JP2006524426A - 基板上に歪層を製造する方法と層構造 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 117
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 69
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims abstract description 71
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 22
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 claims description 72
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 60
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 59
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 59
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 40
- 238000002513 implantation Methods 0.000 claims description 35
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 24
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 20
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 19
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 19
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 19
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 15
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 15
- -1 hydrogen ions Chemical class 0.000 claims description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 claims description 12
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 8
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ge] Chemical compound [Si].[Ge] LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 5
- 238000000407 epitaxy Methods 0.000 claims description 4
- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 claims description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims description 2
- 239000002223 garnet Substances 0.000 claims description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 2
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 claims description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 2
- 229910005742 Ge—C Inorganic materials 0.000 claims 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 claims 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 claims 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen(.) Chemical compound [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 abstract description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 473
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 33
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 14
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 6
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 4
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 4
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 4
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 3
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXQKVSDUCKWEKE-UHFFFAOYSA-N [C].[Ge].[Si] Chemical compound [C].[Ge].[Si] AXQKVSDUCKWEKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMDDXIMCDZRSNE-UHFFFAOYSA-N [C].[Si] Chemical compound [C].[Si] HMDDXIMCDZRSNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 229910002058 ternary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/71—Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
- H01L21/76—Making of isolation regions between components
- H01L21/762—Dielectric regions, e.g. EPIC dielectric isolation, LOCOS; Trench refilling techniques, SOI technology, use of channel stoppers
- H01L21/7624—Dielectric regions, e.g. EPIC dielectric isolation, LOCOS; Trench refilling techniques, SOI technology, use of channel stoppers using semiconductor on insulator [SOI] technology
- H01L21/76251—Dielectric regions, e.g. EPIC dielectric isolation, LOCOS; Trench refilling techniques, SOI technology, use of channel stoppers using semiconductor on insulator [SOI] technology using bonding techniques
- H01L21/76254—Dielectric regions, e.g. EPIC dielectric isolation, LOCOS; Trench refilling techniques, SOI technology, use of channel stoppers using semiconductor on insulator [SOI] technology using bonding techniques with separation/delamination along an ion implanted layer, e.g. Smart-cut, Unibond
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02436—Intermediate layers between substrates and deposited layers
- H01L21/02439—Materials
- H01L21/02441—Group 14 semiconducting materials
- H01L21/0245—Silicon, silicon germanium, germanium
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/02521—Materials
- H01L21/02524—Group 14 semiconducting materials
- H01L21/02532—Silicon, silicon germanium, germanium
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- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
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- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/7842—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate means for exerting mechanical stress on the crystal lattice of the channel region, e.g. using a flexible substrate
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- Y10S438/938—Lattice strain control or utilization
Abstract
ウエーハ接着及び/又はウエーハ研磨なしに基板上に高い品質の歪層を製造する簡単な方法を提供すること。
【解決手段】
この発明は、歪をもたせる層に隣接した層に欠陥領域を形成する工程と、歪をもたせる層に少なくとも隣接した層を緩和させる工程とにより、基板上に歪層を製造する方法に関する。その歪層は別のエピタキシャル層に配置されることができる。そのように形成された層構造は種々の構成要素に好ましく適している。
Description
この課題は、さらに、従属請求項に基づく層構造によって解決される。好ましい構成はそれぞれその構成を記載した特許請求項から明らかになる。
・歪をもたせる層と隣接した層に欠陥を生成し、
・歪をもたせる層と隣接した少なくとも一つの層を緩和させる。
結果として歪をもたせようとする層が好ましく歪をもつことになる。
それで、次の工程によって方法を実施することが可能である:
・基体上の歪をもたせる層上にはエピタキシャルに異なる格子構造の第一層とこの上の第二層の少なくとも一つが塗布されて、この際に第一層は歪をもたせる層と別の歪度を有する、
・第二層及び/又は別の層には欠陥領域が生成され、
・層構造は温度処理を受けるので、欠陥領域から出発して、第一層の緩和を引き起こす転位が形成される。
この発明の別の構成では、例えば温度の降下によって、例えば歪をもたせる層上への層或いは濃縮した層の塗布中の分子線エピタキシャル装備において約200℃で、欠陥領域を既に歪をもたせる層上への層の塗布の際に形成させることが可能である。
これに対して、引張歪を付与されたシリコンが例えば約1−2原子百分率CまでのSi- Cから成る引張歪を付与された第一層の使用によって形成されることができる。Si- Ge- Cのような三元合金の使用及び供給されたSi層或いは合金(B,As,P,Sb,Er,S等)の使用も、同様に可能である。
[第一実施例]:ヘリウムイオン或いは水素イオン注入と焼鈍しによりSiO2 上に歪をもったSi層の製造。
[第二実施例]:より高い歪をもつSiO2 上に歪をもったSi層の製造。
[第三実施例]:軽いイオンによる注入の代わりのSi注入
[第四実施例]:SOI基板1,2,3(図6)上の層構造における二つ或いは複数の歪をもった層の製造。
[第五実施例]:エッチング溝15と温度処理による欠陥密度の減少と絶縁領域14の製造
[第六実施例]:歪をもったSi- Ge層及びn- とp- MOSFET構成要素を備えるほぼ一平面におけるSiO2 上の歪をもったSi
[第七実施例]:SOI構造上のSi- Ge/Si- C/Si- Ge層シリーズによってのSiO2 上の歪をもったシリコン
[第八実施例]:
2....SiO2
3....層厚d3 をもつ歪をもたせる層
4....エピタキシャル層、方法中に緩和される層厚d4 をもつ任意に濃度分布(濃縮)を備える。
5....シリコン厚d5 をもつエピタキシャル層5(例えばシリコン)。
6....マスク
7....例えば注入によって形成される欠陥領域。イオンの到達距離の最大値は層4と5の境界面からの間隔d6 である。水素やヘリウムイオンの場合には、この深さにプレートレッテ、水泡或いはミクロ亀裂が生じ、転位のような欠陥を形成する。
8....保護層、例えばSiO2
9....歪をもった層或いは領域、例えば歪をもったシリコン。
10...歪をもたない層3或いは歪をもった層9上に析出されるエピタキシャル層、例えばSi或いはSi- Ge或いはSi- Ge- C或いはSi- C。シリコンの沈殿によって歪をもった層の層厚が増大される。
11...エピタキシャル層、例えばSi- Ge、Si- C或いはSi- Ge- C、それは緩和される。
12...歪をもたされるべきであるか、或いはエッチング停止層として用いられる薄いエピタキシャル層、例えばシリコン。
13...緩和されるべきである例えば濃縮されたエピタキシャル層、例えばSi- Ge、Si- C或いはSi- Ge- C。
14...浅い溝絶縁体、絶縁材料で充填された溝15。
15...SOI基板1,2,3の絶縁層2までの深さをもつエッチング溝。
16...珪化された接点、例えばソース。
17...ゲート誘電体。
18...ゲート接点、例えばポリ- Si或いは金属。
19...ゲート接点、例えばシリコン。
20...スペーサー絶縁体。
21...珪化されたドレイン接点。
22...盛り上がった接点(高ドープSi或いはSi- Ge)
Claims (96)
- 基板(1,2)上に歪層(9)を製造する方法において、歪を持たせる層(3)に隣接した層(2,4,5,11)内に欠陥領域(7)を形成させる工程と、歪を持たせる層(3)に隣接した少なくとも一つの層(4,11)を緩和させる工程とから成ることを特徴とする方法。
- 転位が形成され、その転位は歪を持たせる層(3)に隣接した少なくとも一つの層(4,11)の緩和を引き起こすことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 層構造が温度処理及び酸化の両方或いは少なくとも一方を緩和されることを特徴とする請求項1乃至2のいずれか一項に記載の方法。
- 歪を持たせる層(3)に少なくとも一つの第一層(4,11)がエピタクシーに塗布されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の方法。
- 第一層(4,11)は歪を持たせる層(3)と異なる歪度を有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の方法。
- 第一層(4,11)には欠陥領域(7)が形成されることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の方法。
- 基体(1,2)と歪を持たせる層(3)の間には一つの別の緩和させる層が配置されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の方法。
- 欠陥領域(7)が基板に形成されることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の方法。
- 欠陥領域(7)が歪を持たせる層(3)自体に形成されることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載の方法。
- 歪を持たせる層(12)に隣接した二つの層(11、13)が歪を持たせる層(12)と異なる歪度を有することを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載の方法。
- 複数の層(11、13)を緩和させることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか一項に記載の方法。
- 複数の歪を持たせるようとしている層(3、12)に歪を持たせることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか一項に記載の方法。
- 第一層(4,11)にはそれぞれ異なる格子構造を備える少なくとも一つの別の層(5;12、13)がエピタクシーに塗布されることを特徴とする請求項1乃至12のいずれか一項に記載の方法。
- 欠陥領域(7)が第二層(5;13)に形成されることを特徴とする請求項1乃至13のいずれか一項に記載の方法。
- 歪を持たせる層(3)には第一層(4)より少なくとも濃縮された層が塗布されることを特徴とする請求項1乃至14のいずれか一項に記載の方法。
- 濃縮された層(4)の歪を持たせる層(3)に配置された領域が歪を持たせる層(3)と異なる歪度を有することを特徴とする請求項1乃至15のいずれか一項に記載の方法。
- 濃縮された層(4)には欠陥領域(7)が形成されることを特徴とする請求項1乃至16のいずれか一項に記載の方法。
- 一つの基体に複数の層を包含するエピタキシャル層構造(1,2,3,4,5,11,12,13)が析出処理で製造されることを特徴とする請求項1乃至17のいずれか一項に記載の方法。
- 温度処理によって第一層(4,11)を緩和させることを特徴とする請求項1乃至18のいずれか一項に記載の方法。
- 温度処理では550と1200℃の間の温度が選定されることを特徴とする請求項1乃至19のいずれか一項に記載の方法。
- 温度処理では700と980℃の間の温度が選定されることを特徴とする請求項1乃至20のいずれか一項に記載の方法。
- 温度処理が不活性雰囲気で実施されることを特徴とする請求項1乃至21のいずれか一項に記載の方法。
- 温度処理は、還元する或いは酸化する或いは窒化する雰囲気と特に窒素で実施されることを特徴とする請求項1乃至22のいずれか一項に記載の方法。
- 緩和は層の限定された領域に引き起されることを特徴とする請求項1乃至23のいずれか一項に記載の方法。
- マスク(6)が配置されていることを特徴とする請求項1乃至24のいずれか一項に記載の方法。
- 欠陥領域(7)がイオン注入によって形成されることを特徴とする請求項1乃至25のいずれか一項に記載の方法。
- 注入のために水素イオン或いはHeイオンが選定されることを特徴とする請求項26に記載の方法。
- 3×1015 から4×1016cm-2の分量、特に0.5から2.5×1016cm-2の分量を備える水素イオン或いはHe- イオンが注入されることを特徴とする請求項27に記載の方法。
- 注入のためにSi- イオンが選定されることを特徴とする請求項1乃至28のいずれか一項に記載の方法。
- およそ0.5×1014から5×1014cm-2の分量を備えるSi- イオンが注入されることを特徴とする請求項29に記載の方法。
- 注入のために炭素- 、窒素- 、弗素- 、硼素- 、燐- 、砒素- 、ゲルマニウム- 、アンチモン- 、硫黄- 、ネオン- 、アルゴン- 、クリプトン- 及び/又はキセノン- イオンが選定されることを特徴とする請求項請求項1乃至30のいずれか一項に記載の方法。
- 少なくとも二つの注入が実施されることを特徴とする請求項請求項1乃至31のいずれか一項に記載の方法。
- 水素注入はヘリウム注入と関連して実施されることを特徴とする請求項1乃至32のいずれか一項に記載の方法。
- 硼素注入は水素注入と関連して実施されることを特徴とする請求項1乃至33のいずれか一項に記載の方法。
- 二つの注入は二つの欠陥領域を第一層(4)と第二層(5)に形成するように実施されることを特徴とする請求項1乃至34のいずれか一項に記載の方法。
- ウエーハはイオン注入中に7°より大きい角度に、30−60°の角度に傾斜されることを特徴とする請求項1乃至35のいずれか一項に記載の方法。
- 二つの注入の間に温度処理が実施されることを特徴とする請求項1乃至36のいずれか一項に記載の方法。
- 欠陥領域(7)が温度の変更によって層(4,5;11)の一つの配置において作成されることを特徴とする請求項1乃至37のいずれか一項に記載の方法。
- 欠陥がSi- C- 層に温度処理により形成されることを特徴とする請求項1乃至38のいずれか一項に記載の方法。
- 基板としてアモルファス層、特に絶縁体(2)が選定されることを特徴とする請求項1乃至39のいずれか一項に記載の方法。
- SOI- 基板(1,2,3)は基板の基礎構造として選定されることを特徴とする請求項1乃至40のいずれか一項に記載の方法。
- SOI- 基板(1,2,3)の珪素カバー層が歪を持たせる層(3)を意味し、SOI- 基板(1,2,3)のSiO2 は基体(1)上の絶縁体(2)を意味することを特徴とする請求項41に記載の方法。
- SIMOX或いはBESOI- 基板は基板の基礎構造として選定されることを特徴とする請求項1乃至42のいずれか一項に記載の方法。
- 基板の基礎構造としてサファイア上のシリコンの選定を特徴とする請求項1乃至43のいずれか一項に記載の方法。
- 緩和させるのに必要な温度では粘性になる基板の選定を特徴とする請求項1乃至44のいずれか一項に記載の方法。
- SiO2 ,ガラス,SiC,Si- Ge,黒鉛,ダイヤモンド,石英ガラス,GdGa- ガーネット,III−V族半導体とIII−V族−窒化物が基板(1,2)の材料とし
て選定されることを特徴とする請求項1乃至45のいずれか一項に記載の方法。 - 絶縁体(2)が基板(1)上に選定されることを特徴とする請求項1乃至46のいずれか一項に記載の方法。
- 歪を持たせる層(3)上に配置されている第一層(4)用の材料としてSi- Ge,或いはSi- Ge- C,或いはSi- Cの選択を特徴とする請求項1乃至47のいずれか一項に記載の方法。
- 歪を持たせる層(3)用の材料としてシリコンを選択することを特徴とする請求項1乃至48のいずれか一項に記載の方法。
- 第一層(4)上に配置されている第二層(5)用の材料としてシリコンを選択することを特徴とする請求項1乃至49のいずれか一項に記載の方法。
- 濃縮された層用の材料としてのSi- Geの選択を特徴とする請求項1乃至50のいずれか一項に記載の方法。
- 濃縮された層におけるゲルマニウム濃度は歪を持たせる層(3)における境界面から濃縮された層の表面まで低減されることを特徴とする請求項51に記載の方法。
- Si- Ge層におけるゲルマニウム濃度は歪を持たせる層(3)における境界面にて100パーセントを有することを特徴とする請求項1乃至52のいずれか一項に記載の方法。
- 層構造の全層厚さは塗布された層(4;11,13)の成長中にこの層が顕著な緩和を得るように選定されることを特徴とする請求項1乃至53のいずれか一項に記載の方法。
- 転位密度は成長後に105 cm-2より小さい値になることを特徴とする請求項1乃至54のいずれか一項に記載の方法。
- 歪を持たせる層(3)は1から50ナノメートルの範囲の厚さd3 に選定されることを特徴とする請求項1乃至55のいずれか一項に記載の方法。
- 歪を持たせる層(3)は5から30ナノメートルの範囲の厚さd3 に選定されることを特徴とする請求項1乃至56のいずれか一項に記載の方法。
- 第一層(4)は臨界層厚さの近くの厚さd4 に選定されることを特徴とする請求項1乃至57のいずれか一項に記載の方法。
- 層比d4 /d3 は10以上に選定することを特徴とする請求項1乃至58のいずれか一項に記載の方法。
- 第二層(5)は厚さd5 =50−1000ナノメートルにより選定されることを特徴とする請求項1乃至59のいずれか一項に記載の方法。
- 第二層(5)は厚さd5 =300−500ナノメートルにより選定されることを特徴とする請求項1乃至60のいずれか一項に記載の方法。
- 歪を持たせる層(3)は局部的に歪を持つことを特徴とする請求項1乃至61のいずれか一項に記載の方法。
- 歪を持たせる層(3)は欠陥領域を備える平面に垂直に位置する領域において局部的に歪を持つことを特徴とする請求項1乃至62のいずれか一項に記載の方法。
- 欠陥領域(7)は緩和させる層から50から500ナノメートルまでの間隔に形成されることを特徴とする請求項1乃至63のいずれか一項に記載の方法。
- 欠陥領域(7)は歪を持たせる層(3)上に配置された層(4)の上部に50から500ナノメートルまでの間隔に形成されることを特徴とする請求項1乃至64のいずれか一項に記載の方法。
- 第一と第二層(4,5;11,12,13)は歪層(9)の形成後或いは歪領域の形成後に取り除かれることを特徴とする請求項1乃至65のいずれか一項に記載の方法。
- エッチング、特に湿式化学的材料選定エッチングが使用されることを特徴とする請求項1乃至66のいずれか一項に記載の方法。
- エッチング溝(15)は層(2,3,4,5,9,11,12,13)の深さに形成されることを特徴とする請求項1乃至67のいずれか一項に記載の方法。
- エッチング溝(15)の形成後に層(4;11)或いは別の層の緩和は特に温度処理によって引き起こされることを特徴とする請求項1乃至68のいずれか一項に記載の方法。
- 溝(15)は浅い溝絶縁体を形成するために絶縁材料で充填されることを特徴とする請求項1乃至69のいずれか一項に記載の方法。
- 少なくとも一つの別の温度処理は一層或いは複数層を緩和するように実施されることを特徴とする請求項1乃至70のいずれか一項に記載の方法。
- 歪層(9)及び/又は歪をもたない層(3)は1ナノメートルより小さい表面粗さで形成されることを特徴とする請求項1乃至71のいずれか一項に記載の方法。
- 層(3,9)の表面粗さは熱酸化物の成長によってさらに低減されることを特徴とする請求項1乃至72のいずれか一項に記載の方法。
- 層(9)の歪領域にはn- 及び/又はp- MOSFETが形成されることを特徴とする請求項1乃至73のいずれか一項に記載の方法。
- シリコン或いはシリコン・ゲルマニウム(Si- Ge)或いはSi- Ge- C層或いはゲルマニウム層を包含する別のエピタキシャル層(10)が析出されることを特徴とする請求項1乃至74のいずれか一項に記載の方法。
- 歪シリコン・ゲルマニウム(Si- Ge)領域(11)には別のエピタキシャル層として或いは緩和されていない層構造としてp- MOSFETが形成されることを特徴とする請求項1乃至75のいずれか一項に記載の方法。
- 歪を持たせる層(3)の歪をもたない領域(3)には両極トランジスタが処理されることを特徴とする請求項1乃至76のいずれか一項に記載の方法。
- 両極トランジスタを形成するために、シリコン・ゲルマニウム層が塗布されることを特徴とする請求項1乃至77のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項1乃至78に挙げられた方法工程の一つ或いは複数工程が数回使用されることを特徴とする複数歪層を包含する層構造を形成する方法。
- 層(9,3)は一部に歪をもって形成されていることを特徴とする基体(1,2)上の層(9,3)を包含する層構造。
- 層(9,3)の歪領域(9)は層(9,3)の歪をもたない領域(3)の傍の平らな平面に配置されていることを特徴とする請求項80に記載の層構造。
- 少なくとも一つの緩和された層(4,11)は少なくとも一つの歪層(9)の上及び/又は下に配置されていることを特徴とする請求項80或いは81に記載の層構造。
- 層の平面においてそれぞれ平らに段部形成なしに固有層材料の反対に歪をもった領域が配置されていることを特徴とする請求項80乃至82のいずれか一項に記載の層構造。
- 基板として絶縁体(2)を備えることを特徴とする請求項80乃至83のいずれか一項に記載の層構造。
- 歪層(9)及び/又は歪をもたない層(3)は107 cm-2より小さい欠陥密度を有することを特徴とする請求項80乃至84のいずれか一項に記載の層構造。
- 歪層(9)及び/又は歪をもたない層(3)は105 cm-2より小さい欠陥密度を有することを特徴とする請求項80乃至85のいずれか一項に記載の層構造。
- 少なくとも一つの歪層(9)及び/又は少なくとも一つの歪をもたない層(3)は1ナノメータより小さい表面粗さを有することを特徴とする請求項80乃至86のいずれか一項に記載の層構造。
- 歪層(9)及び/又は歪をもたない層(3)上には別のエピタキシャル層(10,11,12,22)が配置されていることを特徴とする請求項80乃至87のいずれか一項に記載の層構造。
- 歪層(9)には絶縁領域(14)が配置されていることを特徴とする請求項80乃至88のいずれか一項に記載の層構造。
- 請求項80乃至89のいずれか一項に記載の層構造を包含する構成要素。
- 請求項90に記載の構成要素としての変調ドープ電界効果トランジスタ(MODFET)或いは酸化金属半導体電界効果トランジスタ(MOSFET)。
- 請求項90に記載の構成要素としての完全空乏型MOSFET。
- 請求項90に記載の構成要素としてのトンネルダイオード、特にシリコン・ゲルマニウム(Si- Ge)トンネルダイオード。
- 請求項90に記載の構造要素としてのシリコン・ゲルマニウム・量子・カスケード・レーザー。
- 請求項90に記載の構造要素としての光検出器。
- 請求項90に記載の構造要素としての発光ダイオード。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10318283A DE10318283A1 (de) | 2003-04-22 | 2003-04-22 | Verfahren zur Herstellung einer verspannten Schicht auf einem Substrat und Schichtstruktur |
DE10318283.7 | 2003-04-22 | ||
PCT/DE2004/000736 WO2004095552A2 (de) | 2003-04-22 | 2004-04-08 | Verfahren zur herstellung einer verspannten schicht auf einem substrat und schichtstruktur |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006524426A true JP2006524426A (ja) | 2006-10-26 |
JP2006524426A5 JP2006524426A5 (ja) | 2012-10-04 |
JP5259954B2 JP5259954B2 (ja) | 2013-08-07 |
Family
ID=33304879
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006504293A Expired - Lifetime JP5259954B2 (ja) | 2003-04-22 | 2004-04-08 | 基板上に歪層を製造する方法と層構造 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7615471B2 (ja) |
EP (1) | EP1616345A2 (ja) |
JP (1) | JP5259954B2 (ja) |
DE (1) | DE10318283A1 (ja) |
WO (1) | WO2004095552A2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006237235A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体ウェーハの製造方法 |
JP2014140017A (ja) * | 2012-12-05 | 2014-07-31 | Imec | デュアル歪チャネルを有するFinFETおよびその製造方法 |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10318284A1 (de) * | 2003-04-22 | 2004-11-25 | Forschungszentrum Jülich GmbH | Verfahren zur Herstellung einer verspannten Schicht auf einem Substrat und Schichtstruktur |
US7202145B2 (en) * | 2004-06-03 | 2007-04-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Strained Si formed by anneal |
DE102004048096A1 (de) * | 2004-09-30 | 2006-04-27 | Forschungszentrum Jülich GmbH | Verfahren zur Herstellung einer verspannten Schicht auf einem Substrat und Schichtstruktur |
US7202124B2 (en) * | 2004-10-01 | 2007-04-10 | Massachusetts Institute Of Technology | Strained gettering layers for semiconductor processes |
US8105908B2 (en) | 2005-06-23 | 2012-01-31 | Applied Materials, Inc. | Methods for forming a transistor and modulating channel stress |
KR100673020B1 (ko) * | 2005-12-20 | 2007-01-24 | 삼성전자주식회사 | 전계효과 소오스/드레인 영역을 가지는 반도체 장치 |
US7339230B2 (en) * | 2006-01-09 | 2008-03-04 | International Business Machines Corporation | Structure and method for making high density mosfet circuits with different height contact lines |
DE102006004870A1 (de) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Siltronic Ag | Halbleiterschichtstruktur und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterschichtstruktur |
DE102006010273B4 (de) * | 2006-03-02 | 2010-04-15 | Forschungszentrum Jülich GmbH | Verfahren zur Herstellung einer verspannten Schicht auf einem spannungskompensierten Schichtstapel mit geringer Defektdichte, Schichtstapel und dessen Verwendung |
US7494886B2 (en) | 2007-01-12 | 2009-02-24 | International Business Machines Corporation | Uniaxial strain relaxation of biaxial-strained thin films using ion implantation |
US8471307B2 (en) * | 2008-06-13 | 2013-06-25 | Texas Instruments Incorporated | In-situ carbon doped e-SiGeCB stack for MOS transistor |
DE102008035816B4 (de) | 2008-07-31 | 2011-08-25 | GLOBALFOUNDRIES Dresden Module One Ltd. Liability Company & Co. KG, 01109 | Leistungssteigerung in PMOS- und NMOS-Transistoren durch Verwendung eines eingebetteten verformten Halbleitermaterials |
US8003491B2 (en) * | 2008-10-30 | 2011-08-23 | Corning Incorporated | Methods and apparatus for producing semiconductor on insulator structures using directed exfoliation |
TWI451534B (zh) * | 2008-10-30 | 2014-09-01 | Corning Inc | 使用定向剝離作用製造絕緣體上半導體結構之方法及裝置 |
US9059201B2 (en) * | 2010-04-28 | 2015-06-16 | Acorn Technologies, Inc. | Transistor with longitudinal strain in channel induced by buried stressor relaxed by implantation |
US8361889B2 (en) * | 2010-07-06 | 2013-01-29 | International Business Machines Corporation | Strained semiconductor-on-insulator by addition and removal of atoms in a semiconductor-on-insulator |
US8404562B2 (en) | 2010-09-30 | 2013-03-26 | Infineon Technologies Ag | Method for manufacturing a composite wafer having a graphite core, and composite wafer having a graphite core |
US8822306B2 (en) | 2010-09-30 | 2014-09-02 | Infineon Technologies Ag | Method for manufacturing a composite wafer having a graphite core, and composite wafer having a graphite core |
DE102010064290B3 (de) * | 2010-12-28 | 2012-04-19 | GLOBALFOUNDRIES Dresden Module One Ltd. Liability Company & Co. KG | Verformungserhöhung in Transistoren mit einem eingebetteten verformungsinduzierenden Halbleitermaterial durch Kondensation der legierungsbildenden Substanz |
US8859348B2 (en) * | 2012-07-09 | 2014-10-14 | International Business Machines Corporation | Strained silicon and strained silicon germanium on insulator |
FR3003686B1 (fr) * | 2013-03-20 | 2016-11-04 | St Microelectronics Crolles 2 Sas | Procede de formation d'une couche de silicium contraint |
US9269714B2 (en) * | 2013-06-10 | 2016-02-23 | Globalfoundries Inc. | Device including a transistor having a stressed channel region and method for the formation thereof |
FR3041146B1 (fr) * | 2015-09-11 | 2018-03-09 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Procede de mise en tension d'un film semi-conducteur |
US9871057B2 (en) * | 2016-03-03 | 2018-01-16 | Globalfoundries Inc. | Field-effect transistors with a non-relaxed strained channel |
FR3050569B1 (fr) * | 2016-04-26 | 2018-04-13 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Fabrication amelioree de silicium contraint en tension sur isolant par amorphisation puis recristallisation |
WO2018004527A1 (en) * | 2016-06-28 | 2018-01-04 | Intel Corporation | Cell for n-negative differential resistance (ndr) latch |
US9818875B1 (en) * | 2016-10-17 | 2017-11-14 | International Business Machines Corporation | Approach to minimization of strain loss in strained fin field effect transistors |
CN111785679A (zh) * | 2020-07-29 | 2020-10-16 | 联合微电子中心有限责任公司 | 半导体器件及其制备方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5442205A (en) * | 1991-04-24 | 1995-08-15 | At&T Corp. | Semiconductor heterostructure devices with strained semiconductor layers |
JPH10209453A (ja) * | 1997-01-17 | 1998-08-07 | Toshiba Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2000243946A (ja) * | 1998-12-24 | 2000-09-08 | Toshiba Corp | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
JP2001148473A (ja) * | 1999-09-09 | 2001-05-29 | Toshiba Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2001168342A (ja) * | 1999-12-10 | 2001-06-22 | Fujitsu Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
WO2002071495A1 (en) * | 2001-03-02 | 2002-09-12 | Amberwave Systems Corporation | Relaxed silicon germanium platform for high speed cmos electronics and high speed analog circuits |
JP2002270504A (ja) * | 2001-03-06 | 2002-09-20 | Sharp Corp | 半導体基板、半導体装置及びそれらの製造方法 |
US20020185686A1 (en) * | 2001-06-12 | 2002-12-12 | International Business Machines Corporation | Relaxed SiGe layers on Si or silicon-on-insulator substrates by ion implantation and thermal annealing |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3627647A (en) * | 1969-05-19 | 1971-12-14 | Cogar Corp | Fabrication method for semiconductor devices |
US5344785A (en) * | 1992-03-13 | 1994-09-06 | United Technologies Corporation | Method of forming high speed, high voltage fully isolated bipolar transistors on a SOI substrate |
US5847419A (en) * | 1996-09-17 | 1998-12-08 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Si-SiGe semiconductor device and method of fabricating the same |
DE19802977A1 (de) * | 1998-01-27 | 1999-07-29 | Forschungszentrum Juelich Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer einkristallinen Schicht auf einem nicht gitterangepaßten Substrat, sowie eine oder mehrere solcher Schichten enthaltendes Bauelement |
US6326667B1 (en) * | 1999-09-09 | 2001-12-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor devices and methods for producing semiconductor devices |
US6690043B1 (en) * | 1999-11-26 | 2004-02-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
US6429061B1 (en) * | 2000-07-26 | 2002-08-06 | International Business Machines Corporation | Method to fabricate a strained Si CMOS structure using selective epitaxial deposition of Si after device isolation formation |
JP3875040B2 (ja) * | 2001-05-17 | 2007-01-31 | シャープ株式会社 | 半導体基板及びその製造方法ならびに半導体装置及びその製造方法 |
US20030077882A1 (en) * | 2001-07-26 | 2003-04-24 | Taiwan Semiconductor Manfacturing Company | Method of forming strained-silicon wafer for mobility-enhanced MOSFET device |
US6515335B1 (en) * | 2002-01-04 | 2003-02-04 | International Business Machines Corporation | Method for fabrication of relaxed SiGe buffer layers on silicon-on-insulators and structures containing the same |
US6746902B2 (en) * | 2002-01-31 | 2004-06-08 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | Method to form relaxed sige layer with high ge content |
DE10218381A1 (de) * | 2002-04-24 | 2004-02-26 | Forschungszentrum Jülich GmbH | Verfahren zur Herstellung einer oder mehrerer einkristalliner Schichten mit jeweils unterschiedlicher Gitterstruktur in einer Ebene einer Schichtenfolge |
AU2003243255A1 (en) * | 2002-05-15 | 2003-12-02 | The Regents Of The University Of California | Method for co-fabricating strained and relaxed crystalline and poly-crystalline structures |
US6689671B1 (en) * | 2002-05-22 | 2004-02-10 | Advanced Micro Devices, Inc. | Low temperature solid-phase epitaxy fabrication process for MOS devices built on strained semiconductor substrate |
US6774015B1 (en) * | 2002-12-19 | 2004-08-10 | International Business Machines Corporation | Strained silicon-on-insulator (SSOI) and method to form the same |
DE10310740A1 (de) * | 2003-03-10 | 2004-09-30 | Forschungszentrum Jülich GmbH | Verfahren zur Herstellung einer spannungsrelaxierten Schichtstruktur auf einem nicht gitterangepassten Substrat, sowie Verwendung eines solchen Schichtsystems in elektronischen und/oder optoelektronischen Bauelementen |
US6767802B1 (en) * | 2003-09-19 | 2004-07-27 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | Methods of making relaxed silicon-germanium on insulator via layer transfer |
-
2003
- 2003-04-22 DE DE10318283A patent/DE10318283A1/de not_active Withdrawn
-
2004
- 2004-04-08 EP EP04726422A patent/EP1616345A2/de not_active Withdrawn
- 2004-04-08 WO PCT/DE2004/000736 patent/WO2004095552A2/de active Application Filing
- 2004-04-08 US US10/554,074 patent/US7615471B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-04-08 JP JP2006504293A patent/JP5259954B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2009
- 2009-07-02 US US12/496,676 patent/US7915148B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5442205A (en) * | 1991-04-24 | 1995-08-15 | At&T Corp. | Semiconductor heterostructure devices with strained semiconductor layers |
JPH10209453A (ja) * | 1997-01-17 | 1998-08-07 | Toshiba Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2000243946A (ja) * | 1998-12-24 | 2000-09-08 | Toshiba Corp | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
JP2001148473A (ja) * | 1999-09-09 | 2001-05-29 | Toshiba Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2001168342A (ja) * | 1999-12-10 | 2001-06-22 | Fujitsu Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
WO2002071495A1 (en) * | 2001-03-02 | 2002-09-12 | Amberwave Systems Corporation | Relaxed silicon germanium platform for high speed cmos electronics and high speed analog circuits |
JP2002270504A (ja) * | 2001-03-06 | 2002-09-20 | Sharp Corp | 半導体基板、半導体装置及びそれらの製造方法 |
US20020185686A1 (en) * | 2001-06-12 | 2002-12-12 | International Business Machines Corporation | Relaxed SiGe layers on Si or silicon-on-insulator substrates by ion implantation and thermal annealing |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006237235A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体ウェーハの製造方法 |
JP4654710B2 (ja) * | 2005-02-24 | 2011-03-23 | 信越半導体株式会社 | 半導体ウェーハの製造方法 |
JP2014140017A (ja) * | 2012-12-05 | 2014-07-31 | Imec | デュアル歪チャネルを有するFinFETおよびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20090298301A1 (en) | 2009-12-03 |
WO2004095552A3 (de) | 2004-12-02 |
US20060220127A1 (en) | 2006-10-05 |
WO2004095552A2 (de) | 2004-11-04 |
JP5259954B2 (ja) | 2013-08-07 |
EP1616345A2 (de) | 2006-01-18 |
DE10318283A1 (de) | 2004-11-25 |
US7615471B2 (en) | 2009-11-10 |
US7915148B2 (en) | 2011-03-29 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
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|
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
S801 | Written request for registration of abandonment of right |
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ABAN | Cancellation due to abandonment | ||
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