JP2007103431A - 配線基板、及び半導体装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】配線基板の突起電極と半導体素子の電極パッドを接合する際の応力集中に起因する、最外側の導体配線の断線を防止することが可能な配線基板を提供する。
【解決手段】可撓性絶縁基材と、可撓性絶縁性基材上に整列して設けられた複数本の導体配線2と、各導体配線の半導体素子4を搭載する領域に位置する端部に設けられた突起電極3とを備える。更に、最外側の導体配線10の外側に隣接して、半導体素子を搭載する領域の最外コーナー部に位置する補助導体配線11と、補助導体配線上に導体配線上の突起電極と整列して形成された補助突起電極12とを備える。補助導体配線における補助突起電極から半導体素子搭載領域の外側方向は、補助突起電極の近傍に終端が形成され、補助導体配線における前記突起電極から半導体素子搭載領域の外内側方向は、補助突起電極の近傍において屈曲して、隣接する最外側の導体配線の先端と接続されている。
【選択図】図1

Description

本発明は、チップ・オン・フィルム(COF)に用いられるテープキャリア基板のような配線基板、及びその配線基板と半導体素子を接合した半導体装置に関する。
フィルム基材を使用したパッケージモジュールの一種として、COF(Chip ON Film)が知られている。図5は、特許文献1に記載されたCOFの一例の一部を示す断面図である。COFは、柔軟な絶縁性のフィルム基材1を用いて作製されたテープキャリア基板の上に、半導体素子4が搭載され、封止樹脂5により保護された構造を有し、フラットパネルディスプレイの駆動用ドライバとして主に使用されている。
テープキャリア基板の主たる要素として、絶縁性のフィルム基材1と、その面上に形成された導体配線2およびその導体配線2上の突起電極(バンプ)3上を含む。必要に応じて導体配線2及び突起電極3上には金属めっき被膜6が形成され、導体配線2上には絶縁樹脂であるソルダーレジスト7の層が形成される。一般的に、フィルム基材1としてはポリイミドが、導体配線2としては銅が使用される。また、突起電極3の形成方法としては、フィルム基材1上に導体配線2を形成後に金属めっきにより形成する方法が一般的である。
導体配線2は、半導体素子4上の電極パッド8と突起電極3を介して接続される。接続方法としては、テープキャリア基板上の半導体搭載部に封止樹脂を塗布した後、半導体素子4の電極パッド8とテープキャリア基板の突起電極を対向させて、超音波および熱圧力を印加することにより接続するのが一般的である。
図6は、半導体素子4上の電極パット8とテープキャリア基板上の突起電極3を対向させた状態の例を模式的に示す平面図である。但し、フィルム基材1の側から見て、フィルム基材1の図示を省略した図である。図6に示すように、半導体素子4の搭載領域における複数の導体配線2は、直線状で互いに平行であるのが一般的である。
特開2004−327936号公報
前述したように、テープキャリア基板上に半導体素子を搭載する時には、半導体素子4の電極パッド8とテープキャリア基板の突起電極3に超音波及び熱圧力を印加する。その際、半導体素子4のコーナー部は特に超音波と圧力による応力が集中し易く、特に最外の導体配線2が断線しやすい。図7は、半導体素子4のコーナー部の導体配線2が断線した状態を示す。図7に示すように、導体配線2の断線箇所9は、突起電極3の半導体素子4の外側の辺に沿って一番発生しやすい。
この不具合に対する対策としては、最も外側に配置された導体配線2を、他の導体配線2よりも太くする方法が考えられる。しかし、その場合には、前述したように突起電極3は導体配線2の形成後に金属めっきにより形成されるため、最外側の導体配線2の突起電極3が、他の導体配線2の突起電極3よりも高く形成されてしまう。それにより生じる突起電極3の段差により接続不良が発生し、半導体素子4の搭載に適さない。
また、今後の狭リードピッチ化により導体配線2幅が狭くなると、さらに上述のような断線箇所9が発生しやすくなり問題となる。
本発明は、配線基板の突起電極と半導体素子の電極パッドを接合する際の応力集中に起因する、最外側の導体配線の断線を防止することが可能な配線基板を提供することを目的とする。
本発明の配線基板は、基本構成として、可撓性絶縁基材と、前記可撓性絶縁性基材上に整列して設けられた複数本の導体配線と、前記各導体配線の半導体素子を搭載する領域に位置する端部に設けられた突起電極とを備え、前記半導体素子に形成された電極端子と前記突起電極とを接合させることにより、前記半導体素子を前記導体配線上に実装するように構成される。
上記課題を解決するために、本発明の第1の構成の配線基板は、更に、最外側の前記導体配線の外側に隣接して、前記半導体素子を搭載する領域の最外コーナー部に位置する補助導体配線と、前記補助導体配線上に前記導体配線上の前記突起電極と整列して形成された補助突起電極とを備え、前記補助導体配線における前記補助突起電極から前記半導体素子搭載領域の外側方向は、前記補助突起電極の近傍に終端が形成され、前記補助導体配線における前記補助突起電極から前記半導体素子搭載領域の外側方向は、前記補助突起電極の近傍において屈曲して、隣接する最外側の導体配線の先端と接続されている。
本発明の第2の構成の配線基板は、前記半導体素子を搭載する領域の最外コーナー部に位置する最外側の前記導体配線が、前記突起電極から前記半導体素子搭載領域の外側方向において、前記突起電極の近傍に終端が形成され、前記突起電極から前記半導体素子搭載領域の内側方向において屈曲して、前記半導体素子を搭載する領域における前記突起電極が配列された辺に隣接する辺と交差して外方に延在している。
本発明の第3の構成の配線基板は、前記半導体素子を搭載する領域の最外コーナー部に位置する最外側の前記導体配線が、前記突起電極から前記半導体素子搭載領域の外側方向において、前記突起電極から前記半導体素子を搭載する領域の周縁に至るまでに、少なくとも1つの屈曲部を有する。
第1の構成の配線基板によれば、補助突起電極の配置により最外側の導体配線に対する応力集中が緩和され、断線を抑制することができる。
第2の構成の配線基板によれば、最外側の導体配線における応力が集中する箇所への配線を避けて別経路とすることにより、応力集中による断線を回避することができる。
第3の構成の配線基板によれば、最外側の導体配線における応力が集中する箇所に屈曲部を配置することにより、応力集中を緩和して断線を抑制することができる。
本発明の第1の構成の配線基板において、前記補助導体配線における前記補助突起電極から前記半導体素子搭載領域の外側方向は、前記補助突起電極から0μmから300μmの範囲に終端が形成されていることが好ましい。
また、前記補助導体配線における前記補助突起電極から前記半導体素子搭載領域の外側方向の終端の延長上に、前記補助導体配線とは不連続に形成されたダミー導体配線部を有することが好ましい。
本発明の第2の構成の配線基板において、前記半導体素子を搭載する領域の最外コーナー部に位置する最外側の前記導体配線は、前記突起電極から前記半導体素子搭載領域の外側方向において、前記突起電極から0μmから300μmの範囲に終端が形成されていることが好ましい。
また、前記最外側の導体配線における前記突起電極から前記半導体素子搭載領域の外側方向の終端の延長上に、前記最外側の導体配線とは不連続に形成されたダミー導体配線部を有することが好ましい。
本発明の半導体装置は、上記いずれかの構成の配線基板と、前記配線基板上に搭載された半導体素子とを備え、前記半導体素子の電極パッドと前記導体配線とが前記突起電極を介して接続されている。
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。但し、図5〜図7に基づいて説明した従来例の部材と同一の部材には同一符号を付して、詳しい説明を省略する。
(実施の形態1)
図1を参照して、実施の形態1におけるテープキャリア基板(配線基板)の構造について説明する。図1は、実施の形態1におけるテープキャリア基板の半導体素子搭載部を示す平面図である。但し、フィルム基材1の側から見て、フィルム基材1の図示を省略し、導体配線2および突起電極3と、半導体素子4上電極パッド8の関係のみを模式的に示した図である。以下の実施の形態においても同様に図示されている。
図1に示すように、半導体素子4上の電極パッド8に対応して、複数の導体配線2上に各々突起電極3が形成されている。最外側の導体配線10の外側、すなわち半導体素子4の最外コーナー部に対応する位置には、補助導体配線11が配置され、補助突起電極12が形成されている。補助導体配線11における前記補助突起電極から前記半導体素子搭載領域の外側方向は、補助突起電極12の近傍に終端が形成されている。前記補助突起電極から前記半導体素子搭載領域の内側方向の端部は屈曲して、隣接する最外側の導体配線10の先端と接続されている。但し、補助導体配線11が接続される導体配線は、隣接する1本の導体配線10に限られず、半導体素子4の同一辺上に位置する他の導体配線2を含めて複数本の導体配線と接続されてもよい。補助導体配線11および補助突起電極12は、通常の導体配線2および突起電極3と同様に形成される。
以上のような構成の場合には、半導体素子4の電極パッド8と配線基板上の突起電極3とを接続する際に、最外側の導体配線10における突起電極3の端部は、隣接する補助突起電極12により接続時の応力を緩和される。また、補助突起電極12より半導体素子4の内側の領域では、最外側の導体配線10が断線しづらいことが実験から判っており、導体配線の導通を確保できる。
なお、図示しないが、補助導体配線11は、補助突起電極12を形成する工程における形成位置ずれ量の分以上に、突起電極3の設計位置より突出して設計されていることが望ましく、特にその突出し量が突起電極3の設計値よりも300μm以下で設計されてあれば十分に効果があることが実験により確認された。
図2は、図1に示した態様の変形例を示す。この例は、補助導体配線11の補助突起電極12から半導体素子搭載領域の外側方向延長上に、ダミー導体配線部13を付加した構造を有する。
ダミー導体配線13は、補助導体配線11上の補助突起電極12には接続されていないが、隣接する最外側の導体配線10と同一パターンになるように形成されている。図2に示す構成の場合には、半導体素子4のコーナー部の導体配線が実質的に連続したパターンとなるため、半導体素子4搭載時に配線基板の熱膨張が場所によらず均一になる。その結果、接合時の突起電極3と電極パッド8の局所的な位置ずれを回避することができる。なお、図示しないがダミー導体配線13は、図示されている領域外で最外側の導体配線10、あるいは他の導体配線2と接続されていても良い。
(実施の形態2)
実施の形態2におけるテープキャリア基板(配線基板)の構造について、図3を参照して説明する。図3は、実施の形態2におけるテープキャリア基板の半導体素子搭載部を示す平面図である。
本実施の形態においては、半導体素子4の最外コーナー部に対応する位置に配置された最外側の導体配線14は、他の通常の導体配線2と構造が相違している。すなわち、最外側の導体配線14における前記突起電極から前記半導体素子搭載領域の外側方向は、突起電極3の近傍に終端が形成されている。前記突起電極から前記半導体素子搭載領域の内側方向は、半導体素子4の搭載領域における突起電極3が配列された辺に隣接する辺と交差する方向に屈曲し、外方に延在して屈曲配線部14aを形成している。
この構成の場合には、最外側の導体配線14では、突起電極3より内側の半導体素子4の領域では導体配線が断線しづらいため、最外側の導体配線14の導通を確保できる。しかも、最外側の導体配線14に隣接する導体配線2も、最外側の導体配線14上の突起電極3と電極パッド8との接続により応力を緩和されるため、導体配線2の導通を確保できる。
なお、図示しないが、最外側の導体配線14は、突起電極3を形成する工程における形成位置ずれ量の分以上に、突起電極3の設計位置より突出して設計されていることが望ましく、特にその突出し量が突起電極3の設計値よりも300μm以下で設計されてあれば十分に効果があることが実験により確認された。
さらに、図示しないが図2と同様に、最外側の導体配線14の突起電極3から半導体素子搭載領域の外側方向延長上に、突起電極3とは接続されていないが隣接する導体配線2と同一パターンを有するダミー導体配線部を付加することができる。それにより、半導体素子4のコーナー部の導体配線が実質的に連続したパターンとなるため、半導体素子4搭載時に配線基板の熱膨張が場所によらず均一になる。その結果、接合時の突起電極3と電極パッド8の局所的な位置ずれを回避することができる。
(実施の形態3)
実施の形態3におけるテープキャリア基板(配線基板)の構造について、図4を参照して説明する。図4は、実施の形態3におけるテープキャリア基板の半導体素子搭載部を示す平面図である。
本実施の形態においては、半導体素子4の最外コーナー部に対応する位置に配置された最外側の導体配線15は、他の通常の導体配線2と構造が相違している。すなわち、最外側の導体配線15は、突起電極3から半導体素子4の搭載領域の周縁に至るまでに、少なくとも1つの屈曲部15aを有する。最外側の導体配線15における半導体素子4の搭載領域内方側の端部は、通常の導体配線2の構造と同様である。
このような構成の場合には、最外側の導体配線15の突起電極3が受ける応力は、屈曲部15aで緩和されるため、最外側の導体配線15の導通を確保できる。しかも、最外側の導体配線15に隣接する導体配線2も、最外側の導体配線15上の突起電極3と電極パッド8との接続により応力を緩和されるため、導体配線2の導通を確保できる。
以上の実施形態により、配線基板への半導体素子の搭載時に最外部の導体配線の断線を抑制することができ、信頼性のある半導体装置を提供できる。
本発明の配線基板によれば、配線基板と半導体素子との接合時における最外側の導体配線の断線を防いで安定した接合を実現でき、例えばCOF等の薄型を目指す画像表示装置の分野において有用である、
本発明の実施の形態1におけるテープキャリア基板の一部を示す平面図 同テープキャリア基板の一部を変形した例を示す平面図 本発明の実施の形態2におけるテープキャリア基板の一部を示す平面図 本発明の実施の形態3におけるテープキャリア基板の一部を示す平面図 従来例のテープキャリア基板を使用した半導体装置の一部を示す断面図 従来例のテープキャリア基板の一部を示す平面図 従来例の半導体装置の一部を示す平面図
符号の説明
1 フィルム基材
2 導体配線
3 突起電極
4 半導体素子
5 封止樹脂
6 金属めっき被膜
7 ソルダーレジスト
8 電極パッド
9 導体配線の断線箇所
10 最外側の導体配線
11 補助導体配線
12 補助突起電極
13 ダミー導体配線
14 最外側の導体配線
14a 屈曲配線部
15 最外側の導体配線
15a 屈曲部

Claims (8)

  1. 可撓性絶縁基材と、
    前記可撓性絶縁性基材上に整列して設けられた複数本の導体配線と、
    前記各導体配線の半導体素子を搭載する領域に位置する端部に設けられた突起電極とを備え、
    前記半導体素子に形成された電極端子と前記突起電極とを接合させることにより、前記半導体素子を前記導体配線上に実装するように構成された配線基板において、
    最外側の前記導体配線の外側に隣接して、前記半導体素子を搭載する領域の最外コーナー部に位置する補助導体配線と、
    前記補助導体配線上に前記導体配線上の前記突起電極と整列して形成された補助突起電極とを備え、
    前記補助導体配線における前記補助突起電極から前記半導体素子搭載領域の外側方向は、前記補助突起電極の近傍に終端が形成され、
    前記補助導体配線における前記補助突起電極から前記半導体素子搭載領域の内側方向は屈曲して、隣接する最外側の導体配線の先端と接続されていることを特徴とする配線基板。
  2. 前記補助導体配線における前記補助突起電極から前記半導体素子搭載領域の外側方向は、前記補助突起電極から0μmから300μmの範囲に終端が形成されている請求項1に記載の配線基板。
  3. 前記補助導体配線における前記補助突起電極から前記半導体素子搭載領域の外側方向の終端の延長上に、前記補助導体配線とは不連続に形成されたダミー導体配線部を有する請求項1に記載の配線基板。
  4. 可撓性絶縁基材と、
    前記可撓性絶縁性基材上に整列して設けられた複数本の導体配線と、
    前記各導体配線の半導体素子を搭載する領域に位置する端部に設けられた突起電極とを備え、
    前記半導体素子に形成された電極端子と前記突起電極とを接合させることにより、前記半導体素子を前記導体配線上に実装するように構成された配線基板において、
    前記半導体素子を搭載する領域の最外コーナー部に位置する最外側の前記導体配線は、前記突起電極から前記半導体素子搭載領域の外側方向において、前記突起電極の近傍に終端が形成され、前記突起電極から前記半導体素子搭載領域の内側方向において屈曲して、前記半導体素子を搭載する領域における前記突起電極が配列された辺に隣接する辺と交差して外方に延在していることを特徴とする配線基板。
  5. 前記半導体素子を搭載する領域の最外コーナー部に位置する最外側の前記導体配線は、前記突起電極から前記半導体素子搭載領域の外側方向において、前記突起電極から0μmから300μmの範囲に終端が形成されている請求項4に記載の配線基板。
  6. 前記最外側の導体配線における前記突起電極から前記半導体素子搭載領域の外側方向の終端の延長上に、前記最外側の導体配線とは不連続に形成されたダミー導体配線部を有する請求項4に記載の配線基板。
  7. 可撓性絶縁基材と、
    前記可撓性絶縁性基材上に整列して設けられた複数本の導体配線と、
    前記各導体配線の半導体素子を搭載する領域に位置する端部に設けられた突起電極とを備え、
    前記半導体素子に形成された電極端子と前記突起電極とを接合させることにより、前記半導体素子を前記導体配線上に実装するように構成された配線基板において、
    前記半導体素子を搭載する領域の最外コーナー部に位置する最外側の前記導体配線は、前記突起電極から前記半導体素子搭載領域の外側方向において、前記突起電極から前記半導体素子を搭載する領域の周縁に至るまでに、少なくとも1つの屈曲部を有することを特徴とする配線基板。
  8. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の配線基板と、前記配線基板上に搭載された半導体素子とを備え、前記半導体素子の電極パッドと前記導体配線とが前記突起電極を介して接続されたことを特徴とする半導体装置。

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