JP2007103798A - 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法 - Google Patents
電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007103798A JP2007103798A JP2005293941A JP2005293941A JP2007103798A JP 2007103798 A JP2007103798 A JP 2007103798A JP 2005293941 A JP2005293941 A JP 2005293941A JP 2005293941 A JP2005293941 A JP 2005293941A JP 2007103798 A JP2007103798 A JP 2007103798A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- foil
- cleaning
- solution
- aluminum electrode
- etched
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
【課題】 エッチド箔から付着物を容易に除去できるケミカル洗浄方法を採用することにより、高い静電容量が得られる電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法を提供する。
【解決手段】 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔を製造するにあたって、少なくとも塩素イオンを含むエッチング液中でアルミニウム箔を粗面化してエッチド箔とするエッチング工程と、エッチド箔から付着物を除去するケミカル洗浄工程と、エッチド箔に対する陽極酸化工程とを行う。前記ケミカル洗浄工程では、エッチド箔をアルカリ性洗浄液に浸漬させるアルカリ洗浄工程と、アルカリ洗浄工程を行った後のエッチド箔を酸性洗浄液に浸漬させる酸洗浄工程とを行う。
【選択図】 なし
【解決手段】 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔を製造するにあたって、少なくとも塩素イオンを含むエッチング液中でアルミニウム箔を粗面化してエッチド箔とするエッチング工程と、エッチド箔から付着物を除去するケミカル洗浄工程と、エッチド箔に対する陽極酸化工程とを行う。前記ケミカル洗浄工程では、エッチド箔をアルカリ性洗浄液に浸漬させるアルカリ洗浄工程と、アルカリ洗浄工程を行った後のエッチド箔を酸性洗浄液に浸漬させる酸洗浄工程とを行う。
【選択図】 なし
Description
本発明は、電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法に関するものであり、さらに詳しくは、低圧の陽極用アルミニウム箔の製造方法に関するものである。
従来、電解コンデンサ用アルミニウム電極箔を製造するにあたっては、塩化物を主として硫酸、リン酸、硝酸等を含む水溶液中でアルミニウム箔に化学的または電気化学的なエッチングを施して、表面が粗面化されたエッチド箔とする。その際、エッチド箔表面に残存する塩素イオン等の陰イオンを除去するために、水洗浄に加えて、ケミカル洗浄工程を行う。このように形成したエッチド箔が陽極箔として用いられる場合、エッチド箔に対しては、陽極酸化工程で酸化皮膜を形成する。
ここで、ケミカル洗浄工程としてはリン酸、硫酸、硝酸等の無機酸水溶液による酸洗浄が行われる。また、無機酸水溶液による酸洗浄と有機酸水溶液による酸洗浄とを組み合わせた洗浄方法も提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開平11−354387号公報
近年、アルミニウム電解コンデンサの小形化に伴ない単位面積当りの静電容量を増大させる必要があり、そのためエッチド箔はより一層粗面化され、微細なエッチピット構造を有するに到っている。
このように微細に粗面化されたアルミニウム箔において、従来の方法で残留塩素イオン等の箔付着陰イオンを除去するには、酸洗浄を強く行なわなければならず、その結果、微細なエッチピットを溶解してしまい、静電容量を低下させてしまうという問題点がある。
このように微細に粗面化されたアルミニウム箔において、従来の方法で残留塩素イオン等の箔付着陰イオンを除去するには、酸洗浄を強く行なわなければならず、その結果、微細なエッチピットを溶解してしまい、静電容量を低下させてしまうという問題点がある。
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、エッチド箔から付着物を容易に除去できるケミカル洗浄方法を採用することにより、高い静電容量が得られる電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法を提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明では、少なくとも塩素イオンを含むエッチング液中でアルミニウム箔を粗面化してエッチド箔とするエッチング工程と、当該エッチド箔から付着物を除去するケミカル洗浄工程とを有する電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法において、
前記ケミカル洗浄工程では、前記エッチド箔をアルカリ性洗浄液に浸漬させるアルカリ洗浄工程と、該アルカリ洗浄工程を行った後、前記エッチド箔を酸性洗浄液に浸漬させる酸洗浄工程とを行うことを特徴とする。
ここで、エッチング工程とアルカリ洗浄工程との間、アルカリ洗浄工程と酸洗浄工程との間、および酸洗浄工程の後には、必要に応じて水洗浄が行われる。
前記ケミカル洗浄工程では、前記エッチド箔をアルカリ性洗浄液に浸漬させるアルカリ洗浄工程と、該アルカリ洗浄工程を行った後、前記エッチド箔を酸性洗浄液に浸漬させる酸洗浄工程とを行うことを特徴とする。
ここで、エッチング工程とアルカリ洗浄工程との間、アルカリ洗浄工程と酸洗浄工程との間、および酸洗浄工程の後には、必要に応じて水洗浄が行われる。
また、前記アルカリ性洗浄液として、濃度が0.004〜1.0wt%の水酸化ナトリウム水溶液、アンモニア水溶液または炭酸ナトリウム水溶液のうち、少なくとも1種を用い、当該アルカリ性洗浄液の液温が、20〜80℃の範囲に設定されることが好ましい。濃度および温度が上記の範囲より低いと箔付着物の除去効果は得られず、逆に高いとアルミニウムの溶解反応が強くなり、拡面倍率が低下して、静電容量の低下をもたらす傾向にある。
本発明において、前記酸洗浄工程では、酸性洗浄液として、濃度が0.1〜30wt%の硝酸水溶液を用い、前記酸性洗浄液の液温が20〜80℃の範囲であることが好ましい。
濃度および温度が上記の範囲より低いと箔付着物の除去効果が得られず、逆に高いとアルミニウムの溶解反応が強くなり、拡面倍率が低下して、静電容量の低下をもたらす傾向にある。
濃度および温度が上記の範囲より低いと箔付着物の除去効果が得られず、逆に高いとアルミニウムの溶解反応が強くなり、拡面倍率が低下して、静電容量の低下をもたらす傾向にある。
本発明は、前記エッチング工程において、アルミニウム箔を前記エッチング液中で交流電解される電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法に適用すると効果的である。
すなわち、交流エッチングでアルミニウム箔を得た場合、微細なエッチピット構造が形成される分、ケミカル洗浄によりエッチピットが溶解してしまい、静電容量が低下しやすい傾向にあるが、本発明を適用すると、かかる静電容量の低下を防止することができる。
すなわち、交流エッチングでアルミニウム箔を得た場合、微細なエッチピット構造が形成される分、ケミカル洗浄によりエッチピットが溶解してしまい、静電容量が低下しやすい傾向にあるが、本発明を適用すると、かかる静電容量の低下を防止することができる。
本発明は、電解コンデンサ用アルミニウム電極箔が陽極箔として用いられる場合、および陰極箔として用いられる場合のいずれにも適用できるが、電解コンデンサ用アルミニウム電極箔が陽極箔として用いられる場合、前記ケミカル洗浄工程を行ったエッチド箔に陽極酸化皮膜を形成することになる。
このような陽極箔の製造に本発明を適用すると、酸洗浄のみでは容易に除去できなかった付着物を確実に除去できるので、良質の酸化皮膜を形成でき、静電容量を向上させることができる。
このような陽極箔の製造に本発明を適用すると、酸洗浄のみでは容易に除去できなかった付着物を確実に除去できるので、良質の酸化皮膜を形成でき、静電容量を向上させることができる。
本発明では、少なくとも塩素イオンを含むエッチング液中で粗面化されたエッチド箔に対するケミカル洗浄工程において、アルカリ洗浄工程を行った後、酸洗浄工程を行うため、酸洗浄のみでは容易に除去できなかった付着物も除去できる。
すなわち、エッチング液に塩素イオン、さらには、硫酸イオン、リン酸イオン、硝酸イオン等を含んでいた場合、アルミニウム箔に付着していたこれらのイオン残滓(付着物)は酸洗浄よりもアルカリ性洗浄液による方が容易に除去できるので、本発明では、塩素イオン、硫酸イオン、リン酸イオン、硝酸イオン等をアルカリ性洗浄液によって除去した後、アルカリ残滓を酸洗浄により除去する。
従って、ケミカル洗浄工程において微細なエッチピットが溶解するのを防止でき、静電容量を低下させることがない。
すなわち、エッチング液に塩素イオン、さらには、硫酸イオン、リン酸イオン、硝酸イオン等を含んでいた場合、アルミニウム箔に付着していたこれらのイオン残滓(付着物)は酸洗浄よりもアルカリ性洗浄液による方が容易に除去できるので、本発明では、塩素イオン、硫酸イオン、リン酸イオン、硝酸イオン等をアルカリ性洗浄液によって除去した後、アルカリ残滓を酸洗浄により除去する。
従って、ケミカル洗浄工程において微細なエッチピットが溶解するのを防止でき、静電容量を低下させることがない。
以下、本発明の実施例について詳述する。
[実施例1〜13、比較例1、4、5、6]水酸化ナトリウム水溶液、硝酸水溶液濃度比較
(1)エッチング工程
純度99.86%、厚さ50μmのアルミニウム箔の硬質材を用い、塩酸を7.0wt%、硫酸0.05wt%、塩化アルミニウムを2.0wt%含むエッチング液中で40℃にて交流電解エッチングを行った。交流電流として正弦波、20Hz、電流密度を280mA/cm2とした。
(1)エッチング工程
純度99.86%、厚さ50μmのアルミニウム箔の硬質材を用い、塩酸を7.0wt%、硫酸0.05wt%、塩化アルミニウムを2.0wt%含むエッチング液中で40℃にて交流電解エッチングを行った。交流電流として正弦波、20Hz、電流密度を280mA/cm2とした。
(2)ケミカル洗浄工程
交流エッチング後、40℃の表1に示す濃度〔wt%〕の水酸化ナトリウム水溶液中で1回目のケミカル洗浄処理を1分間行ない、その後、40℃の表1に示す濃度〔wt%〕の硝酸水溶液中に1分間浸漬して2回目のケミカル洗浄処理を行ない、純水で洗浄した。
交流エッチング後、40℃の表1に示す濃度〔wt%〕の水酸化ナトリウム水溶液中で1回目のケミカル洗浄処理を1分間行ない、その後、40℃の表1に示す濃度〔wt%〕の硝酸水溶液中に1分間浸漬して2回目のケミカル洗浄処理を行ない、純水で洗浄した。
(比較例2)硝酸洗浄なしでの比較
(1)エッチング工程
実施例と同じ。
(1)エッチング工程
実施例と同じ。
(2)ケミカル洗浄工程
交流エッチング後、40℃の0.04wt%水酸化ナトリウム水溶液中でケミカル洗浄処理を2分間行ない(硝酸洗浄なし)、純水で洗浄した。
交流エッチング後、40℃の0.04wt%水酸化ナトリウム水溶液中でケミカル洗浄処理を2分間行ない(硝酸洗浄なし)、純水で洗浄した。
(比較例3)水酸化ナトリウム洗浄なしでの比較
(1)エッチング工程
実施例と同じ。
(1)エッチング工程
実施例と同じ。
(2)ケミカル洗浄工程
交流エッチング後、40℃の0.5wt%硝酸水溶液中でケミカル洗浄処理を2分間行ない(水酸化ナトリウム洗浄なし)、純水で洗浄した。
交流エッチング後、40℃の0.5wt%硝酸水溶液中でケミカル洗浄処理を2分間行ない(水酸化ナトリウム洗浄なし)、純水で洗浄した。
上記実施例1〜13および比較例1〜6によって得られたエッチド箔の表面に残留する塩素イオンと硫酸イオン量をイオンクロマトグラフィーによって定量した。また、上記実施例1〜13および比較例1〜6に係るエッチド箔を10wt%アジピン酸アンモニウム水溶液中で20V印加化成後、静電容量を測定し、従来技術である硝酸洗浄のみの比較例3に対する静電容量増加率を計算した。それらの結果を表1に示す。
表1から分かるように、硝酸洗浄なしの比較例2では硫酸イオンは除去できるものの、塩素イオンが多く残ってしまう。水酸化ナトリウム洗浄なしの比較例3では逆に、残留硫酸イオンが多くなってしまう。これらに対して、実施例1〜13では両残留イオンを取り除くことができることが確認できた。
ただし、水酸化ナトリウム濃度0.002wt%では、硫酸イオンを十分に除去することができず(比較例1)、また、2.0wt%ではアルミニウムの溶解反応が強くなり、拡面倍率が低下して、静電容量が低下する(比較例6)。
そして、硝酸濃度0.05wt%では、塩素イオンを十分に除去することができず(比較例4)、また、40.0wt%ではアルミニウムの溶解反応が強くなり、拡面倍率が低下して静電容量が低下する(比較例5)。
ただし、水酸化ナトリウム濃度0.002wt%では、硫酸イオンを十分に除去することができず(比較例1)、また、2.0wt%ではアルミニウムの溶解反応が強くなり、拡面倍率が低下して、静電容量が低下する(比較例6)。
そして、硝酸濃度0.05wt%では、塩素イオンを十分に除去することができず(比較例4)、また、40.0wt%ではアルミニウムの溶解反応が強くなり、拡面倍率が低下して静電容量が低下する(比較例5)。
また、実施例に係るケミカル洗浄工程を行なった場合、比較例と比べて、微細なエッチピットが溶解するのを防止できるので、静電容量が高いことが確認できた。また、実施例に係るケミカル洗浄工程によれば、箔表面残留物が減少するので、陽極酸化によって良質の皮膜が形成され、その点でも、静電容量が高いことが確認できた。
[実施例14〜19、9、比較例7〜10]水酸化ナトリウム水溶液、硝酸水溶液液温比較
実施例1と同様のアルミニウム箔を用い、同様のエッチングを行った後、表2に示す水酸化ナトリウム水溶液、硝酸水溶液の濃度で、液温を15〜90℃の範囲で変え、ケミカル洗浄処理、純水洗浄を行った後、実施例1と同様にして、塩素イオンと硫酸イオン量をイオンクロマトグラフィーで定量し、また、化成後の静電容量を測定した。それらの結果を表2に示す。
実施例1と同様のアルミニウム箔を用い、同様のエッチングを行った後、表2に示す水酸化ナトリウム水溶液、硝酸水溶液の濃度で、液温を15〜90℃の範囲で変え、ケミカル洗浄処理、純水洗浄を行った後、実施例1と同様にして、塩素イオンと硫酸イオン量をイオンクロマトグラフィーで定量し、また、化成後の静電容量を測定した。それらの結果を表2に示す。
表2の実施例14〜19、9から明らかなように、水酸化ナトリウム水溶液、硝酸水溶液の液温は、20〜80℃の範囲が好ましい。液温が15℃では塩素イオン、硫酸イオンを十分に除去することができず(比較例7、8)、90℃ではアルミニウムの溶解反応が強くなり、拡面倍率が低下して、静電容量が低下する。
[その他の実施例]
さらに、上記の実施例の他、アルカリ性洗浄液として、水酸化ナトリウム水溶液に代えて、アンモニア水溶液または炭酸ナトリウム水溶液を用い、さらにその濃度や温度を変えて評価したが、いずれも従来の方法より、不純物の除去を効果的に行うことができ、高い静電容量が得られることが確認できた。
また、酸性洗浄液についても、硝酸水溶液の濃度や温度を変え、さらには有機酸等を用いて評価したが、いずれも従来の方法より、不純物の除去を効果的に行うことができ、高い静電容量が得られることが確認できた。
さらに、上記の実施例の他、アルカリ性洗浄液として、水酸化ナトリウム水溶液に代えて、アンモニア水溶液または炭酸ナトリウム水溶液を用い、さらにその濃度や温度を変えて評価したが、いずれも従来の方法より、不純物の除去を効果的に行うことができ、高い静電容量が得られることが確認できた。
また、酸性洗浄液についても、硝酸水溶液の濃度や温度を変え、さらには有機酸等を用いて評価したが、いずれも従来の方法より、不純物の除去を効果的に行うことができ、高い静電容量が得られることが確認できた。
なお、上記形態では、交流エッチング箔に本発明を適用した例であったが、直流エッチング箔、あるいは直流と交流とを組み合わせたエッチング箔についても評価した場合も、従来の方法より、不純物の除去を効果的に行うことができ、高い静電容量が得られることが確認できた。
また、上記形態では、陽極箔に対して本発明を適用したが、陰極箔に本発明を適用した場合も、不純物の除去を効果的に行うことができ、高い静電容量が得られることが確認できた。
Claims (5)
- 少なくとも塩素イオンを含むエッチング液中でアルミニウム箔を粗面化してエッチド箔とするエッチング工程と、当該エッチド箔から付着物を除去するケミカル洗浄工程とを有する電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法において、
前記ケミカル洗浄工程では、前記エッチド箔をアルカリ性洗浄液に浸漬させるアルカリ洗浄工程と、該アルカリ洗浄工程を行った後の前記エッチド箔を酸性洗浄液に浸漬させる酸洗浄工程とを行うことを特徴とする電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法。 - 請求項1において、アルカリ性洗浄液として、濃度が0.004〜1.0wt%の水酸化ナトリウム水溶液、アンモニア水溶液、または炭酸ナトリウム水溶液のうち、少なくとも1種を用い、当該アルカリ性洗浄液の液温が20〜80℃の範囲であることを特徴とする電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法。
- 請求項1において、酸性洗浄液として、濃度が0.1〜30.0wt%の硝酸水溶液を用い、前記酸性洗浄液の液温が20〜80℃の範囲であることを特徴とする電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法。
- 請求項1〜3のいずれかにおいて、エッチング工程で、前記アルミニウム箔をエッチング液中で交流電解することを特徴とする電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法。
- 請求項1〜4のいずれかにおいて、前記ケミカル洗浄工程を行ったエッチド箔に陽極酸化皮膜を形成することを特徴とする電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005293941A JP2007103798A (ja) | 2005-10-06 | 2005-10-06 | 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005293941A JP2007103798A (ja) | 2005-10-06 | 2005-10-06 | 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007103798A true JP2007103798A (ja) | 2007-04-19 |
Family
ID=38030424
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005293941A Pending JP2007103798A (ja) | 2005-10-06 | 2005-10-06 | 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007103798A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101415641B1 (ko) * | 2012-09-07 | 2014-07-08 | 삼영전자공업(주) | 적층형 알루미늄 캐패시터용 전극박의 제조방법 |
CN104538185A (zh) * | 2014-12-19 | 2015-04-22 | 内蒙古新长江矿业投资有限公司 | 一种电解电容器用阳极铝箔的中间清洗方法 |
CN105449225A (zh) * | 2015-12-02 | 2016-03-30 | 哈尔滨工业大学 | 一种三维多孔结构铝集电极的制备方法 |
CN108376795A (zh) * | 2018-04-04 | 2018-08-07 | 天津大学 | 一种无枝晶、高倍率的铝离子电池 |
JP2021105208A (ja) * | 2019-12-27 | 2021-07-26 | ニチコン株式会社 | 交流エッチング方法 |
CN113913895A (zh) * | 2021-08-16 | 2022-01-11 | 南通南辉电子材料股份有限公司 | 笔式电容器用腐蚀、化成箔的制造方法 |
CN114999825A (zh) * | 2022-06-30 | 2022-09-02 | 新疆众和股份有限公司 | 电极箔及其制备方法、铝电解电容器 |
-
2005
- 2005-10-06 JP JP2005293941A patent/JP2007103798A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101415641B1 (ko) * | 2012-09-07 | 2014-07-08 | 삼영전자공업(주) | 적층형 알루미늄 캐패시터용 전극박의 제조방법 |
CN104538185A (zh) * | 2014-12-19 | 2015-04-22 | 内蒙古新长江矿业投资有限公司 | 一种电解电容器用阳极铝箔的中间清洗方法 |
CN105449225A (zh) * | 2015-12-02 | 2016-03-30 | 哈尔滨工业大学 | 一种三维多孔结构铝集电极的制备方法 |
CN108376795A (zh) * | 2018-04-04 | 2018-08-07 | 天津大学 | 一种无枝晶、高倍率的铝离子电池 |
JP2021105208A (ja) * | 2019-12-27 | 2021-07-26 | ニチコン株式会社 | 交流エッチング方法 |
JP7391661B2 (ja) | 2019-12-27 | 2023-12-05 | ニチコン株式会社 | 交流エッチング方法 |
CN113913895A (zh) * | 2021-08-16 | 2022-01-11 | 南通南辉电子材料股份有限公司 | 笔式电容器用腐蚀、化成箔的制造方法 |
CN114999825A (zh) * | 2022-06-30 | 2022-09-02 | 新疆众和股份有限公司 | 电极箔及其制备方法、铝电解电容器 |
CN114999825B (zh) * | 2022-06-30 | 2023-06-13 | 新疆众和股份有限公司 | 电极箔及其制备方法、铝电解电容器 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007103798A (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法 | |
JP6636612B2 (ja) | アルミニウム板の製造方法、及び、アルミニウム板の製造装置 | |
JP4520385B2 (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法 | |
JP6278814B2 (ja) | 配線基板の処理方法およびその方法を用いて製造される配線基板 | |
JP2009135343A (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法 | |
JPS6229519B2 (ja) | ||
JP5004844B2 (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用陽極箔の製造方法 | |
JP2009146984A (ja) | 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP3582451B2 (ja) | アルミ電解コンデンサ用陽極箔の製造方法 | |
JP2009105242A (ja) | 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JPS5825218A (ja) | 低圧電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JPH043409A (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッチング方法 | |
JP4690221B2 (ja) | 電解コンデンサ用陽極箔の製造方法 | |
JP4709069B2 (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法 | |
JP4758827B2 (ja) | 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP3371362B2 (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JPH08241832A (ja) | アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP3728964B2 (ja) | アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP4089333B2 (ja) | アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP3295839B2 (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム箔における箔表面の銅除去方法 | |
JP2007299956A (ja) | 電解コンデンサ用陰極箔の製造方法 | |
JP2002260969A (ja) | アルミ電解コンデンサ用陽極箔の製造方法 | |
JP2004193339A (ja) | 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP2009130067A (ja) | 電解コンデンサ用エッチング箔の製造方法 | |
JP2002246274A (ja) | アルミ電解コンデンサ用電極箔およびその製造方法 |