KR20210107650A

KR20210107650A - 광학 이방성 적층체 및 그 제조 방법, 원 편광판, 그리고 화상 표시 장치

Info

Publication number: KR20210107650A
Application number: KR1020217017868A
Authority: KR
Inventors: 카즈히로 오사토
Original assignee: 니폰 제온 가부시키가이샤
Priority date: 2018-12-27
Filing date: 2019-12-04
Publication date: 2021-09-01
Also published as: TWI826618B; JP7452436B2; CN113196876A; TW202027970A; JPWO2020137409A1; WO2020137409A1

Abstract

제1 광학 이방성층 및 제2 광학 이방성층을 포함하는 광학 이방성 적층체로서, 상기 제1 광학 이방성층이, 하기 식(1)을 만족하고, 상기 제2 광학 이방성층이, 하기 식(2)을 만족하고, 상기 광학 이방성 적층체가, 하기 식(3)을 만족하고, 상기 제1 광학 이방성층의 NZ 계수 NZ1 및 상기 제2 광학 이방성층의 NZ 계수 NZ2가 하기 식(4)을 만족하고, 상기 제1 광학 이방성층의 지상축과 상기 제2 광학 이방성층의 지상축이 이루는 각도가, 90°인, 광학 이방성 적층체.
nx1 > ny1 ≥ nz1 식(1)
nz2 > nx2 > ny2 식(2)
Re(450) < Re(550) < Re(650) 식(3)
-0.3 ≤ NZ1 + NZ2 ≤ 0.8 식(4)

Description

광학 이방성 적층체 및 그 제조 방법, 원 편광판, 그리고 화상 표시 장치

본 발명은, 광학 이방성 적층체 및 그 제조 방법, 원 편광판, 그리고 화상 표시 장치에 관한 것이다.

유기 일렉트로루미네센스 화상 표시 장치 등의 화상 표시 장치는, 외광을 반사함으로써, 화상 표시의 품질이 저하되는 경우가 있다. 이하, 유기 일렉트로루미네센스를 「유기 EL」이라고 하는 경우가 있다. 특히 반사 전극을 구비한 유기 EL 화상 표시 장치의 경우, 화상 표시의 품질 저하가 현저하다. 이러한 반사를 억제하기 위하여, 화상 표시 장치의 표시면에, 원 편광판이 설치되는 경우가 있다(예를 들어, 특허문헌 1을 참조).

외광은, 원 편광판에 의해 어느 방향의 원 편광으로 변환되고, 화상 표시 장치에 의해 반사될 때에 어느 방향과는 역방향의 원 편광이 된다. 역방향의 원 편광이 된 반사광은, 원 편광판을 투과하지 않기 때문에, 반사가 억제된다.

국제 공개 제2016/047465호 일본 공개특허공보 2010-266723호

상기 특허문헌 1에는, 원 편광판이, 직선 편광자와, 직선 편광자의 흡수축에 대하여 소정의 각도를 이루는 방향에 지상축을 갖는 λ/2판과, 직선 편광자의 흡수축에 대하여 소정의 각도를 이루는 방향에 지상축을 갖는 λ/4판을 구비하고, λ/2판의 파장 분산과 λ/4판의 파장 분산이 상이하고, 또한 λ/4판의 NZ 계수가 소정값이라는 구성을 구비함으로써, 반사를 효과적으로 억제할 수 있는 것이 기재되어 있다.

그러나, 화상 표시 장치의 표시면에, 이러한 원 편광판을 설치한 경우라도, 표시면을 경사 방향에서 관찰하면, 표시면에서 반사된 광이 시인됨으로써, 표시면이 착색되어 보이는 경우가 있었다.

또한 상기 문헌 2에는, 원 편광판이, 직선 편광자와, 2매의 연신 필름을 지상축을 평행하게 적층하여 제작한 λ/4판에 있어서, 그 NZ 계수를 소정값으로 함으로써, 반사를 억제할 수 있는 것이 기재되어 있다.

그러나, 화상 표시 장치의 표시면에, 이러한 원 편광판을 설치한 경우에는, 표시면을 정면 방향 및 경사 방향에서 관찰한 경우에, 반사 억제 효과가 불충분하여, 표시면이 착색되어 보이는 경우가 있었다.

따라서, 여전히, 경사 방향에서 본 표시면의 착색이 억제된 화상 표시 장치를 실현할 수 있는, 광학 이방성 적층체 및 그 제조 방법; 경사 방향에서 본 표시면의 착색이 억제된 화상 표시 장치를 실현할 수 있는 원 편광판; 그리고 경사 방향에서 본 표시면의 착색이 억제된 화상 표시 장치가 요구되고 있다.

상기 과제를 해결하기 위하여, 발명자는 예의 검토한 결과, 소정의 광학적 조건을 만족하는 제1 광학 이방성층 및 소정의 광학적 조건을 만족하는 제2 광학 이방성층을 포함하는 광학 이방성층 적층체로서, 제1 광학 이방성층의 NZ 계수 NZ1과 제2 광학 이방성층의 NZ 계수 NZ2의 합이 소정 범위이고, 제1 광학 이방성층의 지상축과 제2 광학 이방성층의 지상축이 직교하는 양태로 함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하였다. 즉, 본 발명은, 이하를 제공한다.

[1] 제1 광학 이방성층 및 제2 광학 이방성층을 포함하는 광학 이방성 적층체로서,

상기 제1 광학 이방성층이, 하기 식(1)을 만족하고,

상기 제2 광학 이방성층이, 하기 식(2)을 만족하고,

상기 광학 이방성 적층체가, 하기 식(3)을 만족하고,

상기 제1 광학 이방성층의 NZ 계수 NZ1 및 상기 제2 광학 이방성층의 NZ 계수 NZ2가 하기 식(4)을 만족하고,

상기 제1 광학 이방성층의 지상축과 상기 제2 광학 이방성층의 지상축이 이루는 각도가, 85°~95°인, 광학 이방성 적층체.

nx1 > ny1 ≥ nz1 식(1)

nz2 > nx2 > ny2 식(2)

Re(450) < Re(550) < Re(650) 식(3)

-0.3 ≤ NZ1 + NZ2 ≤ 0.8 식(4)

단,

nx1은, 상기 제1 광학 이방성층의 면내 방향으로서 최대의 굴절률을 부여하는 방향의 굴절률을 나타내고, ny1은, 상기 제1 광학 이방성층의 면내 방향으로서, nx1을 부여하는 방향과 직교하는 방향의 굴절률을 나타내고, nz1은, 상기 제1 광학 이방성층의 두께 방향의 굴절률을 나타내고,

nx2는, 상기 제2 광학 이방성층의 면내 방향으로서 최대의 굴절률을 부여하는 방향의 굴절률을 나타내고, ny2는, 상기 제2 광학 이방성층의 면내 방향으로서, nx2를 부여하는 방향과 직교하는 방향의 굴절률을 나타내고, nz2는, 상기 제2 광학 이방성층의 두께 방향의 굴절률을 나타내고,

Re(450), Re(550), 및 Re(650)는, 파장 450 nm, 550 nm, 및 650 nm에서의 상기 광학 이방성 적층체의 면내 위상차를 각각 나타낸다.

[2] 파장 550 nm에서의 상기 제1 광학 이방성층의 면내 위상차 Re1(550),

파장 450 nm에서의 상기 제1 광학 이방성층의 면내 위상차 Re1(450),

파장 550 nm에서의 상기 제2 광학 이방성층의 면내 위상차 Re2(550) 및,

파장 450 nm에서의 상기 제2 광학 이방성층의 면내 위상차 Re2(450)가, 하기 식(5) 및 식(6)을 만족하는, [1]에 기재된 광학 이방성 적층체.

Re1(450)/Re1(550) < Re2(450)/Re2(550) 식(5)

Re1(550) > Re2(550) 식(6)

[3] 상기 Re1(550)과 상기 Re2(550)의 차가, 100 nm 이상 180 nm 이하인, [2]에 기재된 광학 이방성 적층체.

[4] 상기 제1 광학 이방성층이, 제1 수지 필름의 연신 필름이고,

상기 제1 수지 필름은, 플러스의 고유 복굴절값을 갖는 수지를 포함하는, [1]~[3] 중 어느 한 항에 기재된 광학 이방성 적층체.

[5] 상기 제1 광학 이방성층이, 액정 배향층을 포함하는, [1]~[4] 중 어느 한 항에 기재된 광학 이방성 적층체.

[6] 상기 제2 광학 이방성층이, 제2 수지 필름의 연신 필름이고,

상기 제2 수지 필름은, 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지를 포함하는, [1]~[5] 중 어느 한 항에 기재된 광학 이방성 적층체.

[7] 상기 제2 광학 이방성층이, 상기 제2 수지 필름을 이방향 연신한 연신 필름이고, 상기 NZ2가 -2.0 이상 -0.2 이하인, [6]에 기재된 광학 이방성 적층체.

[8] 직선 편광자와,

[1]~[7] 중 어느 한 항에 기재된 광학 이방성 적층체를 구비하는 원 편광판.

[9] 상기 직선 편광자의 흡수축 또는 상기 직선 편광자의 투과축과, 상기 제1 광학 이방성층의 지상축이 이루는 각이 40°~50°인, [8]에 기재된 원 편광판.

[10] 상기 직선 편광자, 상기 제1 광학 이방성층, 및 상기 제2 광학 이방성층을 이 순서로 구비하거나, 또는,

상기 직선 편광자, 상기 제2 광학 이방성층, 및 상기 제1 광학 이방성층을 이 순서로 구비하는, [8] 또는 [9]에 기재된 원 편광판.

[11] [8]~[10] 중 어느 한 항에 기재된 원 편광판과, 유기 일렉트로루미네센스 소자를 구비하는 화상 표시 장치로서,

상기 직선 편광자와, 상기 광학 이방성 적층체와, 상기 유기 일렉트로루미네센스 소자를 이 순서로 구비하는, 화상 표시 장치.

[12] [1]~[7] 중 어느 한 항에 기재된 광학 이방성 적층체의 제조 방법으로서,

플러스의 고유 복굴절값을 갖는 수지를 포함하는 제1 수지 필름을 연신하여 제1 광학 이방성층을 얻는 공정 1과,

마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지를 포함하는 제2 수지 필름을 연신하여 제2 광학 이방성층을 얻는 공정 2와,

상기 제1 광학 이방성층과 상기 제2 광학 이방성층을 겹치는 공정 3을 포함하고,

상기 공정 1에 있어서, 상기 제1 수지 필름을, 일방향 연신하고,

상기 공정 2에 있어서, 상기 제2 수지 필름을, 이방향 연신하고,

상기 공정 3에 있어서, 상기 제1 광학 이방성층의 지상축과, 상기 제2 광학 이방성층의 지상축이 이루는 각이 85°~95°로 되도록 겹치는, 광학 이방성 적층체의 제조 방법.

본 발명에 의하면, 경사 방향에서 본 표시면의 착색이 억제된 화상 표시 장치를 실현할 수 있는, 광학 이방성 적층체 및 그 제조 방법; 경사 방향에서 본 표시면의 착색이 억제된 화상 표시 장치를 실현할 수 있는 원 편광판; 그리고, 경사 방향에서 본 표시면의 착색이 억제된 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.

도 1은 실시형태 1에 따른 원 편광판을 모식적으로 나타내는 분해 사시도이다.
도 2는 실시형태 2에 따른 원 편광판을 모식적으로 나타내는 분해 사시도이다.
도 3은 실시예 및 비교예에서의 시뮬레이션에 있어서, 색도의 계산을 행할 때에 설정한 평가 모델의 모습을 모식적으로 나타내는 사시도이다.

이하, 본 발명에 대하여 실시형태 및 예시물을 나타내어 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 이하에 나타내는 실시형태 및 예시물에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 청구범위 및 그 균등한 범위를 일탈하지 않는 범위에 있어서 임의로 변경하여 실시할 수 있다.

이하의 설명에 있어서, 「장척」의 필름이란, 폭에 대하여 5배 이상의 길이를 갖는 필름을 말하며, 바람직하게는 10배 혹은 그 이상의 길이를 갖고, 구체적으로는 롤상으로 권취되어 보관 또는 운반되는 정도의 길이를 갖는 필름을 말한다. 장척의 필름의 길이의 상한은, 특별히 제한은 없고, 예를 들어, 폭에 대하여 10만배 이하로 할 수 있다.

이하의 설명에 있어서, 별도로 언급하지 않는 한, 어느 층의 면내 위상차 Re는, Re = (nx - ny) × d로 나타내어지는 값을 나타낸다. 어느 층의 두께 방향의 위상차 Rth는, 별도로 언급하지 않는 한, Rth = {(nx + ny)/2 - nz} × d로 나타내어지는 값이다. 또한, 어느 층의 NZ 계수(NZ)는, 별도로 언급하지 않는 한, NZ = (nx - nz)/(nx - ny)로 나타내어지는 값을 나타낸다. NZ 계수는, NZ = Rth/Re + 0.5에 의해 산출될 수 있다.

여기서, nx는, 층의 두께 방향과 수직인 방향(면내 방향)으로서 최대의 굴절률을 부여하는 방향(지상축 방향)의 굴절률을 나타내고, ny는, 층의 상기 면내 방향으로서 nx의 방향과 직교하는 방향의 굴절률을 나타내고, nz는, 층의 두께 방향의 굴절률을 나타내고, d는, 층의 두께를 나타낸다. 측정 파장은, 별도로 언급하지 않는 한, 590 nm이다.

이하의 설명에 있어서, 어느 층의 지상축이란, 별도로 언급하지 않는 한, 당해 층의 면내에 있어서의 지상축을 나타낸다.

이하의 설명에 있어서, 어느 면의 정면 방향이란, 별도로 언급하지 않는 한, 당해 면의 법선 방향을 의미하고, 구체적으로는 상기 면의 편각 0° 또한 방위각 0°의 방향을 가리킨다.

이하의 설명에 있어서, 어느 면의 경사 방향이란, 별도로 언급하지 않는 한, 당해 면과 평행도 수직도 아닌 방향을 의미하고, 구체적으로는 당해 면의 편각이 0°보다 크고 90°보다 작은 범위의 방향을 가리킨다.

이하의 설명에 있어서, 요소의 방향이 「평행」, 「수직」 및 「직교」란, 별도로 언급하지 않는 한, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위 내, 예를 들어 ±5°의 범위 내에서의 오차를 포함하고 있어도 된다.

이하의 설명에 있어서, 장척상의 필름의 길이 방향은, 통상은 제조 라인에 있어서의 필름의 흐름 방향과 평행하다.

이하의 설명에 있어서, 「편광판」, 「원 편광판」, 「플레이트」, 및 「λ/2판」, 「λ/4판」이란, 별도로 언급하지 않는 한, 강직한 부재뿐만 아니라, 예를 들어 수지제의 필름과 같이 가요성을 갖는 부재도 포함한다.

이하의 설명에 있어서, 복수의 층을 구비하는 부재에 있어서의 각 층의 광학축(흡수축, 투과축, 지상축 등)이 이루는 각도는, 별도로 언급하지 않는 한, 상기의 층을 두께 방향에서 보았을 때의 각도를 나타낸다.

이하의 설명에 있어서, 「플러스의 고유 복굴절값을 갖는 중합체」 및 「플러스의 고유 복굴절값을 갖는 수지」란, 「연신 방향의 굴절률이 연신 방향과 직교하는 방향의 굴절률보다 커지는 중합체」 및 「연신 방향의 굴절률이 연신 방향과 직교하는 방향의 굴절률보다 커지는 수지」를 각각 의미한다. 또한, 「마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 중합체」 및 「마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지」란, 「연신 방향의 굴절률이 연신 방향과 직교하는 방향의 굴절률보다 작아지는 중합체」 및 「연신 방향의 굴절률이 연신 방향과 직교하는 방향의 굴절률보다 작아지는 수지」를 각각 의미한다. 고유 복굴절값은, 유전율 분포로부터 계산할 수 있다.

이하의 설명에 있어서, 접착제란, 별도로 언급하지 않는 한, 협의의 접착제뿐만 아니라, 23℃에서의 전단 저장 탄성률이 1 MPa 미만인 점착제도 포함한다. 협의의 접착제란, 에너지선 조사 후, 혹은 가열 처리 후, 23℃에서의 전단 저장 탄성률이 1 MPa~500 MPa인 접착제를 나타낸다.

[실시형태 1]

이하, 본 발명의 실시형태 1에 따른 원 편광판 및, 당해 원 편광판을 구비하는 화상 표시 장치에 대하여 도 1을 참조하면서 설명한다. 도 1은, 실시형태 1에 따른 원 편광판을 모식적으로 나타내는 분해 사시도이다.

본 실시형태의 원 편광판(500)은, 도 1에 나타내는 바와 같이, 직선 편광자(130)와, 본 실시형태의 광학 이방성 적층체(100)를 구비한다.

[1. 광학 이방성 적층체]

[1-1. 광학 이방성 적층체의 구성]

본 실시형태의 광학 이방성 적층체(100)는, 제1 광학 이방성층(110) 및 제2 광학 이방성층(120)을 포함한다. 광학 이방성 적층체(100)는, 필요에 따라 임의의 층(도시 생략)을 구비하고 있어도 된다.

본 실시형태에 있어서, 제1 광학 이방성층(110)은, 하기 식(1)을 만족하고, 제2 광학 이방성층(120)은, 하기 식(2)을 만족하고, 광학 이방성 적층체(100)는, 식(3)을 만족하고, 제1 광학 이방성층 및 제2 광학 이방성층이, 하기 식(4)을 만족하고, 제1 광학 이방성층(110)의 지상축(111)과 제2 광학 이방성층(120)의 지상축(121)이 이루는 각도가 85°~95°이다.

식(1)~식(4)을 만족하는 광학 특성을 갖고, 또한, 제1 광학 이방성층(110)의 지상축(111)과 제2 광학 이방성층(120)의 지상축(121)이 이루는 각도가 85°~95°인 광학 이방성 적층체(100)를, 직선 편광자(130)와 조합하여 얻어지는 원 편광판(500)을 화상 표시 장치에 설치함으로써, 그 화상 표시 장치의 표시면을 경사 방향에서 본 경우에 외광의 반사를 억제하여, 착색을 효과적으로 억제할 수 있다.

nx1 > ny1 ≥ nz1 식(1)

nz2 > nx2 > ny2 식(2)

Re(450) < Re(550) < Re(650) 식(3)

-0.3 ≤ NZ1 + NZ2 ≤ 0.8 식(4)

상기 식(1)에 있어서, nx1은, 제1 광학 이방성층의 면내 방향으로서 최대의 굴절률을 부여하는 방향의 굴절률을 나타내고, ny1은, 제1 광학 이방성층의 면내 방향으로서, nx1을 부여하는 방향과 직교하는 방향의 굴절률을 나타내고, nz1은, 제1 광학 이방성층의 두께 방향의 굴절률을 나타낸다.

상기 식(1)은, 제1 광학 이방성층이, 소위 포지티브 A 플레이트 또는 네거티브 B 플레이트로서 기능할 수 있는 것을 나타낸다.

상기 식(1)을 만족하는 층의 재료로는, 내열성이 높은 재료를 사용할 수 있으므로, 이러한 재료를 제1 광학 이방성층의 재료로서 채용함으로써, 가열 시험 후에 표시면의 색감이 변화하는 것이 억제된 화상 표시 장치를 용이하게 실현할 수 있다.

상기 식(2)에 있어서, nx2는, 제2 광학 이방성층의 면내 방향으로서 최대의 굴절률을 부여하는 방향의 굴절률을 나타내고, ny2는, 제2 광학 이방성층의 면내 방향으로서, nx2를 부여하는 방향과 직교하는 방향의 굴절률을 나타내고, nz2는, 제2 광학 이방성층의 두께 방향의 굴절률을 나타낸다.

상기 식(2)은, 제2 광학 이방성층이, 소위 포지티브 B 플레이트로서 기능할 수 있는 것을 나타낸다. 제2 광학 이방성층이, 식(2)을 만족함으로써, 반사광에 의한 착색을 효과적으로 억제할 수 있는 화상 표시 장치를 실현할 수 있다. 식(2)은, 제2 광학 이방성층이, 3방향의 굴절률(nx2, ny2 및 nz2)이 상이한 층인 것, 즉, 2축성을 갖는 층인 것을 나타낸다.

상기 식(3)에 있어서, Re(450), Re(550), 및 Re(650)는, 파장 450 nm, 550 nm, 및 650 nm에서의 광학 이방성 적층체의 면내 위상차를 각각 나타낸다.

상기 식(3)은, 광학 이방성 적층체의 면내 위상차가, 역파장 분산성인 것을 나타낸다. 광학 이방성 적층체가, 식(3)을 만족함으로써, 넓은 파장 범위에 있어서, 광학 이방성 적층체를 투과하는 광의 편광 상태를 균일하게 변환할 수 있다. 따라서, 반사광에 의한 착색을, 넓은 파장 범위에 있어서 효과적으로 억제할 수 있는 화상 표시 장치를 실현할 수 있다.

상기 식(4)에 있어서, NZ1은 제1 광학 이방성층의 NZ 계수를 나타내고, NZ2는 제2 광학 이방성층의 NZ 계수를 나타낸다. NZ1과 NZ2의 합(NZ1 + NZ2)은, -0.3 이상, 바람직하게는 0 이상, 보다 바람직하게는 0.15 이상이고, 0.8 이하, 바람직하게는 0.75 이하, 보다 바람직하게는 0.65 이하이다. NZ1과 NZ2의 합을 상기의 범위에 들어가게 함으로써, 표시면을 경사 방향에서 본 경우의 반사광에 의한 착색을 보다 효과적으로 억제할 수 있는 화상 표시 장치를 실현할 수 있다.

NZ1은 (nx1 - nz1)/(nx1 - ny1)로 산출되는 값이고, 식(1)으로부터, NZ1은 플러스의 값이다. NZ1은, 바람직하게는 1.0 이상, 보다 바람직하게는 1.05 이상이고, 바람직하게는 1.3 이하, 보다 바람직하게는 1.2 이하이다.

NZ2는 (nx2 - nz2)/(nx2 - ny2)로 산출되는 값이고, 식(2)으로부터, NZ2는 마이너스의 값이다. NZ2는, 바람직하게는 -2.0 이상, 보다 바람직하게는 -1.5 이상이고, 바람직하게는 -0.2 이하, 보다 바람직하게는 -0.4 이하이다. NZ2를 상기 범위에 들어가게 함으로써, 2축성을 높일 수 있다.

제1 광학 이방성층 및 제2 광학 이방성층은 하기 식(5) 및 (6)을 만족하는 광학 특성을 갖고 있는 것이 바람직하다.

Re1(450)/Re1(550) < Re2(450)/Re2(550) 식(5)

Re1(550) > Re2(550) 식(6)

상기 식(5)에 있어서, Re1(550)은, 파장 550 nm에서의 제1 광학 이방성층의 면내 위상차를 나타내고, Re1(450)은 파장 450 nm에서의 제1 광학 이방성층의 면내 위상차를 나타내고, Re2(550)는, 파장 550 nm에서의 제2 광학 이방성층의 면내 위상차를 나타내고, Re2(450)는 파장 450 nm에서의 제2 광학 이방성층의 면내 위상차를 나타낸다.

상기 식(5)은, 제2 광학 이방성층에 있어서 제1 광학 이방성층보다 파장 분산성이 큰 것을 나타낸다.

상기 식(6)에 있어서, Re1(550)은, 파장 550 nm에서의 제1 광학 이방성층의 면내 위상차를 나타내고, Re2(550)는, 파장 550 nm에서의 제2 광학 이방성층의 면내 위상차를 나타낸다. 식(6)은 제1 광학 이방성층의 Re1(550)이 제2 광학 이방성층의 Re2(550)보다 큰 것을 나타낸다.

Re1(550)과 Re2(550)의 차는, 바람직하게는 100 nm 이상, 보다 바람직하게는 110 nm 이상이고, 바람직하게는 180 nm 이하, 보다 바람직하게는 160 nm 이하이다.

파장 590 nm에서의 제1 광학 이방성층의 면내 위상차 Re1(590)은, 바람직하게는 240 nm 이상, 보다 바람직하게는 260 nm 이상이고, 바람직하게는 320 nm 이하, 보다 바람직하게는 300 nm 이하이다. 제1 광학 이방성층의 면내 위상차 Re1(590)이, 상기 범위에 들어감으로써, 표시면을 경사 방향에서 본 경우의 반사광의 착색을 보다 효과적으로 억제할 수 있는 화상 표시 장치를 실현할 수 있다.

파장 590 nm에서의 제2 광학 이방성층의 면내 위상차 Re2(590)는, 바람직하게는 100 nm 이상, 보다 바람직하게는 120 nm 이상이고, 바람직하게는 190 nm 이하, 보다 바람직하게는 170 nm 이하이다. 제2 광학 이방성층의 면내 위상차 Re2(590)가 상기 범위에 들어감으로써, 표시면을 경사 방향에서 본 경우의 반사광에 의한 착색을 보다 효과적으로 억제할 수 있는 화상 표시 장치를 실현할 수 있다.

제1 광학 이방성층의 전체 광선 투과율은, 바람직하게는 80% 이상, 보다 바람직하게는 85% 이상, 특히 바람직하게는 90% 이상이다.

제2 광학 이방성층의 전체 광선 투과율은, 바람직하게는 80% 이상, 보다 바람직하게는 85% 이상, 특히 바람직하게는 90% 이상이다.

제1 광학 이방성층의 헤이즈는, 바람직하게는 5% 이하, 보다 바람직하게는 3% 이하, 특히 바람직하게는 1% 이하이고, 이상적으로는 0%이다.

제2 광학 이방성층의 헤이즈는, 바람직하게는 5% 이하, 보다 바람직하게는 3% 이하, 특히 바람직하게는 1% 이하이고, 이상적으로는 0%이다.

제1 광학 이방성층의 두께 및 제2 광학 이방성층의 두께는, 상기의 광학 특성을 갖는 범위에서 임의로 조정할 수 있다.

제1 광학 이방성층의 두께는, 바람직하게는 0.5 μm 이상, 보다 바람직하게는 1 μm 이상이고, 바람직하게는 150 μm 이하, 보다 바람직하게는 100 μm 이하이다.

제2 광학 이방성층의 두께는, 바람직하게는 0.5 μm 이상, 보다 바람직하게는 1 μm 이상이고, 바람직하게는 150 μm 이하, 보다 바람직하게는 100 μm 이하이다.

광학 이방성 적층체의 전체 광선 투과율은, 바람직하게는 80% 이상, 보다 바람직하게는 85% 이상, 특히 바람직하게는 90% 이상이다.

광학 이방성 적층체의 헤이즈는, 바람직하게는 5% 이하, 보다 바람직하게는 3% 이하, 특히 바람직하게는 1% 이하이고, 이상적으로는 0%이다.

광학 이방성 적층체의 두께는, 상기의 광학 특성을 갖는 범위에서 임의로 조정할 수 있다. 구체적인 두께는, 박형화의 관점에서, 바람직하게는 5 μm 이상, 보다 바람직하게는 10 μm 이상, 특히 바람직하게는 15 μm 이상이고, 바람직하게는 200 μm 이하, 보다 바람직하게는 150 μm 이하, 특히 바람직하게는 100 μm 이하이다.

[1-2. 제1 광학 이방성층 및 제2 광학 이방성층의 재료]

제1 광학 이방성층 및 제2 광학 이방성층을 형성하기 위한 재료로는, 예를 들어 수지를 들 수 있고, 그 중에서도 열가소성 수지가 바람직하다.

제1 광학 이방성층 및 제2 광학 이방성층을 형성하기 위한 재료로는, 플러스의 고유 복굴절값을 갖는 중합체를 포함하는 수지여도 되고, 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 중합체를 포함하는 수지여도 되며, 플러스의 고유 복굴절값을 갖는 중합체 및 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 중합체를 포함하는 수지여도 된다.

플러스의 고유 복굴절값을 갖는 중합체로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르; 폴리페닐렌술파이드 등의 폴리아릴렌술파이드; 폴리비닐알코올; 폴리카보네이트; 폴리아릴레이트; 셀룰로오스에스테르, 폴리에테르술폰; 폴리술폰; 폴리아릴술폰; 폴리염화비닐; 고리형 올레핀 중합체, 노르보르넨 중합체 등의 지환식 구조 함유 중합체; 봉상 액정 폴리머를 들 수 있다.

마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 중합체로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 스티렌류 화합물의 단독 중합체, 그리고, 스티렌류 화합물과 임의의 모노머의 공중합체를 포함하는 폴리스티렌계 중합체; 폴리아크릴로니트릴 중합체; 폴리메틸메타크릴레이트 중합체; 혹은 이들의 다원 공중합 폴리머를 들 수 있다. 또한, 스티렌류 화합물에 공중합시킬 수 있는 상기 임의의 모노머로는, 예를 들어, 아크릴로니트릴, 무수 말레산, 메틸메타크릴레이트, 및 부타디엔을 들 수 있고, 아크릴로니트릴, 무수 말레산, 메틸메타크릴레이트, 및 부타디엔에서 선택되는 1종 이상이 바람직하다.

상기의 중합체는, 단독 중합체여도 되고, 공중합체여도 된다.

또한, 상기의 중합체는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.

제1 광학 이방성층 및 제2 광학 이방성층을 형성하기 위한 수지는, 상기 중합체 이외에, 임의의 배합제를 포함하고 있어도 된다. 배합제의 예로는, 산화 방지제, 열 안정제, 광 안정제, 내후 안정제, 자외선 흡수제, 근적외선 흡수제 등의 안정제; 가소제; 등을 들 수 있다. 배합제는, 1종류를 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.

제1 광학 이방성층은, 액정 배향층을 포함하는 층이어도 된다. 액정 배향층에 대해서는 [1-3-2]에 있어서 설명한다.

[1-3. 호적한 제1 광학 이방성층의 재료]

[1-3-1. 플러스의 고유 복굴절값을 갖는 수지]

제1 광학 이방성층은, 제1 수지 필름의 연신 필름으로 할 수 있다. 제1 수지 필름은, 플러스의 고유 복굴절값을 갖는 수지를 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 플러스의 고유 복굴절값을 갖는 수지로는, 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지, 셀룰로오스에스테르를 포함하는 수지, 및 폴리카보네이트를 포함하는 수지를 들 수 있다. 제1 수지 필름으로는, 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지, 셀룰로오스에스테르를 포함하는 수지, 및 폴리카보네이트를 포함하는 수지에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것이 보다 바람직하고, 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지를 포함하는 것이 더욱 바람직하다. 플러스의 고유 복굴절값을 갖는 수지를 재료로서 사용함으로써, 그 수지로 형성된 제1 수지 필름을 연신함으로써, 용이하게 식(1)을 만족하는 제1 광학 이방성층을 제조할 수 있다. 제1 광학 이방성층은, 플러스의 고유 복굴절값을 갖는 수지로 이루어지는 필름(제1 수지 필름)을 연신하여 이루어지는 층으로 할 수 있다. 제1 수지 필름은 제1 광학 이방성층을 형성하는 연신 전의 수지 필름을 말한다.

지환식 구조 함유 중합체는, 반복 단위 중에 지환식 구조를 갖는 중합체로, 통상은 비정질의 중합체이다. 지환식 구조 함유 중합체로는, 주쇄 중에 지환식 구조를 함유하는 중합체 및 측쇄에 지환식 구조를 함유하는 중합체를 어느 것이나 사용할 수 있다.

지환식 구조로는, 예를 들어, 시클로알칸 구조, 시클로알켄 구조 등을 들 수 있으나, 열 안정성 등의 관점에서 시클로알칸 구조가 바람직하다.

1개의 지환식 구조의 반복 단위를 구성하는 탄소 원자수에 특별히 제한은 없으나, 바람직하게는 4개 이상, 보다 바람직하게는 5개 이상, 특히 바람직하게는 6개 이상이고, 바람직하게는 30개 이하, 보다 바람직하게는 20개 이하, 특히 바람직하게는 15개 이하이다.

지환식 구조 함유 중합체 중의 지환식 구조를 갖는 반복 단위의 비율은, 사용 목적에 따라 적당히 선택될 수 있으나, 바람직하게는 50 중량% 이상, 보다 바람직하게는 70 중량% 이상, 특히 바람직하게는 90 중량% 이상이다. 지환식 구조를 갖는 반복 단위를 상기와 같이 많게 함으로써, 제1 광학 이방성층의 내열성을 높게 할 수 있다.

지환식 구조 함유 중합체는, 예를 들어, (1) 노르보르넨 중합체, (2) 단환의 고리형 올레핀 중합체, (3) 고리형 공액 디엔 중합체, (4) 비닐 지환식 탄화수소 중합체, 및 이들의 수소 첨가물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 고리형 올레핀 중합체 및 노르보르넨 중합체가 보다 바람직하다.

노르보르넨 중합체로는, 예를 들어, 노르보르넨 모노머의 개환 중합체, 노르보르넨 모노머와 개환 공중합 가능한 그 밖의 모노머와의 개환 공중합체, 및 그들의 수소 첨가물; 노르보르넨 모노머의 부가 중합체, 노르보르넨 모노머와 공중합 가능한 그 밖의 모노머와의 부가 공중합체 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 투명성의 관점에서, 노르보르넨 모노머의 개환 중합체 수소 첨가물이 특히 바람직하다.

상기의 지환식 구조 함유 중합체는, 예를 들어 일본 공개특허공보 2002-321302호 등에 개시되어 있는 공지의 중합체에서 선택된다.

셀룰로오스에스테르로는, 셀룰로오스의 저급 지방산 에스테르(예: 셀룰로오스아세테이트, 셀룰로오스아세테이트부티레이트 및 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트)가 대표적이다. 저급 지방산은, 1 분자당의 탄소 원자수 6 이하의 지방산을 의미한다. 셀룰로오스아세테이트에는, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 및 셀룰로오스디아세테이트(DAC)가 포함된다.

셀룰로오스에스테르의 총 아실기 치환도는, 바람직하게는 2.20 이상 2.70 이하이고, 보다 바람직하게는 2.40 이상 2.60 이하이다. 여기서, 총 아실기는, ASTM D817-91에 준하여 측정할 수 있다.

셀룰로오스에스테르의 중량 평균 중합도는, 바람직하게는 350 이상 800 이하이고, 보다 바람직하게는 370 이상 600 이하이다. 셀룰로오스에스테르의 수평균 분자량은, 바람직하게는 60000 이상 230000 이하이고, 보다 바람직하게는 70000 이상 230000 이하이다.

폴리카보네이트로는, 디하이드록시 화합물로부터 유도되는 구성 단위 및 카보네이트 구조(-O-(C=O)-O-로 나타내어지는 구조)를 갖는 중합체를 들 수 있다.

디하이드록시 화합물로는, 예를 들어, 비스페놀 A를 들 수 있다. 폴리카보네이트 중에 포함되는, 디하이드록시 화합물로부터 유도되는 구성 단위는, 1종이어도 되고 2종 이상이어도 된다.

제1 광학 이방성층은, 트리아세틸셀룰로오스를 포함하는 수지를 포함하는 것이 더욱 바람직하다. 트리아세틸셀룰로오스를 포함하는 수지로 형성된 필름의 리타데이션은, 일반적으로 역파장 분산성을 갖기 때문에, 반사광에 의한 착색을, 넓은 파장 범위에 있어서 보다 효과적으로 억제할 수 있는 화상 표시 장치를 실현할 수 있다.

제1 광학 이방성층을, 트리아세틸셀룰로오스를 포함하는 수지로 형성하는 경우, 제1 광학 이방성층은, 용액 유연법에 의해 형성된 층인 것이 바람직하다. 이에 의해, 용이하게 식(1)을 만족하는 제1 광학 이방성층을 제조할 수 있다.

[1-3-2. 액정 배향층]

제1 광학 이방성층은 액정 배향층을 포함하는 층으로 할 수 있다.

액정 배향층은, 배향된 액정 화합물을 포함하는 액정 조성물의 층을 경화시킨 경화물층이다. 따라서, 액정 배향층은, 액정 조성물의 경화물로 형성되어 있으므로, 액정 화합물의 분자를 포함한다.

액정 화합물은, 중합성을 갖는 것이 바람직하다. 따라서, 액정 화합물은, 그 분자가, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 및 에폭시기 등의 중합성기를 포함하는 것이 바람직하다. 액정 화합물의 분자 1개당의 중합성기의 수는, 1개여도 되지만, 2개 이상이 바람직하다. 중합성을 갖는 액정 화합물은, 액정상을 나타낸 상태에서 중합하여, 액정상에 있어서의 분자의 굴절률 타원체에 있어서 최대의 굴절률을 나타내는 방향을 변화시키지 않도록 중합체가 될 수 있다. 따라서, 액정 배향층에 있어서 액정 화합물의 배향 상태를 고정하거나, 액정 화합물의 중합도를 높여 액정 배향층의 기계적 강도를 높이거나 하는 것이 가능하다.

액정 화합물의 분자량은, 바람직하게는 300 이상, 보다 바람직하게는 500 이상, 특히 바람직하게는 800 이상이고, 바람직하게는 2000 이하, 보다 바람직하게는 1700 이하, 특히 바람직하게는 1500 이하이다. 이러한 범위의 분자량을 갖는 액정 화합물을 사용하는 경우에, 액정 조성물의 도공성을 특히 양호하게 할 수 있다.

측정 파장 590 nm에서의 액정 화합물의 복굴절 Δn은, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.03 이상이고, 바람직하게는 0.15 이하, 보다 바람직하게는 0.10 이하이다. 이러한 범위의 복굴절 Δn을 갖는 액정 화합물을 사용하는 경우에, 배향 결함이 적은 액정 경화층을 얻기 쉽다.

액정 화합물은, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.

이러한 액정 화합물의 예로는, 하기 식(I)으로 나타내어지는 액정 화합물을 들 수 있다.

[화학식 1]

식(I)에 있어서, Ar은, 방향족 복소환, 복소환, 및 방향족 탄화수소고리의 적어도 하나를 갖고, 치환되어 있어도 되는, 탄소 원자수 6~67의 2가의 유기기를 나타낸다. 방향족 복소환으로는, 예를 들어, 1H-이소인돌-1,3(2H)-디온고리, 1-벤조푸란고리, 2-벤조푸란고리, 아크리딘고리, 이소퀴놀린고리, 이미다졸고리, 인돌고리, 옥사디아졸고리, 옥사졸고리, 옥사졸로피라진고리, 옥사졸로피리딘고리, 옥사졸로피리다질고리, 옥사졸로피리미딘고리, 퀴나졸린고리, 퀴녹살린고리, 퀴놀린고리, 신놀린고리, 티아디아졸고리, 티아졸고리, 티아졸로피라진고리, 티아졸로피리딘고리, 티아졸로피리다진고리, 티아졸로피리미딘고리, 티오펜고리, 트리아진고리, 트리아졸고리, 나프티리딘고리, 피라진고리, 피라졸고리, 피라논고리, 피란고리, 피리딘고리, 피리다진고리, 피리미딘고리, 피롤고리, 페난트리딘고리, 프탈라진고리, 푸란고리, 벤조[c]티오펜고리, 벤조이소옥사졸고리, 벤조이소티아졸고리, 벤조이미다졸고리, 벤조옥사디아졸고리, 벤조옥사졸고리, 벤조티아디아졸고리, 벤조티아졸고리, 벤조티오펜고리, 벤조트리아진고리, 벤조트리아졸고리, 벤조피라졸고리, 벤조피라논고리 등을 들 수 있다. 복소환으로는, 예를 들어, 1,3-디티올란고리, 피롤리딘, 피페라진 등을 들 수 있다. 방향족 탄화수소고리로는, 예를 들어, 페닐고리, 나프탈렌고리 등을 들 수 있다.

식(I)에 있어서, Z¹ 및 Z²는, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -O-CH₂-, -CH₂-O-, -O-CH₂-CH₂-, -CH₂-CH₂-O-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S-, -S-C(=O)-, -NR²¹-C(=O)-, -C(=O)-NR²¹-, -CF₂-O-, -O-CF₂-, -CH₂-CH₂-, -CF₂-CF₂-, -O-CH₂-CH₂-O-, -CH=CH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH=CH-, -CH₂-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH₂-, -CH₂-O-C(=O)-, -C(=O)-O-CH₂-, -CH₂-CH₂-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH₂-CH₂-, -CH₂-CH₂-O-C(=O)-, -C(=O)-O-CH₂-CH₂-, -CH=CH-, -N=CH-, -CH=N-, -N=C(CH₃)-, -C(CH₃)=N-, -N=N-, 및 -C≡C-로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나를 나타낸다. R²¹은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 나타낸다.

식(I)에 있어서, A¹, A², B¹ 및 B²는, 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 고리형 지방족기, 및 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족기로 이루어지는 군에서 선택되는 기를 나타낸다. A¹, A², B¹ 및 B²가 나타내는 기의 탄소 원자수(치환기의 탄소 원자수를 포함한다.)는, 각각 독립적으로, 통상 3~100이다. 그 중에서도, A¹, A², B¹ 및 B²는, 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소 원자수 5~20의 고리형 지방족기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소 원자수 2~20의 방향족기가 바람직하다.

A¹, A², B¹ 및 B²에 있어서의 고리형 지방족기로는, 예를 들어, 시클로펜탄-1,3-디일기, 시클로헥산-1,4-디일기, 시클로헵탄-1,4-디일기, 시클로옥탄-1,5-디일기 등의, 탄소 원자수 5~20의 시클로알칸디일기; 데카하이드로나프탈렌-1,5-디일기, 데카하이드로나프탈렌-2,6-디일기 등의, 탄소 원자수 5~20의 비시클로알칸디일기; 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 치환되어 있어도 되는 탄소 원자수 5~20의 시클로알칸디일기가 바람직하고, 시클로헥산디일기가 보다 바람직하며, 시클로헥산-1,4-디일기가 특히 바람직하다. 고리형 지방족기는, 트랜스체여도 되고, 시스체여도 되며, 시스체와 트랜스체의 혼합물이어도 된다. 그 중에서도, 트랜스체가 보다 바람직하다.

A¹, A², B¹ 및 B²에 있어서의 고리형 지방족기가 가질 수 있는 치환기로는, 예를 들어, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~6의 알킬기, 탄소 원자수 1~5의 알콕시기, 니트로기, 시아노기 등을 들 수 있다. 치환기의 수는, 하나여도 되고, 복수여도 된다. 또한, 복수의 치환기는, 서로 동일해도 되고, 달라도 된다.

A¹, A², B¹ 및 B²에 있어서의 방향족기로는, 예를 들어, 1,2-페닐렌기, 1,3-페닐렌기, 1,4-페닐렌기, 1,4-나프틸렌기, 1,5-나프틸렌기, 2,6-나프틸렌기, 4,4'-비페닐렌기 등의, 탄소 원자수 6~20의 방향족 탄화수소고리기; 푸란-2,5-디일기, 티오펜-2,5-디일기, 피리딘-2,5-디일기, 피라진-2,5-디일기 등의, 탄소 원자수 2~20의 방향족 복소환기; 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 탄소 원자수 6~20의 방향족 탄화수소고리기가 바람직하고, 페닐렌기가 더욱 바람직하며, 1,4-페닐렌기가 특히 바람직하다.

A¹, A², B¹ 및 B²에 있어서의 방향족기가 가질 수 있는 치환기로는, 예를 들어, A¹, A², B¹ 및 B²에 있어서의 고리형 지방족기가 가질 수 있는 치환기와 동일한 예를 들 수 있다. 치환기의 수는, 하나여도 되고, 복수여도 된다. 또한, 복수의 치환기는, 서로 동일해도 되고, 달라도 된다.

식(I)에 있어서, Y¹~Y⁴는, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -NR²²-C(=O)-, -C(=O)-NR²²-, -O-C(=O)-O-, -NR²²-C(=O)-O-, -O-C(=O)-NR²²-, 및 -NR²²-C(=O)-NR²³-로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나를 나타낸다. R²² 및 R²³은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 나타낸다.

식(I)에 있어서, G¹ 및 G²는, 각각 독립적으로, 탄소 원자수 1~20의 지방족 탄화수소기; 그리고, 탄소 원자수 3~20의 지방족 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기(-CH₂-)의 1 이상이 -O- 또는 -C(=O)-로 치환된 기;로 이루어지는 군에서 선택되는 유기기를 나타낸다. G¹ 및 G²의 상기 유기기에 포함되는 수소 원자는, 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 1~5의 알콕시기, 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 단, G¹ 및 G²의 양 말단의 메틸렌기(-CH₂-)가 -O- 또는 -C(=O)-로 치환되는 일은 없다.

G¹ 및 G²에 있어서의 탄소 원자수 1~20의 지방족 탄화수소기의 구체예로는, 탄소 원자수 1~20의 알킬렌기를 들 수 있다.

G¹ 및 G²에 있어서의 탄소 원자수 3~20의 지방족 탄화수소기의 구체예로는, 탄소 원자수 3~20의 알킬렌기를 들 수 있다.

식(I)에 있어서, P¹ 및 P²는, 각각 독립적으로, 중합성기를 나타낸다. P¹ 및 P²에 있어서의 중합성기로는, 예를 들어, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기 등의, CH₂=CR³¹-C(=O)-O-로 나타내어지는 기; 비닐기; 비닐에테르기; p-스틸벤기; 아크릴로일기; 메타크릴로일기; 카르복실기; 메틸카르보닐기; 수산기; 아미드기; 탄소 원자수 1~4의 알킬아미노기; 아미노기; 에폭시기; 옥세타닐기; 알데히드기; 이소시아네이트기; 티오이소시아네이트기; 등을 들 수 있다. R³¹은, 수소 원자, 메틸기, 또는 염소 원자를 나타낸다. 그 중에서도, CH₂=CR³¹-C(=O)-O-로 나타내어지는 기가 바람직하고, CH₂=CH-C(=O)-O-(아크릴로일옥시기), CH₂=C(CH₃)-C(=O)-O-(메타크릴로일옥시기)가 보다 바람직하며, 아크릴로일옥시기가 특히 바람직하다.

식(I)에 있어서, p 및 q는, 각각 독립적으로, 0 또는 1을 나타낸다.

식(I)으로 나타내어지는 액정 화합물은, 예를 들어, 국제 공개 제2012/147904호에 기재되는, 하이드라진 화합물과 카르보닐 화합물의 반응에 의해 제조할 수 있다.

식(I)으로 나타내어지는 액정 화합물로는, 구체적으로는, 예를 들어, 하기의 식으로 나타내어지는 화합물을 들 수 있다.

[화학식 2]

액정 조성물은, 필요에 따라, 액정 화합물에 조합하여, 임의의 성분을 더 포함하고 있어도 된다. 임의의 성분은, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.

예를 들어, 액정 화합물의 중합을 촉진하기 위하여, 액정 조성물은, 임의의 성분으로서 중합 개시제를 포함하고 있어도 된다. 중합 개시제로는, 열중합 개시제 및 광중합 개시제의 어느 것을 사용해도 된다.

액정 조성물은, 임의의 성분으로서, 계면 활성제를 포함하고 있어도 된다. 특히, 배향성이 우수한 액정 경화층을 안정적으로 얻는 관점에서, 계면 활성제로는, 분자 중에 불소 원자를 포함하는 계면 활성제가 바람직하다.

또한, 액정 조성물은, 임의의 성분으로서, 예를 들어, 산화 방지제를 포함하고 있어도 된다. 산화 방지제를 사용함으로써, 액정 조성물의 겔화를 억제할 수 있으므로, 액정 조성물의 포트 라이프를 길게 할 수 있다. 산화 방지제는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.

액정 조성물은, 임의의 성분으로서, 용매를 포함하고 있어도 된다. 용매로는, 역분산 액정 화합물을 용해할 수 있는 것이 바람직하다. 이러한 용매로는, 통상, 유기 용매를 사용한다.

액정 조성물이 포함할 수 있는 임의의 그 밖의 성분으로는, 예를 들어, 금속; 금속 착물; 산화티탄 등의 금속 산화물; 염료, 안료 등의 착색제; 형광 재료, 인광 재료 등의 발광 재료; 레벨링제; 틱소제; 겔화제; 다당류; 자외선 흡수제; 적외선 흡수제; 항산화제; 이온 교환 수지; 등을 들 수 있다. 이들 성분의 양은, 액정 화합물의 합계 100 중량부에 대하여, 각각 0.1 중량부~20 중량부로 할 수 있다.

액정 조성물의 경화는, 통상, 당해 액정 조성물이 포함하는 중합성의 화합물의 중합에 의해 달성된다. 따라서, 액정 배향층은, 통상, 액정 조성물이 포함하고 있던 성분의 일부 또는 전부의 중합체를 포함한다. 따라서, 액정 화합물이 중합성을 갖는 경우, 액정 배향층은, 액정 화합물의 중합체를 포함하는 층일 수 있다. 통상, 중합에 의해 액정 화합물의 액정성은 소실되는데, 본원에 있어서는, 그와 같이 중합한 액정 화합물도, 용어 「액정 배향층에 포함되는 액정 화합물」에 포함시킨다.

액정 배향층에 있어서는, 액정 조성물이 갖고 있던 유동성이 소실된다. 따라서, 통상, 액정 배향층에 있어서는, 액정 화합물의 배향 상태가 고정될 수 있다. 용어 「배향 상태가 고정된 액정 화합물」에는, 상기의 액정 화합물의 중합체가 포함된다. 액정 배향층은, 배향 상태가 고정된 액정 화합물의 분자에 조합하여 배향 상태가 고정되어 있지 않은 액정 화합물의 분자를 포함하고 있어도 되지만, 액정 배향층에 포함되는 액정 화합물의 분자의 전부가 배향 상태가 고정되어 있는 것이 바람직하다.

액정 배향층의 형성 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 기재로 되는 필름에, 액정 화합물을 포함하는 액정 조성물의 층을 형성하는 공정, 액정 조성물의 층에 포함되는 액정 화합물을 배향시키는 공정, 및 액정 조성물의 층을 경화시키는 공정을 행함으로써 형성할 수 있다.

[1-4. 호적한 제2 광학 이방성층의 재료]

[1-4-1. 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지]

제2 광학 이방성층은, 제2 수지 필름의 연신 필름으로 할 수 있다. 제2 수지 필름은, 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지를 포함하는 것이 바람직하다. 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지를 재료로서 사용함으로써, 그 수지로 형성된 제2 수지 필름을 연신하여 용이하게 식(2)을 만족하는 제2 광학 이방성층을 제조할 수 있다. 따라서, 제2 광학 이방성층은, 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지로 이루어지는 필름(제2 수지 필름)을 연신하여 이루어지는 층으로 할 수 있다. 제2 수지 필름은 제2 광학 이방성층을 형성하는 연신 전의 수지 필름을 말한다.

마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지는 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 중합체를 포함한다.

마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 중합체로는, 위상차의 발현성이 높다는 관점에서, 폴리스티렌계 중합체가 바람직하고, 또한 내열성이 높다는 점에서, 스티렌 또는 스티렌 유도체와 무수 말레산의 공중합체가 특히 바람직하다. 이 경우, 폴리스티렌계 중합체 100 중량부에 대하여, 무수 말레산 단위의 양은, 바람직하게는 5 중량부 이상, 보다 바람직하게는 10 중량부 이상, 특히 바람직하게는 15 중량부 이상이고, 바람직하게는 30 중량부 이하, 보다 바람직하게는 28 중량부 이하, 특히 바람직하게는 26 중량부 이하이다. 상기의 무수 말레산 단위란, 무수 말레산을 중합하여 형성되는 구조를 갖는 구조 단위를 말한다.

마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지에 있어서의 중합체의 비율은, 바람직하게는 50 중량%~100 중량%, 보다 바람직하게는 70 중량%~100 중량%, 특히 바람직하게는 90 중량%~100 중량%이다. 중합체의 비율을 상기 범위로 함으로써, 제2 광학 이방성층이 적절한 광학 특성을 발현할 수 있다.

마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지의 유리 전이 온도는, 바람직하게는 80℃ 이상, 보다 바람직하게는 90℃ 이상, 더욱 바람직하게는 100℃ 이상, 그 중에서도 바람직하게는 110℃ 이상, 특히 바람직하게는 120℃ 이상이다. 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지의 유리 전이 온도가 이와 같이 높음으로써, 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지의 배향 완화를 저감할 수 있다. 또한, 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지의 유리 전이 온도의 상한에 특별히 제한은 없으나, 통상은 200℃ 이하이다. 유리 전이 온도는, 시차 주사 열량 분석계를 사용하여, JIS K 6911에 기초하여, 승온 속도 10℃/분의 조건으로 측정할 수 있다.

마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지에는, 기계적 강도가 낮은 것이 있다. 예를 들어, 폴리스티렌계 중합체를 포함하는 수지는, 기계적 강도가 낮은 경향이 있다. 이에, 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지로 이루어지는 층을 포함하는 제2 광학 이방성층은, 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지를 포함하는 층에 조합하여, 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지를 포함하는 층을 보호할 수 있는 보호층을 구비하는 것이 바람직하다.

보호층으로는, 특별히 한정은 없으나, 예를 들어, 플러스의 고유 복굴절값을 갖는 수지로 이루어지는 층을 사용할 수 있다. 그 때, 제2 광학 이방성층에 있어서의 위상차의 조정을 용이하게 하는 관점에서, 보호층이 갖는 면내 위상차 및 두께 방향의 위상차는 제로에 가까운 것이 바람직하다. 이와 같이 보호층의 면내 위상차 및 두께 방향의 위상차를 제로에 가깝게 하는 방법으로는, 예를 들어, 보호층에 포함되는 수지의 유리 전이 온도를 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지의 유리 전이 온도보다 낮게 하는 방법을 들 수 있다.

보호층은, 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지로 이루어지는 층의 편측에만 형성되어 있어도 되고, 양측에 형성되어 있어도 된다.

[1-5. 광학 이방성 적층체]

본 실시형태의 광학 이방성 적층체에 있어서, 제1 광학 이방성층 및 제2 광학 이방성층의 어느 일방을, λ/2판에 의해 구성하고, 타방을 λ/4판에 의해 구성할 수 있다. λ/2판은, 측정 파장 590 nm에서, 통상 200 nm 이상 통상 300 nm 이하의 면내 위상차를 갖는 광학 부재이다. λ/4판은, 측정 파장 590 nm에서, 통상 75 nm 이상 통상 154 nm 이하의 면내 위상차를 갖는 광학 부재이다. λ/2판 및 λ/4판을 조합함으로써 광대역 λ/4판을 실현할 수 있다.

그 때문에, 본 실시형태에 따른 원 편광판은, 넓은 파장 범위에 있어서, 우원 편광 및 좌원 편광의 일방의 광을 흡수하고, 나머지의 광을 투과시킬 수 있는 기능을 발현할 수 있다. 따라서, 이러한 양태의 광학 이방성 적층체를 구비하는 원 편광판에 의해, 정면 방향 및 경사 방향의 양방에 있어서, 넓은 파장 범위의 광의 반사를 저감하는 것이 가능해진다.

[1-6. 광학 이방성 적층체의 제조 방법]

본 실시형태의 광학 이방성 적층체는, 플러스의 고유 복굴절값을 갖는 수지를 포함하는 제1 수지 필름을 연신하여 제1 광학 이방성층을 얻는 공정 1과, 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지를 포함하는 제2 수지 필름을 연신하여 제2 광학 이방성층을 얻는 공정 2와, 상기 제1 광학 이방성층과 상기 제2 광학 이방성층을 겹치는 공정 3을 포함하는 제조 방법에 의해 제조할 수 있다.

[1-6-1. 공정 1]

공정 1은, 플러스의 고유 복굴절값을 갖는 수지를 포함하는 제1 수지 필름을 연신하여 제1 광학 이방성층을 얻는 공정이다.

공정 1에서 사용하는 플러스의 고유 복굴절값을 갖는 수지를 포함하는 제1 수지 필름은, 용융 성형법 또는 용액 유연법에 의해 제조할 수 있고, 용융 성형법이 바람직하다. 또한, 용융 성형법 중에서도, 압출 성형법, 인플레이션 성형법 또는 프레스 성형법이 바람직하고, 압출 성형법이 특히 바람직하다.

통상, 제1 수지 필름은, 장척의 수지 필름으로서 얻어진다. 제1 수지 필름을 장척의 수지 필름으로서 준비함으로써, 제1 광학 이방성층을 제조하는 경우에 각 공정의 일부 또는 전부를 인라인으로 행하는 것이 가능하므로, 제조를 간편 또한 효율적으로 행할 수 있다.

제1 수지 필름의 연신 방법은, 연신에 의해 발현시키고 싶은 광학 특성에 따라 적절한 방법을 임의로 채용할 수 있다. 본 실시형태에 있어서, 제1 수지 필름의 연신 방법으로는 특별히 한정은 없으나, 일방향 연신(1축 연신)이 바람직하다. 제1 수지 필름을 일방향 연신함으로써 플러스의 고유 복굴절률값을 갖는 수지를 포함하는 층의 1축성을 높일 수 있고, NZ1을 1.0에 가깝게 할 수 있다. 일방향 연신에는, 예를 들어, 자유단 1축 연신 및 고정단 1축 연신이 포함된다. 공정 1에 있어서, 제1 수지 필름을, 일방향 또는 이방향으로 1회 연신해도 된다.

제1 수지 필름의 연신 방향은, 특별히 한정되지 않는다. 제1 수지 필름의 연신은, 경사 방향으로의 연신을 포함하고 있어도 된다. 경사 방향으로의 연신을 포함하는 제조 방법에 의해, 경사 연신 필름으로서의 제1 광학 이방성층을 얻을 수 있다. 경사 연신 필름이란, 경사 방향으로의 연신을 포함하는 제조 방법에 의해 제조된 필름을 의미한다. 통상, 경사 연신 필름에는, 그 폭 방향과 평행이 아니고 수직도 아닌 지상축이 발현한다. 따라서, 이 경사 연신 필름으로서의 제1 광학 이방성층에는, 폭 방향에 대하여 소정의 각도를 이루는 지상축을 용이하게 발현시킬 수 있다. 따라서, 경사 연신 필름으로서의 제1 광학 이방성층은, 폭 방향에 투과축을 갖는 편광 필름 및 제2 광학 이방성층과 롤투롤로 첩합하여, 원 편광판을 용이하게 제조할 수 있다.

제1 수지 필름의 연신 배율은, 바람직하게는 1.1배 이상, 보다 바람직하게는 1.3배 이상, 특히 바람직하게는 1.5배 이상이고, 바람직하게는 4배 이하, 보다 바람직하게는 3배 이하, 특히 바람직하게는 2.5배 이하이다. 2 이상의 방향으로 연신을 행하는 경우, 각 방향으로의 연신 배율의 곱이, 상기의 범위에 들어가는 것이 바람직하다. 연신 배율을 상기 범위에 들어가게 함으로써, 원하는 광학 특성을 갖는 제1 광학 이방성층을 얻기 쉽다.

제1 수지 필름의 연신 온도는, 바람직하게는 Tg₁℃ 이상, 보다 바람직하게는 「Tg₁ + 2℃」 이상, 특히 바람직하게는 「Tg₁ + 5℃」 이상이고, 바람직하게는 「Tg₁ + 40℃」 이하, 보다 바람직하게는 「Tg₁ + 35℃」 이하, 특히 바람직하게는 「Tg₁ + 30℃」 이하이다. 여기서 Tg₁이란, 플러스의 고유 복굴절값을 갖는 수지의 유리 전이 온도를 나타낸다. 연신 온도를 상기의 범위로 함으로써, 제1 수지 필름에 포함되는 분자를 확실하게 배향시킬 수 있으므로, 원하는 광학 특성을 갖는 제1 광학 이방성층을 용이하게 얻을 수 있다.

공정 1(제1 광학 이방성층의 제조 방법)에서는, 전술한 공정 이외에 임의의 공정을 더 행하여도 된다. 예를 들어, 장척의 제1 수지 필름을 사용하여 장척의 제1 광학 이방성층을 제조한 경우에는, 당해 제1 광학 이방성층을 원하는 형상으로 잘라내는 트리밍 공정을 행하여도 된다. 트리밍 공정을 행함으로써, 원하는 형상을 갖는 매엽의 제1 광학 이방성층이 얻어진다. 또한, 예를 들어, 제1 광학 이방성층에 보호층을 형성하는 공정을 행하여도 된다.

[1-6-2. 공정 2]

공정 2는, 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지를 포함하는 제2 수지 필름을 연신하여 제2 광학 이방성층을 얻는 공정이다.

공정 2에서 사용하는 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지를 포함하는 제2 수지 필름은, 용융 성형법 또는 용액 유연법에 의해 제조할 수 있고, 용융 성형법이 바람직하다. 또한, 용융 성형법 중에서도, 압출 성형법, 인플레이션 성형법 또는 프레스 성형법이 바람직하고, 압출 성형법이 특히 바람직하다.

제2 수지 필름이 예를 들어 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지로 이루어지는 층과 보호층을 구비하는 복층 필름인 경우, 공압출 T 다이법, 공압출 인플레이션법, 공압출 라미네이션법 등의 공압출 성형 방법; 드라이 라미네이션 등의 필름 라미네이션 성형 방법; 어느 층에 대하여 그 이외의 층을 구성하는 수지 용액을 코팅하는 것과 같은 코팅 성형 방법 등의 방법을 이용할 수 있다. 그 중에서도, 제조 효율이 좋고, 제2 광학 이방성층에 용매 등의 휘발성 성분을 잔류시키지 않는다는 관점에서, 공압출 성형 방법이 바람직하다. 공압출 성형법 중에서도, 공압출 T 다이법이 바람직하다. 또한 공압출 T 다이법에는 피드블록 방식, 멀티매니폴드 방식을 들 수 있으나, 층의 두께의 편차를 적게 할 수 있는 점에서 멀티매니폴드 방식이 더욱 바람직하다.

통상, 제2 수지 필름은, 장척의 수지 필름으로서 얻어진다. 제2 수지 필름을 장척의 수지 필름으로서 준비함으로써, 제2 광학 이방성층을 제조하는 경우에 각 공정의 일부 또는 전부를 인라인으로 행하는 것이 가능하므로, 제조를 간편 또한 효율적으로 행할 수 있다.

제2 수지 필름의 연신 방법은, 연신에 의해 발현시키고 싶은 광학 특성에 따라 적절한 것을 임의로 채용할 수 있다. 본 실시형태에 있어서, 제2 수지 필름의 연신 방법으로는 특별히 한정은 없으나, 이방향 연신(2축 연신)이 바람직하다. 제2 수지 필름을 이방향 연신함으로써 마이너스의 고유 복굴절률값을 갖는 수지를 포함하는 층의 2축성을 높일 수 있고, NZ2를 0보다 작게 할 수 있다. 이방향 연신에는, 예를 들어, 축차 2축 연신 및 동시 2축 연신이 포함된다.

제2 수지 필름의 연신 방향은, 특별히 한정되지 않는다. 제2 수지 필름의 연신은, 경사 방향으로의 연신을 포함하는 것이 바람직하다. 경사 방향으로의 연신을 포함하는 제조 방법에 의해, 경사 연신 필름으로서의 제2 광학 이방성층을 얻을 수 있다. 통상, 경사 연신 필름에는, 그 폭 방향과 평행이 아니고 수직도 아닌 지상축이 발현한다. 따라서, 이 경사 연신 필름으로서의 제2 광학 이방성층에는, 폭 방향에 대하여 소정의 각도를 이루는 지상축을 용이하게 발현시킬 수 있다. 따라서, 경사 연신 필름으로서의 제2 광학 이방성층은, 폭 방향에 투과축을 갖는 편광 필름 및 제1 광학 이방성층과 롤투롤로 첩합하여, 원 편광판을 용이하게 제조할 수 있다.

제2 수지 필름의 연신 배율은, 바람직하게는 1.1배 이상, 보다 바람직하게는 1.2배 이상, 특히 바람직하게는 1.3배 이상이고, 바람직하게는 4배 이하, 보다 바람직하게는 3배 이하, 특히 바람직하게는 2.5배 이하이다. 2 이상의 방향으로 연신을 행하는 경우, 각 방향으로의 연신 배율의 곱이, 상기의 범위에 들어가는 것이 바람직하다. 연신 배율을 상기 범위에 들어가게 함으로써, 원하는 광학 특성을 갖는 제2 광학 이방성층을 얻기 쉽다.

제2 수지 필름의 연신 온도는, 바람직하게는 Tg₂℃ 이상, 보다 바람직하게는 「Tg₂ + 2℃」 이상, 특히 바람직하게는 「Tg₂ + 5℃」 이상이고, 바람직하게는 「Tg₂ + 40℃」 이하, 보다 바람직하게는 「Tg₂ + 35℃」 이하, 특히 바람직하게는 「Tg₂ + 30℃」 이하이다. 여기서 Tg₂란, 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지의 유리 전이 온도를 나타낸다. 연신 온도를 상기의 범위로 함으로써, 제2 수지 필름에 포함되는 분자를 확실하게 배향시킬 수 있으므로, 원하는 광학 특성을 갖는 제2 광학 이방성층을 용이하게 얻을 수 있다.

공정 2는 공정 1과 동시에 행하여도 되고, 공정 1보다 먼저 행하여도 된다. 또한, 공정 2(제2 광학 이방성층의 제조 방법)에 있어서는, 전술한 공정 이외에 임의의 공정을 더 행하여도 된다. 예를 들어, 공정 1(제1 광학 이방성층의 제조 방법)에서 예시한 임의의 공정과 동일한 공정을 행하여도 된다.

[1-6-3. 공정 3]

공정 3은, 제1 광학 이방성층과 제2 광학 이방성층을 겹치는 공정이다.

공정 3에 있어서는, 제1 광학 이방성층과 제2 광학 이방성층을, 제1 광학 이방성층의 지상축과, 제2 광학 이방성층의 지상축이 이루는 각이 85°~95°로 되도록 겹친다. 즉, 제1 광학 이방성층의 지상축과 제2 광학 이방성층의 지상축이 직교하도록 겹친다.

제1 광학 이방성층의 지상축과 제2 광학 이방성층의 지상축이 이루는 각은, 바람직하게는 90°이지만, 예를 들어 ±5°, ±3°, ±2° 또는 ±1°의 범위 내에서의 오차를 포함하고 있어도 된다. 따라서, 제1 광학 이방성층의 지상축과 제2 광학 이방성층의 지상축이 이루는 각은, 예를 들어, 85°~95°, 87°~93°, 88°~92°, 또는 89°~91°일 수 있다. 이러한 양태로 함으로써, 얻어진 광학 이방성 적층체를 구비하는 원 편광판을 표시 장치에 사용함으로써, 외광의 반사를 억제할 수 있어, 표시면을 경사 방향에서 본 경우에, 외광의 반사를 억제하여, 착색을 효과적으로 억제할 수 있다.

[1-6-4. 첩합 공정(임의 공정)]

제1 광학 이방성층과 제2 광학 이방성층을 겹친 후에, 당해 2개의 층을 첩합함으로써 광학 이방성 적층체를 제조할 수 있다. 첩합에는, 적절한 접착제를 사용할 수 있다. 접착제로는, 예를 들어, 하기 편광판의 제조에 사용할 수 있는 접착제와 동일한 접착제를 사용할 수 있다. 이 첩합 공정은 임의의 공정이다.

[2. 원 편광판]

본 실시형태의 원 편광판(500)은, 직선 편광자(130)와, 상기의 광학 이방성 적층체(100)를 구비한다. 본 실시형태의 원 편광판(500)을, 화상 표시 장치의 표시면에 설치함으로써, 외광의 반사를 억제할 수 있다. 본 실시형태의 광학 이방성 적층체(100)를 구비하는 본 실시형태의 원 편광판(500)에 의하면, 표시면을 경사 방향에서 본 경우에, 외광의 반사를 억제하여, 착색을 효과적으로 억제할 수 있다.

본 실시형태의 원 편광판(500)은, 도 1에 나타내는 바와 같이, 직선 편광자(130), 제1 광학 이방성층(110), 및 상기 제2 광학 이방성층(120)을 이 순서로 구비한다.

도 1에 있어서, 132는 직선 편광자(130)의 투과축(131)을 제1 광학 이방성층(110)에 투영한 축이고, 133은 직선 편광자(130)의 투과축(131)을 제2 광학 이방성층(120)에 투영한 축이다. 각도(θA1)는, 직선 편광자(130)의 투과축(131)에 대하여 제1 광학 이방성층(110)의 지상축(111)이 시계 방향으로 이루는 각도이다. 각도(θB1)는, 직선 편광자(130)의 투과축(131)에 대하여 제2 광학 이방성층(120)의 지상축(121)이 시계 방향으로 이루는 각도이다.

본 실시형태의 원 편광판(500)에 있어서, 직선 편광자(130)의 투과축(131)과, 제1 광학 이방성층(110)의 지상축(111)이 이루는 각도(θA1)는 45°에 가까운 것이 바람직하다. 각도(θA1)는, 구체적으로는, 바람직하게는 45°±5°(즉, 바람직하게는 40°~50°), 보다 바람직하게는 45°±4°(즉, 보다 바람직하게는 41°~49°), 특히 바람직하게는 45°±3°(즉, 특히 바람직하게는 42°~48°)이다.

한편, 여기서는 직선 편광자(130)의 투과축(131)에 대하여 제1 광학 이방성층(110)의 지상축(111)이 시계 방향으로 상기의 각도(θA1)를 이루는 예를 나타내었으나, 직선 편광자(130)의 투과축(131)에 대하여 제1 광학 이방성층(110)의 지상축(111)이 상기의 각도(θA1)를 이루는 방향은, 시계 방향이어도 되고, 반시계 방향이어도 된다. 또한, 직선 편광자(130)의 투과축(131)에 대하여 제2 광학 이방성층(120)의 지상축(121)이 상기의 각도(θB1)를 이루는 방향은, 시계 방향이어도 되고, 반시계 방향이어도 된다.

또는, 원 편광판(500)에 있어서, 직선 편광자(130)의 흡수축(도시 생략)과, 제1 광학 이방성층(110)의 지상축(111)이 이루는 각은 45°에 가까운 것이 바람직하다. 직선 편광자(130)의 흡수축과 제1 광학 이방성층(110)의 지상축(111)이 이루는 각은, 구체적으로는, 바람직하게는 45°±5°(즉, 바람직하게는 40°~50°), 보다 바람직하게는 45°±4°(즉, 보다 바람직하게는 41°~49°), 특히 바람직하게는 45°±3°(즉, 특히 바람직하게는 42°~48°)이다. 직선 편광자(130)의 흡수축에 대하여 제1 광학 이방성층(110)의 지상축(111)이 상기의 각을 이루는 방향은, 시계 방향이어도 되고, 반시계 방향이어도 된다.

직선 편광자(130)로는, 임의의 직선 편광자를 사용할 수 있다. 직선 편광자의 예로는, 폴리비닐알코올 필름에 요오드 또는 이색성 염료를 흡착시킨 후, 붕산욕 중에서 일방향 연신함으로써 얻어지는 필름; 폴리비닐알코올 필름에 요오드 또는 이색성 염료를 흡착시켜 연신하고 또한 분자쇄 중의 폴리비닐알코올 단위의 일부를 폴리비닐렌 단위로 변성함으로써 얻어지는 필름;을 들 수 있다. 또한, 직선 편광자의 다른 예로는, 그리드 편광자, 다층 편광자 등의, 편광을 반사광과 투과광으로 분리하는 기능을 갖는 편광자를 들 수 있다. 이들 중, 직선 편광자(130)로는, 폴리비닐알코올을 함유하는 편광자가 바람직하다.

직선 편광자(130)에 자연광을 입사시키면, 일방의 편광만이 투과한다. 이 직선 편광자(130)의 편광도는 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 98% 이상, 보다 바람직하게는 99% 이상이다.

또한, 직선 편광자(130)의 두께는, 바람직하게는 5 μm~80 μm이다.

원 편광판은, 또한, 직선 편광자와 광학 이방성 적층체를 첩합하기 위한 접착층을 구비하고 있어도 된다. 접착층으로는, 점착성의 접착제로 이루어지는 점착층을 사용해도 되고, 경화성 접착제를 경화시켜 이루어지는 층을 사용해도 된다. 경화성 접착제로는, 열경화성 접착제를 사용해도 되지만, 광경화성 접착제를 사용하는 것이 바람직하다. 광경화성 접착제로는, 중합체 또는 반응성의 단량체를 포함한 것을 사용할 수 있다. 또한, 접착제는, 필요에 따라 용매, 광중합 개시제, 그 밖의 첨가제 등을 포함할 수 있다.

광경화성 접착제는, 가시광선, 자외선, 적외선 등의 광을 조사하면 경화될 수 있는 접착제이다. 그 중에서도, 조작이 간편한 점에서, 자외선으로 경화될 수 있는 접착제가 바람직하다.

접착층의 두께는, 바람직하게는 0.5 μm 이상, 보다 바람직하게는 1 μm 이상이고, 바람직하게는 30 μm 이하, 보다 바람직하게는 20 μm 이하, 더욱 바람직하게는 10 μm 이하이다. 접착층의 두께를 상기 범위 내로 함으로써, 광학 이방성층의 광학적 성질을 손상시키지 않고, 양호한 접착을 달성할 수 있다.

상술한 원 편광판은, 임의의 층을 더 포함할 수 있다. 임의의 층으로는, 예를 들어, 편광자 보호 필름층, 내충격성 폴리메타크릴레이트 수지층 등의 하드 코트층, 필름의 미끄러짐성을 좋게 하는 매트층, 반사 억제층, 방오층, 대전 억제층 등을 들 수 있다. 이들 임의의 층은, 1층만을 형성해도 되고, 2층 이상을 형성해도 된다.

[3. 화상 표시 장치]

본 실시형태의 원 편광판은 화상 표시 장치에 사용할 수 있다. 본 실시형태의 화상 표시 장치는, 본 실시형태의 원 편광판과, 유기 일렉트로루미네센스 소자(이하, 적당히 「유기 EL 소자」라고 하는 경우가 있다.)를 구비한다. 이 화상 표시 장치는, 통상, 직선 편광자, 광학 이방성 적층체 및 유기 EL 소자를 이 순서로 구비한다.

또한, 화상 표시 장치는, 직선 편광자, 제1 광학 이방성층, 제2 광학 이방성층 및 유기 EL 소자를 이 순서로 구비할 수 있다.

유기 EL 소자는, 투명 전극층, 발광층 및 전극층을 이 순서로 구비하고, 투명 전극층 및 전극층으로부터 전압이 인가됨으로써 발광층이 광을 발생할 수 있다. 유기 발광층을 구성하는 재료의 예로는, 폴리파라페닐렌비닐렌계, 폴리플루오렌계, 및 폴리비닐카르바졸계의 재료를 들 수 있다. 또한, 발광층은, 복수의 발광색이 다른 층의 적층체, 혹은 어느 색소의 층에 다른 색소가 도핑된 혼합층을 갖고 있어도 된다. 또한, 유기 EL 소자는, 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 주입층, 전자 수송층, 등전위면 형성층, 전하 발생층 등의 기능층을 구비하고 있어도 된다.

상기의 화상 표시 장치는, 표시면에 있어서의 외광의 반사를 억제할 수 있다. 구체적으로는, 장치 외부로부터 입사한 광은, 그 일부의 직선 편광만이 직선 편광자를 통과하고, 다음으로 그것이 광학 이방성 적층체를 통과함으로써, 원 편광이 된다. 원 편광은, 표시 장치 내의 광을 반사하는 구성 요소(유기 EL 소자 중의 반사 전극(도시 생략) 등)에 의해 반사되어, 다시 광학 이방성 적층체를 통과함으로써, 입사한 직선 편광의 진동 방향과 직교하는 진동 방향을 갖는 직선 편광이 되어, 직선 편광자를 통과하지 않게 된다. 여기서, 직선 편광의 진동 방향이란, 직선 편광의 전기장의 진동 방향을 의미한다. 이에 의해, 반사 억제의 기능이 달성된다.

또한, 화상 표시 장치는, 광학 이방성 적층체가 소정의 광학 특성을 가지므로, 상기의 반사 억제의 기능을, 표시면의 정면 방향뿐만 아니라, 경사 방향에 있어서도 발휘할 수 있다. 그리고, 이에 의해, 반사광에 의한 표시면의 착색을 억제할 수 있다. 따라서, 화상 표시 장치는, 표시면의 정면 방향 및 경사 방향의 양방에 있어서, 외광의 반사를 효과적으로 억제하여, 착색을 억제하는 것이 가능하다.

상기의 착색의 정도는, 표시면을 경사 방향에서 관찰하여 측정되는 색도와, 반사가 없는 흑색의 표시면의 색도의 색차 ΔE^*ab에 의해 평가할 수 있다. 상기의 색도는, 표시면에서 반사된 광의 스펙트럼을 측정하고, 이 스펙트럼으로부터, 인간의 눈에 대응하는 분광 감도(등색 함수)를 곱하여 3자극치 X, Y 및 Z를 구하고, 색도(a^*,b^*,L^*)를 산출함으로써 구할 수 있다. 또한, 상기의 색차 ΔE^*ab는, 외광에 의해 표시면이 비춰지고 있지 않은 경우의 색도(a0^*,b0^*,L0^*), 및 외광에 의해 비춰지고 있는 경우의 색도(a1^*,b1^*,L1^*)로부터, 하기의 식(X)으로부터 구할 수 있다.

[수학식 1]

또한, 일반적으로, 반사광에 의한 표시면의 착색은, 관찰 방향의 방위각에 따라 다를 수 있다. 그 때문에, 표시면의 경사 방향에서 관찰한 경우, 관찰 방향의 방위각에 따라, 측정되는 색도는 다를 수 있으므로, 색차 ΔE^*ab도 다를 수 있다. 이에, 상기와 같이 표시면의 경사 방향에서 관찰하였을 때의 착색의 정도를 평가하는 경우에는, 복수의 방위각 방향에서 관찰하여 얻어지는 색차 ΔE^*ab의 평균값에 의해, 착색의 평가를 행하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 방위각 방향으로 5° 단위로, 방위각(φ)(도 3 참조.)이 0° 이상 360° 미만인 범위에서, 색차 ΔE^*ab의 측정을 행하고, 측정된 색차 ΔE^*ab의 평균값(평균 색차)에 의해, 착색의 정도를 평가한다. 상기의 평균 색차가 작을수록, 표시면의 경사 방향에서 관찰한 경우의 표시면의 착색이 작은 것을 나타낸다.

[실시형태 2]

이하, 본 발명의 실시형태 2에 따른 광학 이방성 적층체를 구비하는 원 편광판 및, 당해 원 편광판을 구비하는 화상 표시 장치에 대하여 도 2를 참조하면서 설명한다. 도 2는, 실시형태 2에 따른 원 편광판(600)을 모식적으로 나타내는 분해 사시도이다.

본 실시형태의 광학 이방성 적층체(200)는, 제2 광학 이방성층(120) 및 제1 광학 이방성층(110)의 배치가 실시형태 1과 상이한 것 이외에는, 실시형태 1과 동일하게 형성되어 있다. 이하에 있어서, 실시형태 1과 동일한 구성에 대해서는, 동일한 부호를 붙이고, 중복된 설명은 생략한다.

본 실시형태의 원 편광판(600)은, 도 2에 나타내는 바와 같이, 직선 편광자(130)와, 본 실시형태의 광학 이방성 적층체(200)를 구비한다. 본 실시형태의 원 편광판(600)은, 도 2에 나타내는 바와 같이, 직선 편광자(130), 상기 제2 광학 이방성층(120) 및 제1 광학 이방성층(110)을 이 순서로 구비한다.

도 2에 있어서, 132는 직선 편광자의 투과축을 제1 광학 이방성층(110)에 투영한 축이고, 133은 직선 편광자의 투과축을 제2 광학 이방성층(120)에 투영한 축이다. 각도(θA2)는, 직선 편광자(130)의 투과축(131)에 대하여 제1 광학 이방성층(110)의 지상축(111)이 시계 방향으로 이루는 각도이다. 각도(θB2)는, 직선 편광자(130)의 투과축(131)에 대하여 제2 광학 이방성층(120)의 지상축(121)이 시계 방향으로 이루는 각도이다. 각도(θA2) 및 각도(θB2)는, 각각, 실시형태 1에서 설명한 각도(θA1) 및 각도(θB1)와 동일한 범위에 있는 것이 바람직하다.

본 실시형태의 원 편광판은 화상 표시 장치에 사용할 수 있다. 화상 표시 장치는, 통상, 직선 편광자, 광학 이방성 적층체 및 유기 EL 소자를 이 순서로 구비한다. 따라서, 본 실시형태의 원 편광판을 구비하는 화상 표시 장치는, 직선 편광자, 제2 광학 이방성층, 제1 광학 이방성층 및 유기 EL 소자를 이 순서로 구비할 수 있다.

본 실시형태에 있어서도, 광학 이방성 적층체(200)는, 상기 식(1)~식(4)을 만족하는 광학 특성을 갖고, 또한, 제1 광학 이방성층(110)의 지상축(111)과 제2 광학 이방성층(120)의 지상축(121)이 이루는 각도가 85°~95°이다. 따라서, 이러한 광학 이방성 적층체(200)를 직선 편광자(130)와 조합하여 얻어지는 원 편광판(600)을 화상 표시 장치에 설치함으로써, 그 화상 표시 장치의 표시면을 경사 방향에서 본 경우에 외광의 반사를 억제하여, 착색을 효과적으로 억제할 수 있다.

[실시예]

이하, 실시예를 나타내어 본 발명에 대하여 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이하에 나타내는 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 청구범위 및 그 균등한 범위를 일탈하지 않는 범위에 있어서 임의로 변경하여 실시할 수 있다.

이하의 설명에 있어서, 양을 나타내는 「%」 및 「부」는, 별도로 언급하지 않는 한, 중량 기준이다. 또한, 이하에 설명하는 조작은, 별도로 언급하지 않는 한, 상온 및 상압의 조건에 있어서 행하였다.

[평가 방법]

(위상차 및 NZ 계수의 측정 방법)

위상차계(Axometrics사 제조 「AxoScan」)를 사용하여, 평가 대상(제1 광학 이방성층, 제2 광학 이방성층, 광학 이방성 적층체)의 폭 방향으로 50 mm 간격의 복수의 지점에서, 위상차를 측정하였다. 이들 지점에서의 측정값의 평균값을 계산하고, 이 평균값을, 당해 측정 대상의 위상차로 하였다.

제1 광학 이방성층에 대해서는, 파장 450 nm, 파장 550 nm, 파장 590 nm, 및 파장 650 nm에서의 면내 위상차 Re1(450), Re1(550), Re1(590), Re1(650), 파장 590 nm에서의 두께 방향의 위상차 Rth1(590), 그리고, 지상축 방향을 측정하였다. 또한, 제2 광학 이방성층에 대해서는, 파장 450 nm, 파장 550 nm, 파장 590 nm, 및 파장 650 nm에서의 면내 위상차 Re2(450), Re2(550), Re2(590), Re2(650), 파장 590 nm에서의 두께 방향의 위상차 Rth2(590), 그리고, 지상축 방향을 측정하였다. 얻어진 면내 위상차를 이용하여, Re1(450)/Re1(550) 및 Re2(450)/Re2(550)를 산출하였다. 또한, 얻어진 면내 위상차 및 두께 방향의 위상차의 비율로부터, NZ 계수(NZ1, NZ2)를 산출하였다.

또한, 광학 이방성 적층체의, 파장 450 nm, 파장 550 nm, 및 파장 650 nm에서의 면내 위상차 Re(450), Re(550), Re(650)는, 제1 광학 이방성층 및 제2 광학 이방성층의 광학 특성값으로부터 계산에 의해 구하였다.

(시뮬레이션에 의한 색차의 계산 방법)

시뮬레이션용의 소프트웨어로서 신테크사 제조 「LCD Master」를 사용하여, 각 실시예 및 비교예에서 제조된 원 편광판을 모델화하고, 하기의 계산을 행하였다.

시뮬레이션용의 모델에서는, 평면상의 반사면을 갖는 미러의 상기 반사면에, 제2 광학 이방성층, 제1 광학 이방성층 및 편광 필름을 상기 반사면측으로부터 이 순서로 갖는 원 편광판을 설치한 구성을 설정하였다. 제1 광학 이방성층 및 제2 광학 이방성층으로는, 각 실시예 및 비교예에서 사용한 것을 설정하였다. 또한, 편광 필름으로는, 일반적으로 사용되고 있는 편광도 99.99%의 편광판을 설정하였다. 또한, 미러로서, 입사한 광을 반사율 100%로 경면 반사할 수 있는 이상 미러를 설정하였다.

도 3은, 실시예 및 비교예에서의 시뮬레이션에 있어서, 색 공간 좌표의 계산을 행할 때에 설정한 평가 모델의 모습을 모식적으로 나타내는 사시도이다.

도 3에 나타내는 바와 같이, D65 광원(도시 생략.)에 의해 비춰졌을 때에, 원 편광판이 설치된 미러의 반사면(10)에서 관찰되는 색 공간 좌표를 계산하였다. 또한, 광원에 의해 비춰지고 있지 않을 때의 색 공간 좌표를 a0^* = 0, b0^* = 0, L0^* = 0으로 하였다. 그리고, (i) 광원으로 비춰졌을 때의 색 공간 좌표와, (ii) 광원으로 비춰지고 있지 않을 때의 색 공간 좌표로부터, 전술한 식(X)을 이용하여, 색차 ΔE^*ab를 구하였다.

상기의 색차 ΔE^*ab의 계산을, 반사면(10)에 대한 편각(ρ)이 0°인 관찰 방향(20)에서 행하여, 정면 방향에서의 색차 ΔE^*ab를 구하였다. 편각(ρ)이란, 반사면(10)의 법선 방향(11)에 대하여 이루는 각을 나타낸다.

또한, 상기의 색차 ΔE^*ab의 계산을, 반사면(10)에 대한 편각(ρ)이 60°인 관찰 방향(20)에서 행하였다. 이 편각(ρ) = 60°에서의 계산은, 관찰 방향(20)을 방위각 방향으로, 방위각(φ)을 0° 이상 360° 미만의 범위에서 5° 단위로 이동시켜, 복수 행하였다. 방위각(φ)이란, 반사면(10)과 평행한 방향이, 반사면(10)과 평행한 어느 기준 방향(12)에 대하여 이루는 각을 나타낸다. 그리고, 계산된 복수의 관찰 방향(20)에서의 색차 ΔE^*ab의 평균을 계산하여, 편각(ρ) = 60°의 경사 방향에서의 색차 ΔE^*ab를 얻었다.

(정면 방향에 있어서의 목시에 의한 원 편광판의 평가 방법)

미러를 구비하는 화상 표시 장치로서, Apple사의 「AppleWatch」(등록상표)를 준비하였다. 이 화상 표시 장치의 미러에 첩합되어 있던 편광판을 박리하여, 미러를 노출시켰다. 그 미러의 표면과, 평가 대상의 원 편광판의 제2 광학 이방성층의 면을 점착층(닛토덴코 제조 「CS9621」)을 개재하여 첩합하였다.

맑은 날에 일광으로 원 편광판을 비춘 상태에서, 미러 상의 원 편광판을 목시로 관찰하였다. 관찰은, 원 편광판의 편각 0°, 방위각 0°의 정면 방향에서 행하였다. 관찰의 결과, 유채색이 시인된 경우에 「B」라고 판정하고, 유채색이 시인되지 않은 경우에 「A」라고 판정하였다.

(경사 방향에 있어서의 목시에 의한 원 편광판의 평가 방법)

맑은 날에 일광으로 원 편광판을 비춘 상태에서, 미러 상의 원 편광판을 목시로 관찰하였다. 관찰은, 원 편광판의 편각 60°, 방위각 0°~360°의 경사 방향에서 행하였다. 관찰의 결과, 반사 휘도 및 착색의 우열을 종합적으로 판정하여, 실시예 및 비교예에 순위를 매겼다. 그리고, 순위가 매겨진 실시예 및 비교예에, 그 순위에 상당하는 점수(1위 8점, 2위 7점, 3위 6점, 4위 5점, 5위 4점, 6위 3점, 7위 2점, 8위 1점)를 부여하였다.

상기의 관찰을 많은 인원수가 행하고, 각 실시예 및 비교예에 대하여, 부여된 점수의 합계점을 구하였다. 실시예 및 비교예를 상기의 합계점의 순서로 나열하고, 그 합계점의 레인지를 5등분하여, 상위 그룹부터 A, B, C, D 및 E의 순서로 평가하였다.

[제조예]

[제조예 1: 편광 필름(직선 편광자)의 제조]

요오드로 염색한, 폴리비닐알코올 수지제의 장척의 연신 전 필름을 준비하였다. 이 연신 전 필름을, 당해 연신 전 필름의 폭 방향에 대하여 90°의 각도를 이루는 길이 방향으로 연신하여, 장척의 편광 필름을 얻었다. 이 편광 필름은, 당해 편광 필름의 길이 방향에 흡수축을 갖고, 당해 편광 필름의 폭 방향에 투과축을 갖고 있었다.

[제조예 2-1: λ/2판 A의 제조]

고리형 올레핀 중합체를 용융 압출법으로 필름상으로 성형하여 얻어진 장척의 고리형 올레핀 수지 필름(니폰 제온사 제조 「제오노아 필름」, 유리 전이 온도 126℃)을, 제1 수지 필름(연신 전 필름)으로서 준비하였다. 당해 제1 수지 필름을 형성하는 고리형 올레핀 수지는 플러스의 고유 복굴절값을 갖는 수지이다.

이 고리형 올레핀 수지 필름에 대하여, 당해 고리형 올레핀 수지 필름의 폭 방향으로의 연신 처리를 실시하여, 장척의 λ/2판을 얻었다. 상기의 폭 방향으로의 연신 처리는, 연신 온도 120℃~150℃, 연신 배율 2.0배~5.0배의 범위에 있어서, 하기 표 1의 실시예 1의 제1 광학 이방성층의 란에 기재된 물성값(Re1, Rth1)의 λ/2판이 얻어지도록 설정하였다. 이와 같이 하여 장척의 λ/2판 A를 얻었다. 이 λ/2판 A의 막두께는 50 μm였다. 이 λ/2판 A에 대하여, 면내 위상차 및 두께 방향의 위상차의 측정을 상기 방법에 의해 행하였다. 측정된 Re1(590)은 280 nm, Rth1(590)은 168 nm, nx1은 1.5339, ny1은 1.5283, nz1은 1.5278이었다. 이 결과로부터 nx1, ny1, 및 nz1의 관계는, nx1 > ny1 > nz1로, 식(1)을 만족하고 있었다.

[제조예 2-2: λ/2판 B의 제조]

고리형 올레핀 중합체를 용융 압출법으로 필름상으로 성형하여 얻어진 장척의 고리형 올레핀 수지 필름(니폰 제온사 제조 「제오노아 필름」, 유리 전이 온도 126℃)을, 연신 전 필름으로서 준비하였다. 당해 연신 전 필름을 형성하는 고리형 올레핀 수지는 플러스의 고유 복굴절값을 갖는 수지이다.

이 고리형 올레핀 수지 필름에 대하여, 당해 고리형 올레핀 수지 필름의 폭 방향으로의 연신 처리를 실시하여, 장척의 λ/2판을 얻었다. 상기의 폭 방향으로의 연신 처리는, 연신 온도 120℃~150℃, 연신 배율 2.0배~5.0배의 범위에 있어서, 하기 표 2의 비교예 2의 제1 광학 이방성층의 란에 기재된 물성값(Re1, Rth1)의 λ/2판이 얻어지도록 설정하였다. 이와 같이 하여 장척의 λ/2판 B를 얻었다. 이 λ/2판 B의 막두께는 50 μm였다. 이 λ/2판 B에 대하여, 면내 위상차 및 두께 방향의 위상차의 측정을 상기 방법에 의해 행하였다. 측정된 Re1(590)은 280 nm, Rth1(590)은 190 nm, nx1은 1.5341, ny1은 1.5285, nz1은 1.5275였다. 이 결과로부터 nx1, ny1, 및 nz1의 관계는, nx1 > ny1 > nz1로, 식(1)을 만족하고 있었다.

[제조예 3-1: λ/4판 A~E(실시예 1~4 및 비교예 3의 제2 광학 이방성층)의 제조]

(3-1-1: 제2 수지 필름(연신 전 필름)의 제조)

마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지로서, 스티렌-말레산 공중합체 수지(노바·케미컬사 제조 「Daylark D332」, 유리 전이 온도 130℃, 올리고머 성분 함유량 3 중량%)를 준비하였다.

보호층용의 아크릴 수지로서, 스미토모 화학사 제조 「스미펙스 HT-55X」(유리 전이 온도 105℃)를 준비하였다.

접착제로서, 변성된 에틸렌-아세트산비닐 공중합체(미츠비시 화학사 제조 「모딕 AP A543」, 비카트 연화점 80℃)를 준비하였다.

준비한 스티렌-말레산 공중합체 수지, 아크릴 수지 및 접착제를 공압출하여, 아크릴 수지의 층, 접착제의 층, 스티렌-말레산 공중합체 수지의 층, 접착제의 층 및 아크릴 수지의 층을 이 순서로 구비하는 장척의 제2 수지 필름을 얻었다.

(3-1-2: λ/4판의 제조)

(3-1-1)에서 제조한 제2 수지 필름에 대하여, 당해 제2 수지 필름의 폭 방향 및 길이 방향으로의 연신 처리(이방향 연신 처리)를 실시하여, 장척의 λ/4판을 얻었다. 상기의 이방향 연신 처리의 조건은, 하기 표 1의 실시예 1~4 및 비교예 3의 제2 광학 이방성층의 란에 기재된 물성값(Re2, Rth2)의 λ/4판이 얻어지도록 설정하였다. 구체적으로는, 각 예에서 사용하는 λ/4판이 얻어지도록 필름 폭 방향으로의 연신 처리의 조건을, 연신 온도 110℃~140℃, 연신 배율 1.5~4.0의 범위에서 설정하고, 필름 길이 방향으로의 연신 처리의 조건을, 연신 온도 110℃~140℃, 연신 배율 1.5~4.0의 범위에서 설정하였다. 이와 같이 하여 λ/4판 A~E를 얻었다. 얻어진 λ/4판 A~E의 막두께는, 각각 40 μm였다.

얻어진 λ/4판 A~E에 대하여, 각각, 면내 위상차 및 두께 방향의 위상차의 측정을 상기 방법에 의해 행하였다. 각 λ/4판의, 아크릴 수지의 층 및 접착제의 층에는, 위상차가 발현하지 않았다.

λ/4판 A의 측정 결과는, Re2(590)는 147 nm, Rth2(590)는 -132 nm, nx2는 1.5582, ny2는 1.5545, nz2는 1.5597이었다.

λ/4판 B의 측정 결과는, Re2(590)는 147 nm, Rth2(590)는 -162 nm, nx2는 1.5580, ny2는 1.5543, nz2는 1.5602였다.

λ/4판 C의 측정 결과는, Re2(590)는 147 nm, Rth2(590)는 -191 nm, nx2는 1.5577, ny2는 1.5540, nz2는 1.5607이었다.

λ/4판 D의 측정 결과는, Re2(590)는 147 nm, Rth2(590)는 -220 nm, nx2는 1.5575, ny2는 1.5538, nz2는 1.5611이었다.

λ/4판 E의 측정 결과는, Re2(590)는 147 nm, Rth2(590)는 -162 nm, nx2는 1.5580, ny2는 1.5543, nz2는 1.5602였다.

이들 결과로부터, λ/4판 A~E 모두, nx2, ny2, 및 nz2의 관계는, nz2 > nx2 > ny2로, 식(2)을 만족하고 있었다.

[제조예 3-2: λ/4판 F의 제조]

제조예 3-1의 (3-1-1)에서 제조한 연신 전 필름을 사용하여, 이하의 방법에 의해 λ/4판 F를 제조하였다.

연신 전 필름에 대하여, 당해 연신 전 필름의 폭 방향으로의 연신 처리를 실시하여, 장척의 λ/4판 F를 얻었다. 상기의 폭 방향으로의 연신 처리는, 연신 온도 110℃~140℃, 연신 배율 1.5배~4.0배의 범위에 있어서, 하기 표 2의 비교예 1의 제2 광학 이방성층의 란에 기재된 물성값(Re2, Rth2)의 λ/4판이 얻어지도록 설정하였다. 이와 같이 하여 장척의 λ/4판 F를 얻었다. λ/4판 F의 막두께는 40 μm였다.

λ/4판 F에 대하여, 면내 위상차 및 두께 방향의 위상차의 측정을 상기 방법에 의해 행하였다. 얻어진 λ/4판의 아크릴 수지의 층 및 접착제의 층에는, 위상차가 발현하지 않았다. 측정된 Re2(590)는 147 nm, Rth2(590)는 -88 nm, nx2는 1.5586, ny2는 1.5549, nz2는 1.5589였다. 이 결과로부터, nx2, ny2, 및 nz2의 관계는, nz2 > nx2 > ny2였다.

[실시예 1]

장척의 편광 필름, 장척의 λ/2판 A 및 장척의 λ/4판 A를 각각 잘라내어, 매엽의 편광 필름, 매엽의 λ/2판 A 및 매엽의 λ/4판 A를 얻었다. 이들 매엽의 편광 필름, 매엽의 λ/2판 A 및 매엽의 λ/4판 A를, 점착제(닛토덴코사 제조 「CS9621」)를 사용해 첩합하여, 편광 필름, 점착층, λ/2판 A(제1 광학 이방성층), 점착층 및 λ/4판 A(제2 광학 이방성층)를 이 순서로 구비하는 원 편광판을 얻었다. 이 원 편광판은 실시형태 1에 대응하는 양태이다(도 1을 참조). 이 원 편광판에 있어서, λ/2판 A가 제1 광학 이방성층이고, λ/4판 A가 제2 광학 이방성층이다. 상기의 첩합은, 편광 필름측에서 보았을 때, 편광 필름의 투과축에 대하여 λ/2판 A의 지상축이 시계 방향으로 이루는 각도(θA1)가 45°, 및 편광 필름의 투과축에 대하여 λ/4판 A의 지상축이 시계 방향으로 이루는 각도(θB1)가 135°로 되도록 행하였다. 얻어진 원 편광판을, 상기의 방법으로 평가하였다.

본 예의 원 편광판에 포함되는 광학 이방성 적층체의, Re(450), Re(550) 및 Re(650)는, 하기 식(3)을 만족하는 것이었다.

Re(450) < Re(550) < Re(650) 식(3)

또한, 광학 이방성 적층체에 있어서, 제1 광학 이방성층은 하기 식(1)을 만족하고, 제2 광학 이방성층은 하기 식(2)을 만족하고, NZ1과 NZ2의 합은 0.7이었다.

nx1 > ny1 ≥ nz1 식(1)

nz2 > nx2 > ny2 식(2)

[실시예 2]

장척의 λ/4판 A를 장척의 λ/4판 B로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 조작을 행하여, 편광 필름, 점착층, λ/2판 A, 점착층 및 λ/4판 B를 이 순서로 구비하는 원 편광판을 얻었다. 이 원 편광판에 있어서, λ/2판 A가 제1 광학 이방성층이고, λ/4판 B가 제2 광학 이방성층이다. 얻어진 원 편광판을 상기의 방법에 의해 평가하였다. 이 원 편광판에 포함되는 광학 이방성 적층체의, Re(450), Re(550) 및 Re(650)는, 상기 식(3)을 만족하는 것이었다. 또한, 광학 이방성 적층체에 있어서, 제1 광학 이방성층은 상기 식(1)을 만족하고, 제2 광학 이방성층은 상기 식(2)을 만족하고, NZ1과 NZ2의 합은 0.5였다.

[실시예 3]

장척의 λ/4판 A를 장척의 λ/4판 C로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 조작을 행하여, 편광 필름, 점착층, λ/2판 A, 점착층 및 λ/4판 C를 이 순서로 구비하는 원 편광판을 얻었다. 이 원 편광판에 있어서, λ/2판 A가 제1 광학 이방성층이고, λ/4판 C가 제2 광학 이방성층이다. 얻어진 원 편광판을 상기의 방법에 의해 평가하였다. 이 원 편광판에 포함되는 광학 이방성 적층체의, Re(450), Re(550) 및 Re(650)는, 상기 식(3)을 만족하는 것이었다. 또한, 광학 이방성 적층체에 있어서, 제1 광학 이방성층은 상기 식(1)을 만족하고, 제2 광학 이방성층은 상기 식(2)을 만족하고, NZ1과 NZ2의 합은 0.3이었다.

[실시예 4]

장척의 λ/4판 A를 장척의 λ/4판 D로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 조작을 행하여, 편광 필름, 점착층, λ/2판 A, 점착층 및 λ/4판 D를 이 순서로 구비하는 원 편광판을 얻었다. 이 원 편광판에 있어서, λ/2판 A가 제1 광학 이방성층이고, λ/4판 D가 제2 광학 이방성층이다. 얻어진 원 편광판을 상기의 방법에 의해 평가하였다. 이 원 편광판에 포함되는 광학 이방성 적층체의, Re(450), Re(550) 및 Re(650)는, 상기 식(3)을 만족하는 것이었다. 또한, 광학 이방성 적층체에 있어서, 제1 광학 이방성층은 상기 식(1)을 만족하고, 제2 광학 이방성층은 상기 식(2)을 만족하고, NZ1과 NZ2의 합은 0.1이었다.

[비교예 1]

장척의 λ/4판 A를 장척의 λ/4판 F로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 조작을 행하여, 편광 필름, 점착층, λ/2판 A, 점착층 및 λ/4판 F를 이 순서로 구비하는 원 편광판을 얻었다. 이 원 편광판에 있어서, λ/2판 A가 제1 광학 이방성층이고, λ/4판 F가 제2 광학 이방성층이다. 얻어진 원 편광판을 상기의 방법에 의해 평가하였다. 이 원 편광판에 포함되는 광학 이방성 적층체의, Re(450), Re(550) 및 Re(650)는, Re(450) < Re(550) < Re(650)로 상기 식(3)을 만족하는 것이었다. 광학 이방성 적층체에 있어서, 제1 광학 이방성층은 상기 식(1)을 만족하고, 제2 광학 이방성층은 상기 식(2)을 만족하고, NZ1과 NZ2의 합은 1.0이었다.

[비교예 2]

이하의 점을 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 조작을 행하여, 편광 필름, 점착층, λ/2판 B, 점착층 및 λ/4판 F를 이 순서로 구비하는 원 편광판을 얻었다. 이 원 편광판에 있어서, λ/2판 B가 제1 광학 이방성층이고, λ/4판 F가 제2 광학 이방성층이다. 얻어진 원 편광판을 상기의 방법에 의해 평가하였다. 또한, 이 원 편광판에 포함되는 광학 이방성 적층체의, Re(450), Re(550) 및 Re(650)는, Re(450) < Re(550) < Re(650)로 상기 식(3)을 만족하는 것이었다. 광학 이방성 적층체에 있어서, 제1 광학 이방성층은 상기 식(1)을 만족하고, 제2 광학 이방성층은 상기 식(2)을 만족하고, NZ1과 NZ2의 합은 1.08이었다.

(변경점)

·장척의 λ/2판 A를 장척의 λ/2판 B로 변경하였다.

·장척의 λ/4판 A를 장척의 λ/4판 F로 변경하였다.

·층의 첩합은, 편광 필름측에서 보았을 때, 편광 필름의 투과축에 대하여 λ/2판 B의 지상축이 시계 방향으로 이루는 각도(θA1)가 22.5°, 및 편광 필름의 투과축에 대하여 λ/4판 F의 지상축이 시계 방향으로 이루는 각도(θB1)가 90°로 되도록 행하였다.

[비교예 3]

이하의 점을 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 조작을 행하여, 편광 필름, 점착층, λ/2판 B, 점착층 및 λ/4판 E를 이 순서로 구비하는 원 편광판을 얻었다. 이 원 편광판에 있어서, λ/2판 B가 제1 광학 이방성층이고, λ/4판 E가 제2 광학 이방성층이다. 얻어진 원 편광판을 상기의 방법에 의해 평가하였다. 또한, 이 원 편광판에 포함되는 광학 이방성 적층체의, Re(450), Re(550) 및 Re(650)는, Re(450) < Re(550) < Re(650)로 상기 식(3)을 만족하는 것이었다. 또한, 광학 이방성 적층체에 있어서, 제1 광학 이방성층은 상기 식(1)을 만족하고, 제2 광학 이방성층은 상기 식(2)을 만족하고, NZ1과 NZ2의 합은 0.58이었다.

(변경점)

·장척의 λ/2판 A를 장척의 λ/2판 B로 변경하였다.

·장척의 λ/4판 A를 장척의 λ/4판 E로 변경하였다.

·층의 첩합은, 편광 필름측에서 보았을 때, 편광 필름의 투과축에 대하여 λ/2판 B의 지상축이 시계 방향으로 이루는 각도(θA1)가 22.5°, 및 편광 필름의 투과축에 대하여 λ/4판 E의 지상축이 시계 방향으로 이루는 각도(θB1)가 90°로 되도록 행하였다.

[비교예 4]

하기의 방법(일본 공개특허공보 2010-266723호의 실시예 1과 동일한 방법)으로 비교예 4의 원 편광판을 제조하였다.

(C4-1) 필름 C1(고유 복굴절값이 플러스인 수지를 포함하는 필름)의 제조

노르보르넨계 중합체(닛폰 제온사 제조, 「ZEONOR1420」, 유리 전이 온도: 136℃)로 이루어지는 제1 미연신 필름의 롤 권상체를 용융 압출 성형에 의해 얻었다. 이어서, 이 제1 미연신 필름의 롤 권상체를, 텐터 연신기(일본 공개특허공보 2010-266723호의 도 2 참조)를 사용하여, 연신 온도 147℃, 연신 배율 1.7배, 연신 속도 13 mm/분으로, 폭 방향에 대하여 45°의 방향으로 경사 연신을 행함으로써, 필름 C1의 롤 권상체를 얻었다. 얻어진 필름 C1은, Nz 계수(NZ1)가 1.1, Re1(590)이 66 nm, 폭 방향에 대하여 지상축이 이루는 각도는 44.8°이고, 그 두께가 120 μm였다.

(C4-2) 필름 C2(고유 복굴절값이 마이너스인 수지를 포함하는 필름)의 제조

수평균 입경 0.4 μm의 탄성체 입자를 포함하는 폴리메틸메타크릴레이트 수지로 이루어지는 a층과, 스티렌-말레산 공중합체(노바·케미컬사 제조, 상품명 「Daylark D332」, 유리 전이 온도: 130℃, 올리고머 성분 함유량: 3 중량%)로 이루어지는 b층을, a층(30 μm)-b층(30 μm)-a층(30 μm)의 순서로 구비하는 미연신 적층체의 롤 권상체(제2 미연신 필름의 롤 권상체)를 공압출 성형에 의해 얻었다. 이어서, 이 롤 권상체로부터 미연신 적층체를 인출하고, (C4-1)과 동일한 텐터 연신기를 사용하여, 연신 온도 138℃, 연신 배율 1.7배, 연신 속도 8 mm/min으로 폭 방향에 대하여 45° 방향으로의 경사 연신을 행함으로써, 필름 C2의 롤 권상체를 얻었다. 얻어진 필름 C2는, Nz 계수(NZ2)가 -0.1, Re2(590)가 66 nm, 폭 방향에 대하여 지상축이 이루는 각도는 -45.2°이고, 그 두께가 130 μm였다.

(C4-3) 광학 이방성 적층체의 제조

(C4-1)에서 얻어진 필름 C1과, (C4-2)에서 얻어진 필름 C2를, 각각 인출하여, 면내 지상축이 서로 평행이 되도록, 적층 장치(일본 공개특허공보 2010-266723호의 도 3 참조)를 사용해 롤투롤법에 의해 적층하여, 광학 이방성 적층체 C3의 롤 권상체를 얻었다.

(C4-4) 원 편광판의 제조

(C4-3)에서 얻어진 광학 이방성 적층체 C3과, 편광 필름(산리츠사 제조, HLC2-5618S, 두께 180 μm)을, 적층 장치(일본 공개특허공보 2010-266723호의 도 4 참조)를 사용해 롤투롤법에 의해 적층하여, 원 편광 필름을 제조하고, 이것을 소정의 크기로 재단하여, 원 편광판을 얻었다.

얻어진 원 편광판을, 실시예 1과 동일하게, 상기의 평가 방법으로 평가하였다. 본 예의 원 편광판에 포함되는 광학 이방성 적층체의, Re(450), Re(550) 및 Re(650)의 관계는, Re(450) > Re(550) > Re(650)로, 식(3)을 만족하지 않았다. 또한, 광학 이방성 적층체에 있어서, 제1 광학 이방성층은 하기 식(1)을 만족하고, 제2 광학 이방성층은 하기 식(2)을 만족하고, NZ1과 NZ2의 합은 1.0이었다.

[결과]

실시예 및 비교예의 결과를, 하기의 표 1 및 표 2에 나타낸다. 표 1 및 표 2에 있어서, 약칭의 의미는, 하기와 같다.

COP: 고리형 올레핀 수지

PSt: 스티렌-말레산 공중합체 수지

Re1(590): 측정 파장 590 nm에서의 λ/2판(제1 광학 이방성층)의 면내 위상차.

Re1(550): 측정 파장 550 nm에서의 λ/2판(제1 광학 이방성층)의 면내 위상차.

Re1(450): 측정 파장 450 nm에서의 λ/2판(제1 광학 이방성층)의 면내 위상차.

Rth1(590): 측정 파장 590 nm에서의 λ/2판(제1 광학 이방성층)의 두께 방향의 위상차.

θA1: 편광 필름측에서 보았을 때, 편광 필름의 투과축에 대하여 λ/2판(제1 광학 이방성층)의 지상축이 시계 방향으로 이루는 각도.

NZ1: λ/2판(제1 광학 이방성층)의 NZ 계수.

Re2(590): 측정 파장 590 nm에서의 λ/4판(제2 광학 이방성층)의 면내 위상차.

Re2(550): 측정 파장 550 nm에서의 λ/4판(제2 광학 이방성층)의 면내 위상차.

Re2(450): 측정 파장 450 nm에서의 λ/4판(제2 광학 이방성층)의 면내 위상차.

Rth2(590): 측정 파장 590 nm에서의 λ/4판(제2 광학 이방성층)의 두께 방향의 위상차.

θB1: 편광 필름측에서 보았을 때, 편광 필름의 투과축에 대하여 λ/4판(제2 광학 이방성층)의 지상축이 시계 방향으로 이루는 각도.

NZ2: λ/4판(제2 광학 이방성층)의 NZ 계수.

지상축이 이루는 각: 제1 광학 이방성층의 지상축과 제2 광학 이방성층의 지상축이 이루는 각.

ΔE^*ab(정면 방향): 편각(ρ) = 0°에서 관찰하였을 때의 색차.

목시(정면 방향): 편각(ρ) = 0°에서 목시 관찰하였을 때의 색차.

ΔE^*ab(경사 방향): 편각(ρ) = 60°에서 관찰하였을 때의 색차의 평균.

목시(경사 방향): 편각(ρ) = 60°에서 목시 관찰하였을 때의 색차.

*1: 본 예와 같이, 제1 광학 이방성층의 지상축과 제2 광학 이방성층의 지상축이 직교하지 않는 경우, 측정 장치에 따라 Re1과 Re2의 차가 상이한 경우가 있으나, 다른 예와 마찬가지로, 위상차계(Axometrics사 제조 「AxoScan」)로 측정한 Re1(550)과 Re2(550)의 차를 기재하였다.

이상의 결과에 의하면, 실시예 1~4의 광학 이방성 적층체를 구비한 화상 표시 장치는, 비교예 1~4의 광학 이방성 적층체를 구비한 화상 표시 장치와 비교하여, 정면 방향에서 관찰한 경우의 표시면의 착색이 동등하게 억제되어 있고, 또한 경사 방향에서 관찰한 경우의 표시면의 착색이 억제되어 있는 것을 알 수 있다. 상기 결과로부터, 본 발명의 광학 이방성 적층체를 구비하는 실시예 1~4에 의하면, 정면 방향 및 경사 방향에서 관찰한 경우의 표시면의 착색이 억제된 화상 표시 장치를 실현할 수 있다.

[다른 실시형태]

(1) 상기 실시예 1~4에 있어서는, λ/2판을 제1 광학 이방성층에 사용하고, λ/4판을 제2 광학 이방성층에 사용한 광학 이방성 적층체를 나타내었으나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. λ/2판을 제2 광학 이방성층에 사용하고, λ/4판을 제1 광학 이방성층에 사용한 광학 이방성 적층체여도 된다.

(2) 상기 실시예 1~4에 있어서는, 직선 편광자(편광 필름)의 투과축에 대하여 λ/2판(제1 광학 이방성층)의 지상축이 시계 방향으로 이루는 각도(θA1)가 45°인 광학 이방성 적층체를 나타내었으나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 직선 편광자의 흡수축과 제1 광학 이방성층의 지상축이 이루는 각이 45°인 광학 이방성 적층체여도 된다.

100, 200…광학 이방성 적층체
110…제1 광학 이방성층
111…지상축
120…제2 광학 이방성층
121…지상축
130…직선 편광자
131…투과축
500, 600…광학 이방성 적층체

Claims

제1 광학 이방성층 및 제2 광학 이방성층을 포함하는 광학 이방성 적층체로서,
상기 제1 광학 이방성층이, 하기 식(1)을 만족하고,
상기 제2 광학 이방성층이, 하기 식(2)을 만족하고,
상기 광학 이방성 적층체가, 하기 식(3)을 만족하고,
상기 제1 광학 이방성층의 NZ 계수 NZ1 및 상기 제2 광학 이방성층의 NZ 계수 NZ2가 하기 식(4)을 만족하고,
상기 제1 광학 이방성층의 지상축과 상기 제2 광학 이방성층의 지상축이 이루는 각도가, 85°~95°인, 광학 이방성 적층체.
nx1 > ny1 ≥ nz1 식(1)
nz2 > nx2 > ny2 식(2)
Re(450) < Re(550) < Re(650) 식(3)
-0.3 ≤ NZ1 + NZ2 ≤ 0.8 식(4)
단,
nx1은, 상기 제1 광학 이방성층의 면내 방향으로서 최대의 굴절률을 부여하는 방향의 굴절률을 나타내고, ny1은, 상기 제1 광학 이방성층의 면내 방향으로서, nx1을 부여하는 방향과 직교하는 방향의 굴절률을 나타내고, nz1은, 상기 제1 광학 이방성층의 두께 방향의 굴절률을 나타내고,
nx2는, 상기 제2 광학 이방성층의 면내 방향으로서 최대의 굴절률을 부여하는 방향의 굴절률을 나타내고, ny2는, 상기 제2 광학 이방성층의 면내 방향으로서, nx2를 부여하는 방향과 직교하는 방향의 굴절률을 나타내고, nz2는, 상기 제2 광학 이방성층의 두께 방향의 굴절률을 나타내고,
Re(450), Re(550), 및 Re(650)는, 파장 450 nm, 550 nm, 및 650 nm에서의 상기 광학 이방성 적층체의 면내 위상차를 각각 나타낸다.
제1항에 있어서,
파장 550 nm에서의 상기 제1 광학 이방성층의 면내 위상차 Re1(550),
파장 450 nm에서의 상기 제1 광학 이방성층의 면내 위상차 Re1(450),
파장 550 nm에서의 상기 제2 광학 이방성층의 면내 위상차 Re2(550) 및,
파장 450 nm에서의 상기 제2 광학 이방성층의 면내 위상차 Re2(450)가, 하기 식(5) 및 식(6)을 만족하는, 광학 이방성 적층체.
Re1(450)/Re1(550) < Re2(450)/Re2(550) 식(5)
Re1(550) > Re2(550) 식(6)
제2항에 있어서,
상기 Re1(550)과 상기 Re2(550)의 차가, 100 nm 이상 180 nm 이하인, 광학 이방성 적층체.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 광학 이방성층이, 제1 수지 필름의 연신 필름이고,
상기 제1 수지 필름은, 플러스의 고유 복굴절값을 갖는 수지를 포함하는, 광학 이방성 적층체.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 광학 이방성층이, 액정 배향층을 포함하는, 광학 이방성 적층체.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제2 광학 이방성층이, 제2 수지 필름의 연신 필름이고,
상기 제2 수지 필름은, 마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지를 포함하는, 광학 이방성 적층체.
제6항에 있어서,
상기 제2 광학 이방성층이, 상기 제2 수지 필름을 이방향 연신한 연신 필름이고, 상기 NZ2가 -2.0 이상 -0.2 이하인, 광학 이방성 적층체.
직선 편광자와,
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 광학 이방성 적층체를 구비하는 원 편광판.
제8항에 있어서,
상기 직선 편광자의 흡수축 또는 상기 직선 편광자의 투과축과, 상기 제1 광학 이방성층의 지상축이 이루는 각이 40°~50°인, 원 편광판.
제8항 또는 제9항에 있어서,
상기 직선 편광자, 상기 제1 광학 이방성층, 및 상기 제2 광학 이방성층을 이 순서로 구비하거나, 또는,
상기 직선 편광자, 상기 제2 광학 이방성층, 및 상기 제1 광학 이방성층을 이 순서로 구비하는, 원 편광판.
제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 원 편광판과, 유기 일렉트로루미네센스 소자를 구비하는 화상 표시 장치로서,
상기 직선 편광자와, 상기 광학 이방성 적층체와, 상기 유기 일렉트로루미네센스 소자를 이 순서로 구비하는, 화상 표시 장치.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 광학 이방성 적층체의 제조 방법으로서,
플러스의 고유 복굴절값을 갖는 수지를 포함하는 제1 수지 필름을 연신하여 제1 광학 이방성층을 얻는 공정 1과,
마이너스의 고유 복굴절값을 갖는 수지를 포함하는 제2 수지 필름을 연신하여 제2 광학 이방성층을 얻는 공정 2와,
상기 제1 광학 이방성층과 상기 제2 광학 이방성층을 겹치는 공정 3을 포함하고,
상기 공정 1에 있어서, 상기 제1 수지 필름을, 일방향 연신하고,
상기 공정 2에 있어서, 상기 제2 수지 필름을, 이방향 연신하고,
상기 공정 3에 있어서, 상기 제1 광학 이방성층의 지상축과, 상기 제2 광학 이방성층의 지상축이 이루는 각이 85°~95°로 되도록 겹치는, 광학 이방성 적층체의 제조 방법.