JP2006339338A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2006339338A
JP2006339338A JP2005161119A JP2005161119A JP2006339338A JP 2006339338 A JP2006339338 A JP 2006339338A JP 2005161119 A JP2005161119 A JP 2005161119A JP 2005161119 A JP2005161119 A JP 2005161119A JP 2006339338 A JP2006339338 A JP 2006339338A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
level
internal
wiring
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005161119A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4618598B2 (ja
Inventor
Yasushi Matsubara
靖 松原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Micron Memory Japan Ltd
Original Assignee
Elpida Memory Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Elpida Memory Inc filed Critical Elpida Memory Inc
Priority to JP2005161119A priority Critical patent/JP4618598B2/ja
Priority to US11/554,259 priority patent/US7701789B2/en
Publication of JP2006339338A publication Critical patent/JP2006339338A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4618598B2 publication Critical patent/JP4618598B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/48Arrangements in static stores specially adapted for testing by means external to the store, e.g. using direct memory access [DMA] or using auxiliary access paths
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/317Testing of digital circuits
    • G01R31/31712Input or output aspects
    • G01R31/31717Interconnect testing
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C29/1201Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details comprising I/O circuitry
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/30Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements
    • H01L22/32Additional lead-in metallisation on a device or substrate, e.g. additional pads or pad portions, lines in the scribe line, sacrificed conductors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance

Abstract

【課題】 同じ内部回路に接続されるパッドを複数備えた半導体装置には、動作試験において未検査となるパッド配線が残るという問題がある。
【解決手段】 半導体チップ内部に、動作試験において未検査となるパッドに論理レベルを供給するレベル設定回路と、内部回路の近傍にレベル検出回路を設ける。レベル設定回路から供給されたレベルを内部回路近傍で判定することで、未検査状態で残るパッド配線の短絡、断線の不具合状態を、簡単に試験するテスト回路、及び半導体装置が得られる。
【選択図】 図1

Description

本発明は半導体装置に係り、特にボンディングオプションとして同じ内部回路に接続された複数のボンディングパッドを備え、ボンディングパッドと内部回路間の配線をテストするテスト回路を備えた半導体装置に関する。
近年、デジタルコンシューマー機器は小型化が進み、特にモバイル機器では1つの基板に複数の半導体チップを搭載することで、大幅な小型化がなされている。例えば、CPU、記憶素子としてのDRAMやフラッシュメモリ等の複数のチップを、1枚の基板に搭載し、単一のデバイス部品として樹脂によりパッケージングされている。これらのパッケージング技術としては、マルチ・チップ・パッケージ(Multi Chip Package)やシステム・イン・パッケージ(System In Package)や、パッケージ・オン・パッケージ(Package On Package)など、数々のパッケージ方法が用いられている。
これらのパッケージングは、主として機器メーカー側によってなされる。そのために、機器メーカーは、CPUあるいはDRAMなどの半導体チップを半導体メーカーから個別に購入することになる。しかし、機器メーカーにおいては、それぞれの機器を最も小型化できるように設計される。そのために半導体チップに要求されるボンディングパッドの位置は、機器メーカー毎、あるいは機器毎に異なることになる。その結果半導体メーカーは、それぞれの機器メーカーから、さまざまなボンディングパッド位置の半導体チップが要求されることになる。例えば、機器メーカーA社からは、チップ上向かって左側にパッド列を配置したDRAMが要求され、また機器メーカーB社からは、チップ上向かって右側にパッド列を配置したDRAMが要求される、といった具合である。
しかるに、DRAMを生産する半導体メーカーとしては、前記の事情が近年発生するとはいえ、パッド配置を換えただけのチップを、出荷先メーカー毎に製作、出荷することは、時間的にも費用的にも得策ではない。そこで、半導体メーカーは、複数の出荷先メーカーのいずれにも対応できるだけの複数のパッドをDRAMチップ上に配置させた半導体チップを用意する。出荷先の機器メーカーは、どのパッド群を使用するのかを選択し、自社の希望するパッドへボンディングを行う。DRAMチップの変更なしに複数機器メーカーへの出荷を可能としている。このように複数のパッドを用意し、必要に応じてパッドを選択し、ボンディングすることを、ボンディングオプション技術と呼ぶ。
ところが、半導体メーカーとしては同じ内部回路に接続された複数のパッドを有することで、動作試験においてさらなる問題が発生する。半導体メーカーは、顧客である複数機器メーカーへの出荷を前に、電気的動作試験を行う必要がある。しかし、ボンディングオプションとして複数のパッド群が存在する場合には、出荷先毎に、そのいずれかを選択して試験を実施する必要がある。これら複数のパッド群のなかから出荷先の希望するパッドを選択し、それぞれに対し、針(プローブ針)を接触させるプローブカード(プローブ針をチップのパッドに必要な個数接触させるための装置)を準備し、試験することは、またしても、経費と時間のロスにつながる。
そのために、1組のボンディングパッド群によりDRAMの試験を実施して、DRAM内部の機能試験を実施する。この場合には残りのパッドとの接続配線は検査されないことになる。この検査されていない接続配線部分を検査する必要があるという問題が生じる。これらの検査としては、例えば、未検査のパッドにプローブカードを接触させないで、低コストで簡便なテスト手段が望まれている。
半導体装置の動作試験のテスト回路としては、例えば特許文献1には複数のメモリに対して同時読み出しを行い、不具合のメモリを検出するテスト回路が開示されている。上記文献によれば、トライステートバスに接続されるメモリの出力ドライバ部分を流れる電流を検出する電流検出回路と、故障箇所診断回路を設けている。メモリ出力に故障がある場合には、貫通電流が流れ、この貫通電流を検出し故障メモリを検出している。しかし、これらのテスト回路は異なる出力レベルを検出するものであり、例えば配線が断線した場合には検出できない。従って、複数のパッドを備えた半導体装置の未検査のパッド配線の検査には適用できない。
特開2003−132698号公報
上記したように同じ内部回路に接続されるボンディングパッドを複数備えた半導体装置には、動作試験において未検査となるボンディングパッドとその近傍の内部配線が存在するという問題がある。ボンディングパッドとその近傍の内部配線部分を、まとめてパッド配線と略記する。この未検査状態のパッド配線の検査を、未検査のパッドにプローブカードを接触させないで、簡単に試験するテスト方法が望まれている。
本発明の課題は,上記した問題に鑑み、未検査状態のパッド配線を、簡単に試験できるテスト回路を提供することにある。具体的にはチップ内部に、動作試験において未検査となるパッドに論理レベルを供給するレベル設定回路と、内部回路近傍の内部配線にレベル検出回路を設ける。レベル設定回路から供給されるレベルを内部回路近傍のレベル検出回路で判定する。このような未検査状態で残るパッド配線の検査を、簡単に試験するテスト回路、及び半導体装置を提供することにある。
本発明は上記した課題を解決するため、基本的に下記に記載される技術を採用するものである。またその技術趣旨を逸脱しない範囲で種々変更できる応用技術も、本願に含まれる。
本発明の半導体装置は、ボンディングオプションとして複数のボンディングパッドを有する半導体装置において、特定のボンディングパッドを使用して動作試験を行い、前記動作試験に使用されていないボンディングパッドと、内部回路とを接続する内部配線をテストするテスト回路を備えたことを特徴とする。
本発明の半導体装置において、前記テスト回路は、前記動作試験に使用されていないボンディングパッドに接続されたレベル設定回路と、前記内部回路の近傍の内部配線に接続されたレベル検出回路から構成されたことを特徴とする。
本発明の半導体装置において、前記レベル設定回路は、前記動作試験に使用されていないボンディングパッドを、ハイレベル及びローレベルに駆動する駆動手段を備えたことを特徴とする。
本発明の半導体装置において、前記駆動手段を構成するトランジスタのチャネル長(L)は、チャネル幅(W)より大きく設定されていることを特徴とする。
本発明の半導体装置において、前記レベル設定回路は、高位側電源イネーブル信号により活性化され前記内部配線をハイレベルに駆動する第1のトランジスタと、低位側電源イネーブル信号により活性化され前記内部配線をローレベルに駆動する第2のトランジスタとを備えたことを特徴とする。
本発明の半導体装置において、前記レベル設定回路は、入力信号と、高位側電源イネーブル信号及び低位側電源イネーブル信号を入力とするトライステート型インバータで構成されたことを特徴とする。
本発明の半導体装置において、前記レベル検出回路は、前記内部配線の信号レベルを反転して出力するトライステート型インバータにより構成され、前記トライステート型インバータの出力は、他の内部配線に対し同様に構成されたトライステート型インバータの出力と共通接続されたことを特徴とする。
本発明の半導体装置において、前記テスト回路は、前記レベル検出回路の出力を入力とする判定回路をさらに備えたことを特徴とする。
本発明の半導体装置において、前記判定回路は、前記内部配線に設けられたレベル検出回路の出力と、他の内部配線に設けられたレベル検出回路の出力とを比較し、前記出力が同一レベルであるかどうかを判定することを特徴とする。
本発明のテスト回路は、ボンディングパッドに接続されたレベル設定回路と、前記ボンディングパッドと内部回路とを接続する内部配線に接続されたレベル検出回路とを備え、前記レベル設定回路に接続されたボンディングパッドと前記内部回路との接続状態をテストすることを特徴とする。
本発明のテスト回路において、前記レベル検出回路の出力を入力とする判定回路をさらに備えたことを特徴とする。
ボンディングオプションとして同じ内部回路に接続されるパッドを複数備えた半導体装置において、未検査状態で残るパッドに論理レベルを供給するレベル設定回路、内部回路近傍の内部配線にレベル検出回路を設け、レベル設定回路のレベルを内部回路近傍で判定する構成とする。これらの構成とすることで、未検査状態で残るパッド配線の検査を、簡単に試験するテスト回路、及び半導体装置が得られる。
これらの構成とすることで、さらに下記の効果が得られる。第1の効果は、プローブカードなどの検査に必要な測定装置を、複数作成することがないため、かかる費用と時間を節約することができる、という点である。
第2の効果は、本発明の半導体装置が組み込まれたデバイスの検査により、不良箇所が判定できることである。仮に、入力信号の電流リーク不具合、または、断線不具合があるとする。その場合の不具合箇所が、本半導体装置内部に存在するのか、または、その外部に存在するのか判断できる。外部の不具合とは、例えば、ボンディングワイヤが外れている不具合や、パッケージ内部の基板上の配線で短絡が発生している不具合、などがある。このことは、複数メーカーがチップを提供し、別のメーカーが組み立てる、といった近年の開発の現場では、不具合の責任者を明確にするために、ぜひとも必要とされている事項である。
第3の効果は、前記の第1および第2の効果を発揮するテスト回路を非常に簡易かつ設置面積の非常に小さい方法で提供し、テスト方法も簡易である、という点にある。かかるテスト回路を盛り込むことでの、チップサイズの増加は最小であり、チップのウエハ当たりの取得数の減りは、最小に押さえ込まれている。さらに、試験する際の方法に特段の困難性がなく、いたって平易なため、テスト実施者は、短時間でプログラミングが可能となる。これらの理由で、かかる経費は最小に抑えられる点である。
本発明の半導体装置について、図面を参照して説明する。
実施例1として、図1〜図3を用いて説明する。図1には実施例1に係るテスト回路図、図2には内部配線に不具合がない場合の動作波形図、図2には内部配線に不具合がある場合の動作波形図を示す。
図1は、本発明のテスト回路の実施例の一例である。図1に示すように、ボンディングパッドは、1つの内部回路に対し、それぞれ2個のボンディングパッドを備えている。それらは例えば、内部回路である入力レシーバ111には信号RASBの2つのボンディングパッド101−1、101−2が接続されている。同様に信号CASBとしてボンディングパッド102−1、102−2が,信号WEBとしてボンディングパッド103−1,103−2がそれぞれ接続されている。本発明においては、入力端子であるRASB、CASB、WEBについて説明しているが、特にこれらに限定されるものではなく、例えば、他の入力端子とか、出力端子にも適用できるものである。
2組のボンディングパッドのうち101−2,102−2,103−2のボンディングパッド群は動作試験時に使用されたパッド群であり、101−1、102−1、103−1のパッド群は動作試験時には使用されなかったパッド群である。そのため、ボンディングパッド101−1から節点Aまでの内部RASB配線、ボンディングパッド102−1から節点Bまでの内部CASB配線、ボンディングパッド103−1から節点Cまでの内部WEB配線は未検査の状態である。これらの未検査のパッドと節点間の配線をまとめてパッド配線、またこれらの内部RASB配線、内部CASB配線、内部WEB配線を単に内部配線と総称することがある。
本実施例においては、これらの未検査のパッド配線を簡単に検査するテスト回路を備えている。テスト回路は、それぞれの未検査のボンディングパッドに接続されたレベル設定回路121,122,123と、それぞれの検査済の内部回路近傍の内部配線に設けられたレベル検出回路124、125,126から構成される。レベル設定回路121によりボンディングパッド101−1に信号レベルを供給し、レベル検出回路124によりそのレベルを検出することで、内部RASB配線の未検査部分を検査する。同様に、レベル設定回路122とレベル検出回路125により内部CASB配線の未検査部分を検査する。さらに、レベル設定回路123とレベル検出回路126により内部WEB配線の未検査部分を検査する。
それぞれのレベル設定回路121,122,123は未検査のボンディングパッド101−1,102−1,103−1の近くに設置され、その出力はそれぞれのボンディングパッドに接続される。レベル設定回路121は、ボンディングパッド101−1をプルアップするPチャネル型トランジスタ104と、ボンディングパッド101−1をプルダウンするNチャネル型トランジスタ105とから構成される。Pチャネル型トランジスタ104のドレイン、ソース、ゲートは、それぞれボンディングパッド101−1、高位側電源VDD、高位側電源イネーブル信号UPEBに接続される。Nチャネル型トランジスタ105のドレイン、ソース、ゲートは、それぞれボンディングパッド101−1,低位側電源VSS、低位側電源イネーブル信号DNEに接続される。
高位側電源イネーブル信号UPEBはそれぞれのボンディングパッドにハイレベルを供給する制御信号であり、低位側電源イネーブル信号DNEはそれぞれのボンディングパッドにローレベルを供給する制御信号である。これらの高位側電源イネーブル信号UPEB及び低位側電源イネーブル信号DNEは、テストモード時に入力されるコマンドから内部生成してもよく、またテスト用の高位側電源イネーブル信号UPEB及び低位側電源イネーブル信号DNEのパッドを設け、該パッドから供給してもよい。
レベル設定回路122は、ボンディングパッド102−1をプルアップするPチャネル型トランジスタ106と、プルダウンするNチャネル型トランジスタ107とから構成される。Pチャネル型トランジスタ106のドレイン、ソース、ゲートは、それぞれボンディングパッド102−1、高位側電源VDD、高位側電源イネーブル信号UPEBに接続される。Nチャネル型トランジスタ107のドレイン、ソース、ゲートは、それぞれボンディングパッド102−1、低位側電源VSS、低位側電源イネーブル信号DNEに接続される。
レベル設定回路123は、ボンディングパッド103−1をプルアップするPチャネル型トランジスタ108と、プルダウンするNチャネル型トランジスタ109とから構成される。Pチャネル型トランジスタ108のドレイン、ソース、ゲートは、それぞれボンディングパッド103−1、高位側電源VDD、高位側電源イネーブル信号UPEBに接続される。Nチャネル型トランジスタ109のドレイン、ソース、ゲートは、それぞれボンディングパッド103−1、低位側電源VSS、低位側電源イネーブル信号DNEに接続される。
これらのPチャネル型トランジスタ104,106,108のチャネル長Lはチャネル幅Wより比率として大きくなる設定になっている。例えば、チャネル長が4umに対し、チャネル幅Wが1umという具合である。この結果、Pチャネル型トランジスタ104,106,108はチャネルが強反転し、ONした状態において、(ソース)−(ドレイン)間の抵抗は、数MΩのオーダーとなり、非常に小さな電流供給能力を有している。同様に、Nチャネル型トランジスタ105,107,109は、チャネル長Lを8um程度以上、チャネル幅Wを1um程度とし、やはり、(ソース)−(ドレイン)間のオンした場合の抵抗は、数MΩのオーダーとなるように設定する。このようにレベル設定回路は小さな電流供給能力を有するトランジスタから構成される。
内部RASB配線は、ボンディングパッド101−1と、節点Aと、内部回路である入力レシーバ回路111と、を接続する。さらに節点Aからは別のボンディングパッド101−2と、に接続される。また、同様に内部CASB配線はボンディングパッド102−1,102−2、節点B、入力レシーバ回路113に接続し、内部WEB配線はボンディングパッド103−1,103−2、節点C、入力レシーバ回路115に接続している。それぞれの入力レシーバ回路111,113,115は、チップ内部信号である信号CRASB,CCASB,CWEBを出力している。
レベル検出回路124,125,126は、それぞれの入力レシーバ回路111,113,115の近傍に配置される。入力レシーバ回路111近傍の内部RASB配線にレベル検出回路124として、トライステート型インバータ110を配置する。入力信号には内部RASB配線を接続され、高位側電源イネーブル信号MONEBと、低位側電源イネーブル信号MONEが入力される。同様に、入力レシーバ回路113近傍の内部CASB配線にレベル検出回路125として、トライステート型インバータ112を配置する。入力信号には内部CASB配線を接続され、高位側電源イネーブル信号MONEBと、低位側電源イネーブル信号MONEが入力される。
同様に入力レシーバ回路115近傍の内部WEB配線にレベル検出回路126として、トライステート型インバータ114を配置する。入力信号には内部WEB配線を接続され、高位側電源イネーブル信号MONEBと、低位側電源イネーブル信号MONEが入力される。トライステート型インバータ110,112,114は高位側電源イネーブル信号MONEBと、低位側電源イネーブル信号MONEによりイネーブルとされ、それぞれの入力信号を反転して出力する。高位側電源イネーブル信号MONEBと、低位側電源イネーブル信号MONEが非活性の場合にはハイインピダンスを出力する。トライステート型インバータ110,112,114のそれぞれの出力配線は互いに接続し、出力接続点をCSHORTと呼称する。
本実施例のテスト回路は、未検査のボンディングパッドに接続されたレベル設定回路と、動作試験済の入力レシーバ回路近傍の内部配線に配置されたレベル検出回路から構成されている。本実施例では、便宜上、RASB、CASB、WEBなどの信号名を用いたが、明らかに任意の信号に対して適応可能である。さらに、対象となるボンディングパッドの数、入力レシーバ回路の数または入力配線の数は上記した数に限らず、任意に多く設定できることは明らかである。
次に、図2,3を用いて、図1のテスト回路の動作について説明する。図2は、内部RASB配線、内部CASB配線及び内部WEB配線に欠陥がない場合についての動作波形を説明する。図3には、内部RASB配線、内部WEB配線には欠陥は無いが、内部CASB配線に低位側電源(VSS)との異物を介したショート欠陥が存在する場合についての動作波形を示す。
図2において、まず、試験を開始するには、低位側電源イネーブル信号MONEを“L”から“H”に、高位側電源イネーブル信号MONEBを“H”から“L”にセットする。これにより、レベル検出回路であるトライステート型インバータ110,112,114がイネーブルとなり、入力レベルに応じた出力レベルを出力する状態にセットされる。それと同時に、プルダウン期間において、低位側電源イネーブル信号DNEを“L”から“H”にセットする。この結果、Nチャネル型トランジスタ105,107,109はいずれも導通状態になり、ボンディングパッド101−1と内部RASB配線、ボンディングパッド102−1と内部CASB配線、ボンディングパッド103−1と内部WEB配線はいずれも、“L”レベルに駆動される。
図においてはボンディングパッド101−1、内部RASB配線は同一電位であることからまとめて単に、RASBとして示す。CASB,WEBについても同様である。トライステート型インバータ110,112,114は“H”レベルを接続点CSHORTに出力する。トライステート型インバータ110,112,114の出力が全て“H”であり、接続点CSHORTの電流CURRENTは流れない。
ここで仮に、内部RASB配線、内部CASB配線または内部WEB配線の1つに高位側電源(VDD)との短絡経路が形成されている事象があると仮定する。この場合には、この短絡経路の電気的抵抗値が数百KΩ程度以下であれば、レベル設定回路はVSSレベル(“L”レベル)に駆動できないで、“H”レベルとなる。そのため、トライステート型インバータ110,112,114のいずれかが、“L”レベルを出力する。接続点CSHORTは“H”、“L”レベルが接続されることで、トライステート型インバータ間に貫通電流が流れる。このように接続点CSHORTの電流CURRENTが流れることで、内部配線の異常が検出できる。
プルアップ期間では、低位側電源イネーブル信号DNEは、“H”から“L”に落とされ、高位側電源イネーブル信号UPEも“H”から“L”に落とされる。レベル設定回路のNチャネル型トランジスタ105,107,109はいずれも非導通状態になり、Pチャネル型トランジスタ104,106,108がいずれも導通状態になる。このことで、ボンディングパッド101−1と内部RASB配線、ボンディングパッド102−1と内部CASB配線、ボンディングパッド103−1と内部WEB配線は“L”から“H”に駆動される。トライステート型インバータ110,112,114はいずれも“L”出力する。図2では、この欠陥がない場合であり、電流CURRENTは0になっている。
この時、これらのいずれかのパッド配線に欠陥がある場合を想定する。例えば低位側電源との短絡経路がある場合、もしくは、断線がある場合を想定する。この場合には、欠陥があるパッド配線は“L”のままとなり、トライステート型インバータは“H”出力となる。欠陥のないパッド配線を入力とするトライステート型インバータは“L”出力となる。トライステート型インバータの出力は“H”、“L”が競合することで、接続点CSHORTの電流CURRENTが発生する。このように接続点CSHORTの電流CURRENTが流れることで、内部配線の異常が検出できる。
図3には低位側電源(VSS)との短絡経路がある場合の動作波形を示す。図3では、内部CASB配線上に、低位側電源(VSS)との短絡経路があり、その短絡経路の電気的な抵抗値は数百KΩ以下であるとする。テスト時にはまず、図2と同様に、低位側電源イネーブル信号MONEを“L”から“H”に、高位側電源イネーブル信号MONEBを“H”から“L”にセットする。これにより、レベル検出回路であるトライステート型インバータ110,112,114がイネーブルとなり、入力レベルに応じた出力レベルを出力する状態にセットされる。
それと同時に、プルダウン期間において、低位側電源イネーブル信号DNEを“L”から“H”にセットする。この結果、Nチャネル型トランジスタ105,107,109はいずれも導通状態になり、ボンディングパッド101−1と内部RASB配線、ボンディングパッド102−1と内部CASB配線、ボンディングパッド103−1と内部WEB配線はいずれも、“L”レベルに駆動される。ここでは内部CASB配線が低位側電源と短絡されているが、“L”レベルであり、そのレベルは影響されない。トライステート型インバータ110,112,114は“H”レベルを接続点CSHORTに出力する。トライステート型インバータ110,112,114の出力が全て“H”であり、接続点CSHORTの電流CURRENTは流れない。
プルアップ期間となり、低位側電源イネーブル信号DNEを“H”から“L”、高位側電源イネーブル信号UPEBを“H”から“L”にセットする。この結果、レベル設定回路のNチャネル型トランジスタ105,107,109はいずれも非導通状態、Pチャネル型トランジスタ104,106,108はいずれも導通状態になる。このことで、ボンディングパッド101−1と内部RASB配線、ボンディングパッド102−1と内部CASB配線、ボンディングパッド103−1と内部WEB配線はいずれも、”H”レベルに駆動されることになる。内部RASB配線と内部WEB配線はいずれも、”H”レベルに上昇する。しかし、内部CASB配線が低位側電源(VSS)と短絡されていることから、“L”レベルと“H”レベルが競合し、トライステート型インバータ112の閾値を超えるような”H”レベルには上昇できない。
その結果、レベル検出回路であるトライステート型インバータ110,114は“L”レベルを、トライステート型インバータ112は“H”レベルを出力する。接続点CSHORTは“H”レベルと“L”レベルが競合し、トライステート型インバータ112の高位側電源から、トライステート型インバータ110及び114の低位側電源に向かって電流が流れる。この電流を図3の電流CURRENTに示した。また、この電流CURRENTの電流値は約1mA程度になるように、前記トライステート型インバータ110,112,114のチャネル幅Wを設定している。理由としては、数mA程度あれば電流変化としては測定装置で充分感度良く認知できる程度であると考えられ、測定ノイズにより不安定な結果になることもない。逆に、あまり大きな電流を流す設定にすると、エレクトロマイグレーションなどの高電流密度が引き起こす物理現象により回路に断線などの欠陥を引き起こす可能性があるため、最終的に約1mA程度流れる設定としている。
また、不具合が低位側電源(VSS)との短絡ではなく、断線であったと仮定する。この場合には、レベル設定回路からの“H”レベルがレベル検出回路の伝達されないことから前記の低位側電源との短絡の場合に起きた現象と同様のCURRENTが発生するであろうことは容易にわかる。すなわち、仮に内部CASB配線に断線があれば、トライステート型インバータ112のゲートレベルは”L”固定のままであり、前記、低位側電源との短絡で述べた現象と同様になるからである。さらに内部CASB配線が低位側電源(VSS)との短絡ではなく、高位側電源(VDD)と短絡している不具合の場合を考える。この場合にはプルダウン期間において、内部CASB配線はレベル設定回路122から、“L”レベルが供給され、“L”レベルと“H”レベルが競合する。その結果、内部CASB配線は中間的な“H”レベル、レベル検出回路112は“L”レベルとなる。トライステート型インバータ110及び114の高位側電源から、トライステート型インバータ112の低位側電源に向かって電流が流れることで不具合が検出できる。
本実施例のテスト回路は、未検査のボンディングパッドにレベル設定回路、検査済の内部回路近傍の内部配線にレベル検出回路をそれぞれ配置し、それぞれのレベル検出回路の出力は共通接続する。内部配線に不具合がある場合には、レベル設定回路から供給されるレベルをレベル検出回路で検出し、共通接続された接続点に電流が流れることで、内部配線の不具合が検出できる。これらの構成とすることで、未検査のボンディングパッドに接続された内部配線の不具合を検出するテスト回路及びテスト回路を備えた半導体装置が得られる。
本発明の実施例2について図4を用いて説明する。図4に実施例2に係るテスト回路図を示す。本実施例のテスト回路としては、それぞれのボンディングパッドにレベル設定回路、内部回路近傍の内部配線にレベル検出回路を設け、さらにレベル検出回路の出力を判定する判定回路を設けている。
図4に示すように、ボンディングパッドは、1つの内部回路に対し、それぞれ2個のボンディングパッド201−1、201−2,202−1、202−2,203−1,203−2を備えている。それらは実施例1と同様に、例えば、信号RASB、CASB、WEBのボンディングパッドである。2組のボンディングパッドのうち201−2,202−2,203−2のボンディングパッド群は動作試験時に使用されたパッド群であり、201−1、202−1、203−1のパッド群は動作試験時には使用されなかったパッド群である。そのため、ボンディングパッド201−1から節点Dまでの内部RASB配線、ボンディングパッド202−1から節点Eまでの内部CASB配線、ボンディングパッド203−1から節点Fまでの内部WEB配線は未検査の状態である。
本実施例においては、実施例1と比較するとレベル設定回路の構成が異なり、さらにレベル検出回路のそれぞれの出力を入力される判定回路から判定出力が出力される点が異なる。それぞれの未検査のボンディングパッドに接続されたレベル設定回路221,222,223は、トライステート型インバータ204,205,206から構成される。それぞれの検査済の内部回路近傍の内部配線に設けられたレベル検出回路224、225,226は、トライステート型インバータ207,209,211から構成される。レベル検出回路224、225,226からの出力は、判定回路213に入力される。判定回路213からは判定結果として判定出力が出力される。
それぞれのレベル設定回路221,222,223の出力は未検査のボンディングパッド201−1,202−1,203−1に接続される。レベル設定回路221は、トライステート型インバータ204から構成される。トライステート型インバータ204は、入力信号として信号DATA、高位側電源イネーブル信号UPEBと、低位側電源イネーブル信号UPEが入力される。高位側電源イネーブル信号UPEBと、低位側電源イネーブル信号UPEが活性化されたときに入力信号DATAを反転し、ボンディングパッド201−1に出力する。高位側電源イネーブル信号UPEBと、低位側電源イネーブル信号UPEが非活性化の場合の出力はハイインピダンスとなる。
レベル設定回路222、223も、トライステート型インバータ205、206から構成される。トライステート型インバータ205、206の構成はトライステート型インバータ204と同様な構成であり、ボンディングパッド202−1、203−1に出力する。これらのトライステート型インバータ204、205、206の出力トランジスタは、いずれもチャネル長Lがチャネル幅Wより大きい設定になっている。このドライブ能力の設定に関する詳細は、第1の実施例の部分で述べた内容と同様であるため、ここでは省略する。これらの入力信号DATA,高位側電源イネーブル信号UPEB、低位側電源イネーブル信号UPEは、テストモード時に入力されるコマンドから生成してもよく、また入力信号DATA,テスト用の高位側電源イネーブル信号UPEB、低位側電源イネーブル信号UPEのパッドを設け、該パッドから供給してもよい。
本実施例においては、レベル設定回路221,222,223の出力は未検査のボンディングパッド201−1,202−1,203−1の上辺に接続されている。一方実施例1においてはレベル設定回路221,222,223の出力は未検査のボンディングパッド201−1,202−1,203−1の内部配線が引き出された辺に対向する辺に接続されている。これらレベル設定回路はボンディングパッドにレベルを供給するものであり、ボンディングパッドに接続されていればよく、その接続点は特に限定されない。
内部RASB配線は、ボンディングパッド201−1から節点Dを経由して入力レシーバ回路208を接続している。また節点Dからは別のボンディングパッド201−2に接続している。同様に内部CASB配線はボンディングパッド202−1,202−2、節点E、入力レシーバ回路210を接続する。内部WEB配線はボンディングパッド203−1,203−2、節点F、入力レシーバ回路212を接続している。それぞれの入力レシーバ回路は、チップ内部信号である信号CRASB,CCASB,CWEBを出力している。
レベル検出回路224,225,226は、それぞれの入力レシーバ回路208、210,212の近傍に配置される。入力レシーバ回路208近傍の内部RASB配線にレベル検出回路224として、トライステート型インバータ207を配置する。入力信号として内部RASB配線が入力され、高位側電源イネーブル信号MONEBと、低位側電源イネーブル信号MONEが入力される。同様に、レベル検出回路225として、入力レシーバ回路210近傍の内部CASB配線に、内部CASB配線を入力とするトライステート型インバータ209を配置する。レベル検出回路226として、入力レシーバ回路212近傍の内部WEB配線に、内部WEB配線を入力とするトライステート型インバータ211を配置する。レベル検出回路225,226は、高位側電源イネーブル信号MONEBと、低位側電源イネーブル信号MONEが入力される。
トライステート型インバータ207,209,211のそれぞれは、出力としてRASB出力、CASB出力、WEB出力を判定回路213に出力する。判定回路は入力されたRASB出力、CASB出力およびWEB出力のすべてが“H”または“L”にそろった場合にのみ判定出力は“H”となり、それ以外は“L”となる。これらの論理を実現する回路構成は、特に限定されるものではない。本実施例においてはAND回路214およびNOR回路215およびそれぞれの出力のオアをとるOR回路216により構成している。この回路例では、入力信号のAND論理を取ることで、入力全て“H”である場合には、AND回路214が“H”出力する。または、入力信号のNOR論理を取ることで、入力全て“L”である場合には、NOR回路215が“H”出力する。それらのどちらかの出力が“H”の場合に、OR回路216の出力が”H”となる。仮にOR回路216の出力が“L”ならば、内部配線に欠陥があることを示している。
これらのテスト回路の動作を簡単に説明する。テスト時にはレベル検出回路の高位側電源イネーブル信号MONEBを“L”、低位側電源イネーブル信号MONEを“H”とし、トライステート型インバータをイネーブル状態にする。さらにレベル設定回路の高位側電源イネーブル信号UPEBを“L”、低位側電源イネーブル信号UPEを“H”とし、トライステート型インバータをイネーブル状態にする。プルダウン期間にはレベル設定回路の入力信号DATAを“H”として、それぞれのボンディングパッドに“L”レベルを供給する。供給された“L”レベルは内部配線を経由してレベル検出回路に入力される。レベル検出回路はそのレベルを反転して、判定回路に出力する。
プルアップ期間にはレベル設定回路の入力信号DATAを“L”として、それぞれのボンディングパッドに“H”レベルを供給する。供給された“H”レベルは内部配線を経由してレベル検出回路に入力される。レベル検出回路はそのレベルを反転して、判定回路に出力する。パッド配線に欠陥がない場合にはレベル検出回路の出力が全て同じレベルとなり、判定回路は“H”出力する。パッド配線に欠陥がある場合には、欠陥のあるパッド配線を入力とするレベル検出回路の出力が異なるレベルとなり、判定回路は“L”出力する。このように判定回路の出力レベルにより、パッド配線の欠陥が判定できる。
また判定回路の判定出力をどのようにチップ外部にテスト結果として取り出すのかについては、特に限定されるものではない。例としては、テストモード信号によりイネーブルとなる信号経路を出力バッファに接続させ、特定の出力パッドから信号を取り出すやり方などが考えられる。さらには、判定値を用いて、スタンバイ状態にあるチップのDC電流値を増減させるなどの方法も容易に類推可能である。
また、入力レシーバ回路208,210,212そのものにトライステート型インバータ207,209,211の役割を負わせる実施例も容易に考えられる。その場合、前記のトライステート型インバータ207、209、211は必要なくなる。しかし、テスト時であることを、通常時と区別するためのMONEなどの信号は必要で、それらがこの場合には、入力初段208,210,211の論理部に入力されるであろうことは容易に考えられる。また、その場合の入力初段の出力を判定回路に入力させる方法も前記と同様であり、その際にテストモードである場合を区別させるための制御信号と、信号を通常動作の場合の経路以外に、判定回路に導く経路を設置するなどの実施例が考えられる。
本実施例のテスト回路は、未検査のボンディングパッドにレベル設定回路、検査済の内部回路近傍の内部配線にレベル検出回路、レベル検出回路の出力を入力される判定回路から構成される。内部配線に不具合がある場合には、レベル設定回路から供給されるレベルをレベル検出回路で検出し、判定回路の論理レベルにより、内部配線の不具合が検出できる。これらの構成とすることで、未検査のボンディングパッドが接続された内部配線の不具合を検出するテスト回路及びテスト回路を備えた半導体装置が得られる。
上記した実施例においては、便宜上、RASB、CASB、WEBなどの信号名を用いたが、明らかに任意の信号に対しても適応可能である。さらに、対象となるボンディングパッドの数、内部回路の数または、配線の数は上記した数に限らず、任意に多く設定できることは明らかである。本願発明は前記実施例に限定されるものではなく、本発明の概念を超えない範囲で、種々変更して実施することが可能であり、これらが本願に含まれることはいうまでもない。
実施例1に係るテスト回路図である。 実施例1に係るパッド配線に欠陥がない場合の動作波形図である。 実施例1に係るパッド配線に欠陥がある場合の動作波形図である。 実施例2に係るテスト回路図である。
符号の説明
101−1,101−2、102−1,102−2、103−1,103−2 ボンディングパッド
104,106,108 Pチャネル型トランジスタ
105,107,109 Nチャネル型トランジスタ
110,112,114 トライステート型インバータ
111,113,115 入力レシーバ回路
121,122,123 レベル設定回路
124,125,126 レベル検出回路
201−1,201−2、202−1,202−2、203−1,203−2 ボンディングパッド
204,205,206 トライステート型インバータ
207,209、211 トライステート型インバータ
208,210,212 入力レシーバ回路
213 判定回路
214 AND回路
215 NOR回路
216 OR回路
221,222,223 レベル設定回路
224,225,226 レベル検出回路

Claims (11)

  1. ボンディングオプションとして複数のボンディングパッドを有する半導体装置において、特定のボンディングパッドを使用して動作試験を行い、前記動作試験に使用されていないボンディングパッドと、内部回路とを接続する内部配線をテストするテスト回路を備えたことを特徴とする半導体装置。
  2. 前記テスト回路は、前記動作試験に使用されていないボンディングパッドに接続されたレベル設定回路と、前記内部回路の近傍の内部配線に接続されたレベル検出回路から構成されたことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記レベル設定回路は、前記動作試験に使用されていないボンディングパッドを、ハイレベル及びローレベルに駆動する駆動手段を備えたことを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。
  4. 前記駆動手段を構成するトランジスタのチャネル長(L)は、チャネル幅(W)より大きく設定されていることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。
  5. 前記レベル設定回路は、高位側電源イネーブル信号により活性化され前記内部配線をハイレベルに駆動する第1のトランジスタと、低位側電源イネーブル信号により活性化され前記内部配線をローレベルに駆動する第2のトランジスタとを備えたことを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。
  6. 前記レベル設定回路は、入力信号と、高位側電源イネーブル信号及び低位側電源イネーブル信号を入力とするトライステート型インバータで構成されたことを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。
  7. 前記レベル検出回路は、前記内部配線の信号レベルを反転して出力するトライステート型インバータにより構成され、前記トライステート型インバータの出力は、他の内部配線に対し同様に構成されたトライステート型インバータの出力と共通接続されたことを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。
  8. 前記テスト回路は、前記レベル検出回路の出力を入力とする判定回路をさらに備えたことを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。
  9. 前記判定回路は、前記内部配線に設けられたレベル検出回路の出力と、他の内部配線に設けられたレベル検出回路の出力とを比較し、前記出力が同一レベルであるかどうかを判定することを特徴とする請求項8に記載の半導体装置。
  10. ボンディングパッドに接続されたレベル設定回路と、前記ボンディングパッドと内部回路とを接続する内部配線に接続されたレベル検出回路とを備え、前記レベル設定回路に接続されたボンディングパッドと前記内部回路との接続状態をテストすることを特徴とするテスト回路。
  11. 前記レベル検出回路の出力を入力とする判定回路をさらに備えたことを特徴とする請求項10に記載のテスト回路。
JP2005161119A 2005-06-01 2005-06-01 半導体装置 Expired - Fee Related JP4618598B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005161119A JP4618598B2 (ja) 2005-06-01 2005-06-01 半導体装置
US11/554,259 US7701789B2 (en) 2005-06-01 2006-10-30 Semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005161119A JP4618598B2 (ja) 2005-06-01 2005-06-01 半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006339338A true JP2006339338A (ja) 2006-12-14
JP4618598B2 JP4618598B2 (ja) 2011-01-26

Family

ID=37559642

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005161119A Expired - Fee Related JP4618598B2 (ja) 2005-06-01 2005-06-01 半導体装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7701789B2 (ja)
JP (1) JP4618598B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012174309A (ja) * 2011-02-22 2012-09-10 Elpida Memory Inc 半導体装置及びその試験方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES2949074T3 (es) * 2012-09-24 2023-09-25 Abb Schweiz Ag Dispositivo sensor de tensión
KR102183424B1 (ko) * 2015-07-06 2020-11-26 삼성전기주식회사 적층 전자부품 및 적층 전자부품의 실장 기판
KR102298923B1 (ko) 2017-05-24 2021-09-08 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 장치, 테스트 방법 및 이를 포함하는 시스템
KR102660897B1 (ko) 2019-01-11 2024-04-24 삼성전자주식회사 멀티 칩 패키지

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS609134A (ja) * 1983-06-29 1985-01-18 Fujitsu Ltd 半導体装置
JPH063400A (ja) * 1992-06-19 1994-01-11 Fujitsu Ltd テスト回路
JPH0758145A (ja) * 1993-08-16 1995-03-03 Hitachi Ltd 半導体チップ
JPH11274222A (ja) * 1998-03-26 1999-10-08 Nec Corp 半導体装置及びシングルチップマイクロコンピュータ

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6812726B1 (en) * 2002-11-27 2004-11-02 Inapac Technology, Inc. Entering test mode and accessing of a packaged semiconductor device
US6522160B1 (en) * 2001-06-13 2003-02-18 Micron Technology, Inc. Input buffer with automatic switching point adjustment circuitry, and synchronous DRAM device including same
JP2003132698A (ja) 2001-10-22 2003-05-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd メモリテスト回路
KR100476900B1 (ko) * 2002-05-22 2005-03-18 삼성전자주식회사 테스트 소자 그룹 회로를 포함하는 반도체 집적 회로 장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS609134A (ja) * 1983-06-29 1985-01-18 Fujitsu Ltd 半導体装置
JPH063400A (ja) * 1992-06-19 1994-01-11 Fujitsu Ltd テスト回路
JPH0758145A (ja) * 1993-08-16 1995-03-03 Hitachi Ltd 半導体チップ
JPH11274222A (ja) * 1998-03-26 1999-10-08 Nec Corp 半導体装置及びシングルチップマイクロコンピュータ

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012174309A (ja) * 2011-02-22 2012-09-10 Elpida Memory Inc 半導体装置及びその試験方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20090008640A1 (en) 2009-01-08
US7701789B2 (en) 2010-04-20
JP4618598B2 (ja) 2011-01-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7960983B2 (en) Circuit for detecting bonding defect in multi-bonding wire
KR20070109434A (ko) 반도체 칩의 오픈 테스트(open test) 및 쇼트테스트(short test) 방법 및 반도체 테스트시스템
US7622953B2 (en) Test circuit, selector, and semiconductor integrated circuit
JPWO2007097053A1 (ja) 半導体集積回路とその検査方法
JP4618598B2 (ja) 半導体装置
US7622940B2 (en) Semiconductor device having contact failure detector
JP2009264948A (ja) 半導体装置
JP2010266254A (ja) 半導体装置のオープンテスト回路、オープンテスト回路を備えた半導体チップ及び半導体装置
US7847574B2 (en) Semiconductor device
US6546510B1 (en) Burn-in mode detect circuit for semiconductor device
US20080093597A1 (en) Semiconductor device
JP2006269901A (ja) 半導体集積回路、およびボンディングオプションパッドの検査方法
JP2011158347A (ja) 半導体装置および検査システム
JP4365433B2 (ja) 半導体集積回路
JP2012063198A (ja) 半導体装置、半導体テスタおよび半導体テストシステム
JP4690731B2 (ja) 半導体装置とそのテスト装置及びテスト方法。
JP2011080808A (ja) 半導体集積回路および半導体集積回路のテスト方法
JP4116693B2 (ja) リーク電流対応型低電力半導体集積回路及びリーク検査方法
KR101917718B1 (ko) 반도체 집적회로
TWI782339B (zh) 晶片內去耦電容器電路的測試系統及方法
JP2010249689A (ja) 配線故障検査装置及び方法
JP2010217991A (ja) 半導体装置およびその試験方法
JP3565283B2 (ja) 半導体集積回路
JPH0517667Y2 (ja)
JP2001296334A (ja) 集積回路および故障検出方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070305

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100721

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100722

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100914

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101006

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101018

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131105

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees