JP2007042990A - 半導体装置の設計方法、その設計プログラムおよびその設計装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】配線パターンの作成における、配線幅および配線間隔の変更刻みを最小寸法単位よりも大きな値にし、許容できる変更値を離散化させている。すなわち、最小寸法単位を1nmとした場合、配線幅および配線間隔を100nm、101nm、102nm、103nm、・・・というふうに1nm単位で変更することを許可しないで、配線幅の変更刻みを例えば100nmとすることにより、配線幅の変更を100nm、200nm、300nm、・・・に制限している。配線間隔に関しても同様に、100nmを基準として最小寸法単位よりも大きな50nm刻みでの変更に制限している。
【選択図】 図3
Description
130 許可された配線幅情報
140 許可された配線間隔情報(グリッド情報)
150 配線幅検出(検証)部
160 配線間隔検出(検証)部
170 不適合配線幅・配線間隔特定部
Claims (7)
- 半導体装置のための配線パターンを作成するにあたり、配線幅および配線間隔の変更刻みを、実際にレイアウトできる最小寸法単位よりも大きな値に限定して、許可された変更値を離散化させたことを特徴とする半導体装置の設計方法。
- 作成された前記配線パターンにおける各配線の幅および隣接する配線間の間隔が前記許可された変更値のいずれかに該当するかどうかをコンピュータを用いて検証することを特徴とする請求項1記載の半導体装置の設計方法。
- 離散的に許可された配線幅を示す情報および離散的に許可された配線間隔を示す情報を予め設定し、これら情報と前記配線パターンで示される配線幅および配線間隔を比較することにより、不適合な配線幅および不適合な配線間隔を特定することを特徴とする請求項2記載の半導体装置の設計方法。
- 配線パターンにおける各配線の配線幅および隣接する配線間の配線間隔を検証するコンピュータを用いた半導体装置の設計方法において、作成された前記配線パターンデータを取り込み、離散的に許可された配線幅を示す第1の情報および離散的に許可された配線間隔を示す第2の情報を読み出し、前記配線パターンが有する各配線のデータと前記第1および第2の情報とに基づき、前記配線パターンに中に含まれ得る不適合な配線幅の配線および/または不適合な配線間隔となる部分を特定することを特徴とする半導体装置に設計方法。
- コンピュータに、作成された前記配線パターンデータを提供し、離散的に許可された配線幅を示す第1の情報および離散的に許可された配線間隔を示す第2の情報を提供し、前記配線パターンが有する各配線のデータと前記第1および第2の情報とに基づき、前記配線パターンに中に含まれ得る不適合な配線幅の配線および/または不適合な配線間隔となる部分を特定させる、ことを特徴とする半導体装置の設計プログラム。
- 配線パターンデータと離散的に許可された配線幅を示す第1の情報および離散的に許可された配線間隔を示す第2の情報とを格納する記憶部と、前記配線パターンが有する各配線のデータと前記第1および第2の情報とに基づき、前記配線パターンに不適合な幅の配線が含まれるかどうかを検証すると共に不適合な配線間隔を定義する配線が含まれるかどうかを検証する検証部と、前記検証部の検証結果に応答して不適合な幅の配線および/または不適合な配線間隔を定義する配線を特定する特定部とを備えることを特徴とする半導体装置の設計装置。
- 配線幅の許可された変更刻みは配線間隔の許可された変更刻みの整数倍(0を除く)であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の半導体装置の設計方法もしくはその設計プログラムもしくはその設計装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005227804A JP2007042990A (ja) | 2005-08-05 | 2005-08-05 | 半導体装置の設計方法、その設計プログラムおよびその設計装置 |
US11/498,813 US7536667B2 (en) | 2005-08-05 | 2006-08-04 | Method of semiconductor device and design supporting system of semiconductor device |
CNB2006101101310A CN100524325C (zh) | 2005-08-05 | 2006-08-07 | 半导体器件的设计方法和半导体器件的设计支持系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005227804A JP2007042990A (ja) | 2005-08-05 | 2005-08-05 | 半導体装置の設計方法、その設計プログラムおよびその設計装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007042990A true JP2007042990A (ja) | 2007-02-15 |
Family
ID=37700056
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005227804A Pending JP2007042990A (ja) | 2005-08-05 | 2005-08-05 | 半導体装置の設計方法、その設計プログラムおよびその設計装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7536667B2 (ja) |
JP (1) | JP2007042990A (ja) |
CN (1) | CN100524325C (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2006
- 2006-08-04 US US11/498,813 patent/US7536667B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-08-07 CN CNB2006101101310A patent/CN100524325C/zh not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
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CN1908948A (zh) | 2007-02-07 |
US7536667B2 (en) | 2009-05-19 |
CN100524325C (zh) | 2009-08-05 |
US20070033563A1 (en) | 2007-02-08 |
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RD01 | Notification of change of attorney |
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RD01 | Notification of change of attorney |
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A521 | Written amendment |
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A02 | Decision of refusal |
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