、前記予備ハローイオン注入領域を部分的に除去して、前記側面と接するよう形成され、前記第2不純物が前記半導体基板に拡散されることを防止するハローイオン注入領域を形成することを特徴とする請求項33記載のトランジスタの製造方法。 - 前記第2不純物を注入する段階は、前記エピタキシャル層を成長させる段階と同時に実施することを特徴とする請求項33記載のトランジスタの製造方法。
- {100}面である半導体基板の表面上にゲート絶縁膜と導電膜パターンを順次形成する段階と、
前記導電膜パターンの側壁に第1スペーサを形成する段階と、
前記導電膜パターンの両側である前記半導体基板の部位を部分的にエッチングして、前記半導体基板の表面より低い{100}面である底面と、前記底面と表面との間を連結しながら、前記第1及び第2表面に傾斜を有する{111}面である側面を有しかつ、前記導電膜パターンの一部と前記第1スペーサを露出させる凹陥部を形成する段階と、
前記凹陥部の底面に第1不純物をイオン注入して、第1高濃度不純物領域を形成する段階と、
前記凹陥部内に前記第3表面から[111]方向に第1結晶構造物を成長させ、前記第2表面から[100]方向に第2結晶構造物を成長させて、前記第1及び第2結晶構造物を含むヘテロエピタキシャル層を形成すると同時に、前記導電膜パターンの表面からエピタキシャルゲート層を成長させる段階と、
前記第1スペーサと前記エピタキシャル層上に第2スペーサを形成する段階と、
前記エピタキシャル層に第2不純物を注入して、第2高濃度不純物領域を形成する段階と、をこの順序で含むが、
前記第2高濃度不純物領域は、前記導電膜パターンに隣接して及び少なくともその一部が前記ヘテロエピタキシャル層内に形成されて、前記第1高濃度不純物領域と組合わせてソース/ドレーン領域を形成し、また、前記ヘテロエピタキシャル層の第3表面と一致する側面を有するか、又は、前記ヘテロエピタキシャル層の第3表面と一致せず、かつ前記ヘテロエピタキシャル層の前記第3表面より拡散された側面を含むことを特徴とするトランジスタの製造方法。 - 前記第1スペーサを形成する段階の前に、前記導電膜パターンをイオン注入マスクとして用いて第3不純物を前記半導体基板にイオン注入して低濃度不純物領域を形成する段階を更に含むことを特徴とする請求項37記載のトランジスタの製造方法。
- 前記半導体基板のエッチング段階の前に、前記第1スペーサをイオン注入マスクとして用いて前記半導体基板にハロードーパントをイオン注入して予備ハローイオン注入領域を形成する段階を更に含み、
前記凹陥部を形成する段階にて、前記予備ハローイオン注入領域を部分的に除去して、前記側面と接するように形成され、前記第2不純物が前記半導体基板に拡散することを防止するハローイオン注入領域を形成することを特徴とする請求項37記載のトランジスタの製造方法。
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US7732285B2 (en) * | 2007-03-28 | 2010-06-08 | Intel Corporation | Semiconductor device having self-aligned epitaxial source and drain extensions |
US7737468B2 (en) * | 2007-05-21 | 2010-06-15 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor devices having recesses filled with semiconductor materials |
DE102008011932B4 (de) * | 2008-02-29 | 2010-05-12 | Advanced Micro Devices, Inc., Sunnyvale | Verfahren zur Erhöhung der Eindringtiefe von Drain- und Sourceimplantationssorten für eine gegebene Gatehöhe |
JP2010010587A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Toshiba Corp | 半導体素子及び半導体素子の製造方法 |
WO2010013325A1 (ja) * | 2008-07-30 | 2010-02-04 | 株式会社ニレコ | 分光測光装置 |
US8305829B2 (en) * | 2009-02-23 | 2012-11-06 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Memory power gating circuit for controlling internal voltage of a memory array, system and method for controlling the same |
US8305790B2 (en) * | 2009-03-16 | 2012-11-06 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Electrical anti-fuse and related applications |
US8957482B2 (en) * | 2009-03-31 | 2015-02-17 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Electrical fuse and related applications |
US8912602B2 (en) * | 2009-04-14 | 2014-12-16 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | FinFETs and methods for forming the same |
US8461015B2 (en) * | 2009-07-08 | 2013-06-11 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | STI structure and method of forming bottom void in same |
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US8264032B2 (en) * | 2009-09-01 | 2012-09-11 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Accumulation type FinFET, circuits and fabrication method thereof |
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US8709897B2 (en) * | 2010-11-30 | 2014-04-29 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | High performance strained source-drain structure and method of fabricating the same |
US8796788B2 (en) * | 2011-01-19 | 2014-08-05 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor devices with strained source/drain structures |
US8877602B2 (en) | 2011-01-25 | 2014-11-04 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Mechanisms of doping oxide for forming shallow trench isolation |
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US8431453B2 (en) | 2011-03-31 | 2013-04-30 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Plasma doping to reduce dielectric loss during removal of dummy layers in a gate structure |
US9165944B2 (en) | 2013-10-07 | 2015-10-20 | Globalfoundries Inc. | Semiconductor device including SOI butted junction to reduce short-channel penalty |
US20230231050A1 (en) * | 2022-01-17 | 2023-07-20 | Changxin Memory Technologies, Inc. | Semiconductor structure and manufacturing method thereof |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60193379A (ja) * | 1984-03-15 | 1985-10-01 | Nec Corp | 低抵抗単結晶領域形成方法 |
JPS63153863A (ja) * | 1986-12-18 | 1988-06-27 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
US4898835A (en) * | 1988-10-12 | 1990-02-06 | Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. | Single mask totally self-aligned power MOSFET cell fabrication process |
JPH04229653A (ja) * | 1990-06-08 | 1992-08-19 | Ricoh Co Ltd | 半導体メモリ装置 |
US5323053A (en) * | 1992-05-28 | 1994-06-21 | At&T Bell Laboratories | Semiconductor devices using epitaxial silicides on (111) surfaces etched in (100) silicon substrates |
US5427964A (en) * | 1994-04-04 | 1995-06-27 | Motorola, Inc. | Insulated gate field effect transistor and method for fabricating |
KR0135147B1 (ko) * | 1994-07-21 | 1998-04-22 | 문정환 | 트랜지스터 제조방법 |
JP3761918B2 (ja) * | 1994-09-13 | 2006-03-29 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法 |
JP2964895B2 (ja) * | 1995-01-04 | 1999-10-18 | 日本電気株式会社 | 電界効果型トランジスタおよびその製造方法 |
US6159815A (en) * | 1996-09-27 | 2000-12-12 | Siemens Aktiengesellschaft | Method of producing a MOS transistor |
JPH10326837A (ja) * | 1997-03-25 | 1998-12-08 | Toshiba Corp | 半導体集積回路装置の製造方法、半導体集積回路装置、半導体装置、及び、半導体装置の製造方法 |
JPH11163343A (ja) * | 1997-11-28 | 1999-06-18 | Nec Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
US6121100A (en) * | 1997-12-31 | 2000-09-19 | Intel Corporation | Method of fabricating a MOS transistor with a raised source/drain extension |
JP4366733B2 (ja) | 1998-10-02 | 2009-11-18 | ボッシュ株式会社 | ブレーキ倍力装置 |
US6887762B1 (en) * | 1998-11-12 | 2005-05-03 | Intel Corporation | Method of fabricating a field effect transistor structure with abrupt source/drain junctions |
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US6271095B1 (en) * | 1999-02-22 | 2001-08-07 | Advanced Micro Devices, Inc. | Locally confined deep pocket process for ULSI mosfets |
KR100332108B1 (ko) * | 1999-06-29 | 2002-04-10 | 박종섭 | 반도체 소자의 트랜지스터 및 그 제조 방법 |
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KR100406537B1 (ko) * | 2001-12-03 | 2003-11-20 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체장치의 제조 방법 |
US6605498B1 (en) * | 2002-03-29 | 2003-08-12 | Intel Corporation | Semiconductor transistor having a backfilled channel material |
DE10335102B4 (de) * | 2003-07-31 | 2008-06-26 | Advanced Micro Devices, Inc., Sunnyvale | Verfahren zur Herstellung einer epitaxialen Schicht für erhöhte Drain- und Sourcegebiete durch Entfernen von Kontaminationsstoffen |
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