JP2007004120A5 - - Google Patents

Claims (13)

1. 偏光子と、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を有する第１の光学補償層と、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を有する第２の光学補償層とをこの順に有し、
   該第１の光学補償層がλ／２板であり、
   該第２の光学補償層がλ／４板であり、
   該第２の光学補償層が、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも１つのポリマーから形成されており、
   該偏光子の吸収軸と該第１の光学補償層の遅相軸とのなす角度が＋１７°〜＋２７°または−１７°〜−２７°であり、該偏光子の吸収軸と該第２の光学補償層の遅相軸とのなす角度が＋８５°〜＋９５°であり、
   該第２の光学補償層のＮｚ係数が、１．２≦Ｎｚ≦２である
   ＶＡモード用光学フィルム。
2. 前記第２の光学補償層の厚みが１μｍ〜１０μｍである、請求項１に記載のＶＡモード用光学フィルム。
3. 前記第１の光学補償層が、液晶モノマーおよび液晶ポリマーの少なくとも１つを含む、請求項１または２に記載のＶＡモード用光学フィルム。
4. 前記第１の光学補償層と前記第２の光学補償層との間に接着剤層を有する、請求項１から３までのいずれかに記載のＶＡモード用光学フィルム。
5. 請求項１から４までのいずれかに記載のＶＡモード用光学フィルムを含む、画像表示装置。
6. 透明保護フィルム（Ｔ）の表面に配向処理を施す工程と；
   該透明保護フィルム（Ｔ）の該配向処理を施した表面にλ／２板である第１の光学補償層を形成する工程と；
   透明保護フィルム（Ｔ）の表面に偏光子を積層する工程と；
   該第１の光学補償層の表面にλ／４板である第２の光学補償層を形成する工程とを含み、
   該第２の光学補償層が、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも１つのポリマーから形成されており、
   該偏光子と該第１の光学補償層が、互いに透明保護フィルム（Ｔ）を介して反対側に配置され、
   該第１の光学補償層が、該第１の光学補償層の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度が＋１７°〜＋２７°または−１７°〜−２７°となるように形成され、
   該第２の光学補償層が、該第２の光学補償層の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度が＋８５°〜＋９５°となるように形成される、
   ＶＡモード用光学フィルムの製造方法。
7. 前記第１の光学補償層を形成する工程が、液晶材料を含有する塗工液を塗工する工程と、該塗工された液晶材料を該液晶材料が液晶相を示す温度で処理して配向させる工程とを含む、請求項６に記載の製造方法。
8. 前記液晶材料が重合性モノマーおよび／または架橋性モノマーを含み、前記液晶材料の配向工程が、重合処理および／または架橋処理を行うことをさらに含む、請求項７に記載の製造方法。
9. 前記重合処理および／または架橋処理が、加熱または光照射により行われる、請求項８に記載の製造方法。
10. 前記第２の光学補償層が、そのＮｚ係数が１．２≦Ｎｚ≦２となるようにして形成される、請求項６から９までのいずれかに記載の製造方法。
11. 前記第１の光学補償層の表面に第２の光学補償層を形成する工程が、
    ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも１つのポリマーを含む塗工液を基材シートの表面に塗工する工程と、
    該塗工液を乾燥して該基材シート表面にポリマー層を形成する工程と、
    該ポリマー層を該基材シートごと加熱および延伸して、該基材シート上に該第２の光学補償層を形成する工程と、
    該基材シート上に形成された第２の光学補償層を該第１の光学補償層の表面に貼り付ける工程と、
    該基材シートを該第２の光学補償層から剥離する工程と
    を含む、請求項６から１０までのいずれかに記載の製造方法。
12. 前記基材シート上に前記第２の光学補償層を形成する工程において、前記ポリマー層が該基材シートごと１．２倍〜３倍の延伸倍率で延伸される、請求項１１に記載の製造方法。
13. 前記基材シート上に前記第２の光学補償層を形成する工程において、前記ポリマー層が該基材シートごと幅方向に延伸される、請求項１１または１２に記載の製造方法。