JP2011080808A - 半導体集積回路および半導体集積回路のテスト方法 - Google Patents

半導体集積回路および半導体集積回路のテスト方法 Download PDF

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Abstract

【課題】内部電源ノイズを正確に測定を行える半導体集積回路の提供。
【解決手段】TEST信号を出力するテスト制御回路101と、テストモード対応バッファ回路111と、通常出力バッファ回路113とを具備する。テストモード対応バッファ回路111は、TEST信号としてテストモードを示す第1TEST信号を受け取ると、第1TEST信号を受けている間、第1端子121を介して内部の電源電圧又は接地電圧に固定された第1出力信号を出力し、TEST信号として通常モードを示す第2TEST信号を受け取ると、通常動作の入力バッファとして外部信号を受け取る、又は、通常動作の出力バッファとして第2出力信号を出力する。通常出力バッファ回路113は、テストモード対応バッファ回路111がTEST信号に基づいて動作する間、第2端子123を介して通常動作の出力バッファとして第3出力信号を出力する。
【選択図】図2

Description

本発明は、半導体集積回路に関し、特に半導体集積回路の内部に発生する電源電圧及び接地電圧のノイズを観測できる半導体集積回路に関する。
近年、半導体集積回路は、益々高速動作が要求され、動作電流が増大する傾向にある。しかし、動作電流が増大した半導体集積回路は、信号の反転や回路内部の電流の変化等に伴う電源電圧及び接地電圧のノイズが増大する傾向にある。一方で、半導体集積回路は、素子の微細化が進み、電源電圧が低電圧になっている。電源電圧が低電圧である半導体集積回路は、ノイズに対する回路動作マージンが小さい。このような状況下において、半導体集積回路の内部の電源電圧及び接地電圧のノイズを観測することは大変重要である。しかし、製品として封止された半導体集積回路は、配線に直接探針させることができないため、ノイズを観測することが困難であった。
半導体集積回路のノイズを評価する技術として、特許文献1が開示されている。特許文献1の半導体装置は、データを出力する複数の外部端子と、通常の動作モードにおいて動作状態となり、テストモードにおいて所定の試験選択信号に基づいて選択的に動作状態となる複数の出力バッファとを具備することを特徴としている。特許文献1の半導体装置は、多ビット構成のデュアルポートメモリを例に、複数の外部端子を選択的に活性化し、選択されたビットの外部端子の論理レベルを任意に選択できるテストモードを設けている。このような半導体装置は、複数の出力バッファが動作状態となることで、電源ノイズの大きさと電源ノイズによる動作特性の変化とを、定量的に効率よく評価・解析できるため、多ビット構成のデュアルポートメモリの信頼性を高めることができるというものである。
特開平5−174599号公報
製品として封止された後の半導体集積回路(特に半導体記憶装置)の内部の電源電圧及び接地電圧を観測する方法として以下の方法が考えられる。多ビットの出力端子を有する半導体集積回路は、ある特定の1ビットに対して常に「1」又は「0」が書き込まれると、当該ビットの出力端子の出力信号を常にハイレベル又はローレベルに固定することができる。ここで得られるハイレベルは、出力トランジスタを介して、電気的に接続された半導体集積回路の内部の電源電圧である。ローレベルも同様に、出力トランジスタを介して接続された半導体集積回路の内部の接地電圧である。
図1は、半導体集積回路が出力する出力信号の電圧変動を示した図である。図1の(a)を参照すると、「1」に固定された出力端子から出力される出力信号には、内部の電源(Vcc)電圧の変動が現れる。一方、図1の(b)を参照すると、「0」に固定された出力端子から出力される出力信号には、内部の接地(Vss)電圧の変動が現れる。図1の(c)は通常動作を表しており、通常動作を行う出力端子から出力される出力信号は、内部の電源電圧の影響を受けながら、適宜、反転を繰り返す。従って、ユーザは、半導体集積回路の特定の出力端子から出力される出力信号をハイレベル又はローレベルに固定することで、内部の電源電圧又は接地電圧のノイズを擬似的に観測することができる。
しかし、多ビットの出力端子を有する半導体集積回路(半導体記憶装置)において、特定の出力端子の入出力信号を固定し、内部の電源電圧及び接地電圧を観測する場合、当然、新たなテストパタンを作る必要がある。また、製品の仕様上、出力トランジスタのインピーダンスが大きい半導体集積回路は、出力信号に内部の電源電圧の変動を、正しく出力電圧の変動として反映させられない可能性がある。更に、I/Oコモンの半導体集積回路は、書込み時にデータ出力回路が非活性化されるため、ユーザが書込み時における内部の電圧を観測できない問題も生じる。従って、このような問題を考慮して、半導体集積回路の内部の電源電圧及び接地電圧のノイズを適切に観測できることが求められている。
特許文献1の半導体装置(ランダム入出力回路及びシリアル入出力回路)は、通常動作時には、全出力端子が共通に活性化制御される。一方、特許文献1の半導体装置は、テストモード時には、任意、且つ、複数の出力端子を選択的に活性化し、選択された出力端子の論理レベルを指定することができる。しかし、特許文献1の半導体装置は、テストモード時において、選択されない出力端子に接続された出力バッファ回路が動作しなくなるため、通常動作時よりも出力信号を反転させる電流が減り、ノイズ量も小さくなってしまう。また、特許文献1の半導体装置は、テストモード時に、仮に全ての出力端子を活性化するように選択したとしても、データの論理レベルを選択的に固定してしまうため、信号の反転が起こらなくなってしまう。特許文献1の半導体装置は、任意の出力端子の出力信号を選択的に固定レベルにすれば、内部の電源電圧を擬似的に観測することはできる。しかし、特許文献1の半導体装置は、テストモード時の動作が通常動作時とは大きく異なるため、通常動作時の電源ノイズを正しく反映させることができない問題がある。
以下に、発明を実施するための形態で使用される符号を括弧付きで用いて、課題を解決するための手段を記載する。この符号は、特許請求の範囲の記載と発明を実施するための形態の記載との対応を明らかにするために付加されたものであり、特許請求の範囲に記載されている発明の技術的範囲の解釈に用いてはならない。
本発明の半導体集積回路(100)は、テストモード又は通常モードを示すTEST信号を出力するテスト制御回路(101)と、第1端子(121)に接続され、TEST信号を受け取るテストモード対応バッファ回路(111)と、出力端子である第2端子(123)に接続される出力バッファ回路(113)とを具備する。テストモード対応バッファ回路(111)は、TEST信号としてテストモードを示す第1TEST信号を受け取ると、第1TEST信号を受けている間、第1端子(121)を介して内部の電源電圧又は接地電圧に固定された第1出力信号を出力し、TEST信号として通常モードを示す第2TEST信号を受け取ると、通常動作の入力バッファとして外部信号を受け取る、又は、通常動作の出力バッファとして第2出力信号を出力する。出力バッファ回路(113)は、テストモード対応バッファ回路(111)がTEST信号に基づいて動作する間、第2端子(123)を介して通常動作の出力バッファとして第3出力信号を出力する。
本発明の半導体集積回路(100)のテスト方法は、テストモード又は通常モードを示すTEST信号を出力するステップと、第1端子(121)に接続されるテストモード対応バッファ回路(111)が、TEST信号を受け取るステップと、TEST信号に基づいて、テストモード対応バッファ回路(111)が動作するステップと、出力端子である第2端子(123)に接続される出力バッファ回路(113)が、テストモード対応バッファ回路(111)がTEST信号に基づいて動作する間、第2端子(123)を介して通常動作の出力バッファとして第3出力信号を出力するステップとを具備する。テストモード対応バッファ回路(111)が動作するステップは、TEST信号としてテストモードを示す第1TEST信号を受け取る場合、第1TEST信号を受けている間、第1端子(121)を介して内部の電源電圧又は接地電圧に固定された第1出力信号を出力するステップと、TEST信号として通常モードを示す第2TEST信号を受け取る場合、通常動作をするステップとを備える。通常動作をするステップは、通常動作の入力バッファとして外部信号を受け取るステップ、又は、通常動作の出力バッファとして第2出力信号を出力するステップを含む。
本発明の半導体集積回路は、選択的に特定の出力端子の論理レベルを固定し、且つ、それ以外の出力端子は通常の動作を行うことができるため、実使用時の内部電源ノイズを正確に再現することができる。
図1は、半導体集積回路が出力する出力信号の電圧変動を示した図である。 図2は、本発明の第1の実施の形態の半導体集積回路100を示すブロック図である。 図3は、通常出力バッファ回路113としてのデータ出力回路200を示した図である。 図4は、データ出力回路1としてのテストモード対応バッファ回路111を示した図である。 図5は、データ出力回路1における、通常動作時の入力信号及び出力信号のタイミングチャートである。 図6は、データ出力回路1における、テストモード時の入力信号及び出力信号のタイミングチャートである。 図7は、テストモード対応バッファ回路111として、他の実施の形態によるデータ出力回路10を示した図である。 図8は、入力端子として定義されている端子に、テストモード対応バッファ回路111であるデータ入力回路を適用する場合を示した図である。 図9は、本発明の半導体集積回路100のレイアウトの具体例を示した図である。 図10は、図9におけるA点とB点との電圧の挙動を示したグラフである。 図11は、選択型のテスト制御回路103を具備する本発明の半導体集積回路100を示すブロック図である。
以下、添付図面を参照して本発明の実施の形態による半導体集積回路を説明する。
(第1の実施の形態)
図2は、本発明の第1の実施の形態による半導体集積回路100を示すブロック図である。図2を参照すると、半導体集積回路100は、テスト制御回路101と、複数のテストモード対応バッファ回路111、112と、通常出力バッファ回路113と、複数の端子121、122、123とを具備する。尚、テスト制御回路101は、半導体集積回路100に複数含まれていてもよい。また、半導体集積回路100に含まれる、テストモード対応バッファ回路及び通常出力バッファ回路及び端子の数は、図2に示した数に限定するものではない。
テスト制御回路101は、テストモード又は通常モードを示すTEST信号をテストモード対応バッファ回路111と、テストモード対応バッファ回路112とへ出力する。
テストモード対応バッファ回路111は、端子121に接続され、テスト制御回路101からTEST信号を受け取る。テストモード対応バッファ回路112も同様に、端子122に接続され、テスト制御回路101からTEST信号を受け取る。テストモード対応バッファ回路111及びテストモード対応バッファ回路112は、テストモードを示すTEST信号を受け取ると、そのTEST信号を受けている間(テスト期間)、各々接続されている端子121、122を介して、回路内部の電源電圧又は接地電圧に固定された出力信号を出力する。また、テストモード対応バッファ回路111及びテストモード対応バッファ回路112は、通常モードを示すTEST信号を受け取ると、各々通常動作を行う。テストモード対応バッファ回路111及びテストモード対応バッファ回路112は、入力バッファと、出力バッファと、入出力バッファとの何れでもよい。従って、テストモード対応バッファ回路111及びテストモード対応バッファ回路112は、入力バッファ(入出力バッファ)の場合、通常動作として図示されていない外部装置が出力した外部信号を受け取る。テストモード対応バッファ回路111及びテストモード対応バッファ回路112が出力バッファ(入出力バッファ)の場合、通常動作として伝送される信号を受け取り、出力信号を出力する。
通常出力バッファ回路113は、出力端子である端子123に接続される出力バッファである。通常出力バッファ回路113は、テストモード対応バッファ回路111及びテストモード対応バッファ回路112がTEST信号に基づいて動作する間、端子123を介して通常動作の出力バッファとして、伝送される信号を受け取り、出力信号を出力する。
本発明の半導体集積回路100のテスト方法は、概略以下の動作を行う。まず、テスト制御回路101がテストモード又は通常モードを示すTEST信号を出力する。テストモード対応バッファ回路111、112はTEST信号を受信し、TEST信号に基づいて動作する。出力端子である端子123に接続される通常出力バッファ回路113は、テストモード対応バッファ回路111、112がTEST信号に基づいて動作する間、端子123を介して通常動作の出力バッファとして出力信号を出力する。テストモード対応バッファ回路111、112の動作は、テストモードを示すTEST信号を受け取る場合、TEST信号を受けている間、端子121、122を介して内部の電源電圧又は接地電圧に固定された出力信号を出力する。通常モードを示すTEST信号を受け取る場合、通常動作をする。通常動作は、通常動作の入力バッファとして外部信号を受け取る、又は、通常動作の出力バッファとして出力信号を出力する。言い換えると、テストモード対応バッファ回路111、112は、テスト期間としてテストモードを示すTEST信号に応答し、端子122、123を電源電圧又は接地電圧に固定する。そして、通常出力バッファ回路113は、テストモードを示すTEST信号に応答することなく、端子123に伝送される信号(入力データ)に応じた出力信号(出力データ)を出力する。
本発明の半導体集積回路100におけるテストモード対応バッファ回路111、テストモード対応バッファ回路112及び通常出力バッファ回路113の詳細を説明する。まず、通常の出力バッファである通常出力バッファ回路113について説明する。図3は、通常出力バッファ回路113としてのデータ出力回路200を示した図である。図3を参照すると、データ出力回路200は、NAND回路201と、インバータ回路202と、NOR回路203と、Pchトランジスタ204と、Nchトランジスタ205とを備える。
NAND回路201は、出力端子がPchトランジスタ204のゲート端子に接続される。NOR回路203は、出力端子がNchトランジスタ205のゲート端子に接続される。Pchトランジスタ204と、Nchトランジスタ205とは、出力信号を制御する出力トランジスタであり、インバータを構成する。Pchトランジスタ204は、ソース端子が回路内部の電源電圧を供給する電源(Vcc)に接続され、ドレイン端子がNchトランジスタ205のドレイン端子に接続される。Nchトランジスタ205は、ソース端子が回路内部の接地電圧を供給する接地(Vss)に接続される。
DATA信号は、半導体集積回路100のメモリセル(図示省略)から伝送されるデータであり、データバス信号を示す。DATA信号に基づいて、入力アドレスに従って選択されたメモリセルの情報は伝達される。OE信号(制御信号)は、出力端子の活性化を制御する内部出力制御信号を示す。つまり、OE信号はDATA信号の出力を制御する。
NAND回路201は、DATA信号とOE信号とを受信し、否定論理積の演算結果を示す信号をPchトランジスタ204へ出力する。NOR回路203は、DATA信号と、インバータ回路202がOE信号を反転した信号とを受信し、否定論理和の演算結果を示す信号をNchトランジスタ205へ出力する。Pchトランジスタ204及びNchトランジスタ205は、NAND回路201から出力される信号と、NOR回路203から出力される信号とに基づいて出力信号を出力する。
データ出力回路200は、OE信号がハイレベルの時、出力トランジスタ(Pchトランジスタ204、Nchトランジスタ205)は活性化される。また、データ出力回路200は、I/Oコモン仕様の製品の場合、書込み時においてOE信号がローレベルとなり、出力トランジスタは非活性となる。そのとき、外部装置からの外部信号が、図示していない入力回路に伝達される。
次に、本発明の半導体集積回路100における、テストモード対応バッファ回路111、及びテストモード対応バッファ回路112を説明する。尚、テストモード対応バッファ回路111と、テストモード対応バッファ回路112とは、同じ構成であるためテストモード対応バッファ111を用いて説明を行う。本発明の半導体集積回路100が半導体記憶装置の場合、テストモード対応バッファ回路111は、半導体記憶装置に複数含まれるデータ出力回路及びデータ入力回路として用いることができる。図4は、データ出力回路1としてのテストモード対応バッファ回路111を示した図である。図4を参照すると、テストモード対応バッファ回路111であるデータ出力回路1は、判定部2と、制御部3とを具備する。判定部2は、出力端子が制御部3に接続される。
判定部2は、伝送されるデータを示すDATA信号と、DATA信号を制御するOE信号と、TEST信号(/TEST_V信号、/TEST_G信号)とを受信する。本発明のデータ出力回路1が受信する入力信号のDATA信号とOE信号とは、図3に示したデータ出力回路200と同様である。また、TEST信号は、データ出力回路1がテストモードとなるためのテストエントリ信号を示す。判定部2は、TEST信号に基づいてTEST信号又はDATA信号の何れか一方に対応する第1信号を出力し、TEST信号とOE信号に基づいて第1信号を制御する制御信号を出力する。
制御部3は、第1信号と制御信号とを受信する。制御部3は、第1信号がTEST信号に対応する場合、回路内部の電源電圧又は接地電圧で、第1信号に対応する出力信号を出力する。また、制御部3は、第1信号がDATA信号に対応する場合、制御信号に基づいて回路内部の電源電圧又は接地電圧で第1信号に対応する出力信号を出力する。
判定部2と制御部3の構成の詳細を説明する。判定部2は、NAND回路21と、Pchトランジスタ22と、インバータ回路23と、Nchトランジスタ24と、Pchトランジスタ25と、インバータ回路26と、Nchトランジスタ27と、NOR回路28とを備える。
NAND回路21は、出力端子がノード53、54を介してPchトランジスタ22のゲート端子及びインバータ回路23に接続される。インバータ回路23は、出力端子がNchトランジスタ24のゲート端子に接続される。また、NAND回路21は、出力端子がノード53を介してNOR回路28に接続される。
Pchトランジスタ22と、Nchトランジスタ24とは、トランスファーゲートを構成する。Pchトランジスタ22及びNchトランジスタ24は、出力端子がノード55、56を介して制御部3(後述するNAND回路32、NOR回路33)へ接続される。
Pchトランジスタ25と、Nchトランジスタ27とは、インバータを構成する。Pchトランジスタ25は、ソース端子が電源に接続され、ドレイン端子がNchトランジスタ27のドレイン端子に接続される。Nchトランジスタ27は、ソース端子が接地に接続される。Pchトランジスタ25及びNchトランジスタ27のドレイン端子は、ノード55、56を介して制御部3(後述するNAND回路32、NOR回路33)へ接続される。また、NOR回路28は、出力端子がノード57を介して制御部3(後述するインバータ回路31、NOR回路33)へ接続される。
制御部3は、インバータ回路31と、NAND回路32と、NOR回路33と、Pchトランジスタ34と、Nchトランジスタ35とを備える。
インバータ回路31は、出力端子がNAND回路32に接続される。NAND回路32は、出力端子がPchトランジスタ34のゲート端子に接続される。NOR回路33は、出力端子がNchトランジスタ35のゲート端子に接続される。
Pchトランジスタ34と、Nchトランジスタ35とは、インバータを構成する。Pchトランジスタ34は、ソース端子が電源電圧を供給する電源に接続され、ドレイン端子がNchトランジスタ35のドレイン端子に接続される。Nchトランジスタ35は、ソース端子が接地電圧を供給する接地に接続される。
本発明の半導体集積回路100におけるデータ出力回路1の動作を説明する。NAND回路21は、ノード51を介して/TEST_V信号を受信し、ノード52を介して/TEST_G信号を受信する。NAND回路21は、/TEST_V信号と/TEST_G信号とに基づき、否定論理積の演算結果を示す信号を、ノード53を介して出力する。
Pchトランジスタ22は、NAND回路21から出力される信号を、ノード54を介して受信する。Nchトランジスタ24は、インバータ回路23によって反転された信号を受信する。Pchトランジスタ22及びNchトランジスタ24は、それら受信した信号に基づいて、DATA信号に対応する第1信号を、ノード55、56を介して制御部3へ出力するか否かを制御する。詳細には、Pchトランジスタ22及びNchトランジスタ24は、NAND回路21から出力される/TEST_V信号又は/TEST_G信号の一方がローレベルであり他方がハイレベルであることに対応する信号に基づいて、DATA信号に対応する第1信号を出力しないように制御する。また、Pchトランジスタ22及びNchトランジスタ24は、NAND回路21から出力される/TEST_V信号と/TEST_G信号とが共にハイレベルであることに対応する信号に基づいて、DATA信号に対応する第1信号を出力する。
Pchトランジスタ25は、/TEST_V信号を、ノード51を介して受信する。Nchトランジスタ27は、インバータ回路26がノード52を介して受信した/TEST_G信号を反転した信号を受信する。Pchトランジスタ25及びNchトランジスタ27は、それら受信した信号に基づいて、/TEST_V信号及び/TEST_G信号に対応する第1信号を、ノード55、56を介して制御部3へ出力するか否かを制御する。詳細には、Pchトランジスタ25及びNchトランジスタ27は、/TEST_V信号又は/TEST_G信号の一方がローレベルであり他方がハイレベルであるTEST信号に基づいて、TEST信号に対応する第1信号を出力する。また、Pchトランジスタ25及びNchトランジスタ27は、/TEST_V信号と/TEST_G信号とが共にハイレベルであるTEST信号に基づいて、TEST信号に対応する第1信号を出力しないように制御する。
NOR回路28は、NAND回路21から出力される信号を、ノード53を介して受信する。NOR回路28は、NAND回路21から出力される信号とOE信号とを受信し、否定論理和の演算結果を示す信号を制御信号として制御部3へ出力する。
NAND回路32は、DATA信号に対応する第1信号又は/TEST_V信号及び/TEST_G信号に対応する第1信号を、ノード55を介して受信する。また、NAND回路32は、インバータ回路31がノード57を介して受信した制御信号を反転させた信号を受信する。NAND回路32は、第1信号と、制御信号が反転した信号とに基づき、否定論理積の演算結果を示す信号をPchトランジスタ34へ出力する。
NOR回路33は、NAND回路32と同様のDATA信号に対応する第1信号又は/TEST_V信号及び/TEST_G信号に対応する第1信号を、ノード56を介して受信する。また、NOR回路33は、NOR回路28が出力する制御信号を、ノード57を介して受信する。NOR回路33は、第1信号と制御信号とを受信し、否定論理和の演算結果を示す信号をNchトランジスタ35へ出力する。
Pchトランジスタ34は、NAND回路32から出力される信号を受信する。Nchトランジスタ35は、NOR回路33から出力される信号を受信する。Pchトランジスタ34及びNchトランジスタ35は、それら受信した信号に基づいて、第1信号、即ち、DATA信号又は/TEST_V信号及び/TEST_G信号に対応する出力信号を、ノード58を介して出力する。詳細には、Pchトランジスタ34は、TEST信号に対応した出力信号を電源電圧で出力し、Nchトランジスタ35は、TEST信号に対応した第1出力信号を接地電圧で出力する。
本発明の半導体集積回路100におけるデータ出力回路1は、テストエントリ信号である/TEST_V信号がローレベルであり、/TEST_G信号がハイレベルの場合、テストモードとなる。そのとき、データ出力回路1は、ノード58を介して出力端子から、電源電位の出力信号を出力する。また、データ出力回路1は、/TEST_V信号がハイレベルであり、/TEST_G信号がローレベルの場合も、テストモードとなる。そのとき、データ出力回路1は、ノード58を介して出力端子から、接地電位の出力信号を出力する。/TEST_V信号と/TEST_G信号とが共にハイレベルの場合は、通常動作モードである。従って、データ出力回路1はテストモードでない通常動作として、ノード58を介して出力端子から、DATA信号に対応した出力信号を出力する。尚、/TEST_V信号と/TEST_G信号とが共にローレベルとなる組合せは存在しない。
図5は、データ出力回路1における、通常動作時の入力信号及び出力信号のタイミングチャートである。図5を参照すると、/TEST_V信号と/TEST_G信号とは、期間A1からA4において、共にハイレベルに設定されている。
期間A1:
データ出力回路1は、ハイレベルの/TEST_V信号と、ハイレベルの/TEST_G信号とを受信する。更に、データ出力回路1は、ハイレベルのOE信号と、ハイレベルのDATA信号とを受信する。この場合、データ出力回路1は、出力信号として、DATA信号のハイレベルに対応するハイレベルの出力信号を出力する。
期間A2:
データ出力回路1は、期間A1と同様に、ハイレベルの/TEST_V信号と、ハイレベルの/TEST_G信号と、ハイレベルのOE信号とを受信する。また、データ出力回路1は、ローレベルのDATA信号を受信する。この場合、データ出力回路1は、出力信号として、DATA信号のローレベルに対応するローレベルの出力信号を出力する。
期間A3:
データ出力回路1は、ハイレベルの/TEST_V信号と、ハイレベルの/TEST_G信号とを受信する。更に、データ出力回路1は、ローレベルのOE信号と、ハイレベルのDATA信号とを受信する。この場合、データ出力回路1は、出力端子がハイインピーダンスとなる。
期間A4:
データ出力回路1は、ハイレベルの/TEST_V信号と、ハイレベルの/TEST_G信号とを受信する。更に、データ出力回路1は、ローレベルのOE信号と、ローレベルのDATA信号とを受信する。この場合、データ出力回路1は、出力端子がハイインピーダンスとなる。
以上のように、データ出力回路1は、/TEST_V信号と/TEST_G信号とが共にハイレベルの場合、通常動作を行う。データ出力回路1は、通常動作時において、OE信号がハイレベルである場合、DATA信号に対応する出力信号を出力する。
図6は、データ出力回路1における、テストモード時の入力信号及び出力信号のタイミングチャートである。図6を参照すると、/TEST_V信号は期間B1からB4においてローレベルに設定され、/TEST_G信号は期間B5からB8においてローレベルに設定されている。
期間B1:
データ出力回路1は、ローレベルの/TEST_V信号と、ハイレベルの/TEST_G信号とを受信する。更に、データ出力回路1は、ハイレベルのOE信号と、ハイレベルのDATA信号とを受信する。この場合、データ出力回路1は、出力信号として/TEST_V信号のローレベルに対応する、電源電圧を反映したハイレベルの出力信号を出力する。
期間B2:
データ出力回路1は、期間B1と同様に、ローレベルの/TEST_V信号と、ハイレベルの/TEST_G信号と、ハイレベルのOE信号とを受信する。また、データ出力回路1は、ローレベルのDATA信号を受信する。この場合も、データ出力回路1は、出力信号として/TEST_V信号のローレベルに対応する、電源電圧を反映したハイレベルの出力信号を出力する。
期間B3:
データ出力回路1は、ローレベルの/TEST_V信号と、ハイレベルの/TEST_G信号とを受信する。更に、データ出力回路1は、ローレベルのOE信号と、ハイレベルのDATA信号とを受信する。この場合も、データ出力回路1は、出力信号として/TEST_V信号のローレベルに対応する、電源電圧を反映したハイレベルの出力信号を出力する。
期間B4:
データ出力回路1は、ローレベルの/TEST_V信号と、ハイレベルの/TEST_G信号とを受信する。更に、データ出力回路1は、ローレベルのOE信号と、ローレベルのDATA信号とを受信する。この場合も、データ出力回路1は、出力信号として/TEST_V信号のローレベルに対応する、電源電圧を反映したハイレベルの出力信号を出力する。
以上のように、データ出力回路1は、/TEST_V信号がローレベルであり、/TEST_G信号がハイレベルの場合、テストモードとなり、OE信号に基づくDATA信号に対応する出力信号を出力せずに、/TEST_V信号のローレベルに対応した出力信号を出力する。このとき出力信号は電源電圧を反映するため、ユーザは半導体集積回路100の内部の電源電圧の変動を観測することで、電源電圧に対するノイズの影響を適切に観測することができる。
期間B5からB8は、前述した期間B1から期間B4と同様である。つまり、データ出力回路1は、/TEST_V信号がハイレベルであり、/TEST_G信号がローレベルの場合テストモードとなり、DATA信号に対応する出力信号を出力せずに、/TEST_G信号のローレベルに対応した出力信号を出力する。そして、出力信号は接地電圧を反映するため、ユーザは半導体集積回路100の内部の接地電圧の変動を観測することで、接地電圧に対するノイズの影響を適切に観測することができる。
即ち、本発明の半導体集積回路100のデータ出力回路1は、/TEST_V信号及び/TEST_G信号の一方がローレベルになると、OE信号の論理レベルに関わらず、出力端子が活性化される。つまり、データ出力回路1は、DATA信号に接続されたスイッチ回路が遮断され、/TEST_V信号がローレベルの場合、データ「1」が、/TEST_G信号がローレベルの場合、データ「0」が、強制的に出力トランジスタ(Pchトランジスタ34、Nchトランジスタ35)に伝達される。また、データ出力回路1は、/TEST_V信号と/TEST_G信号とが共にハイレベルの場合、図3に示すデータ出力回路200と同様な論理動作を行うことができる。
本発明の半導体集積回路100が多ビット構成の半導体記憶装置である場合、各データ出力回路1は、TEST信号に基づいて選択的に出力をハイレベル又はローレベルに固定することができる。従って、本発明の半導体集積回路100は、回路内部の電源電位や接地電位をユーザに観測しやすくする効果を奏する。特に、本発明の半導体集積回路100は、特殊なテストパタンを作成する必要がなく、選択されたデータ出力回路1の出力端子から内部の電源電位を観測できる。また、選択されたデータ出力回路1の出力端子は書込み時も内部の電源電位を出力するため、ユーザはI/Oコモン仕様の製品でも常に内部の電源電位の変動を観測できる。更に、テストエントリしない出力端子は通常動作を行うため、データ出力回路1のスイッチング電流による電源ノイズもほぼ正確に観測することができる。また、テストエントリするビットを変化させながら、それぞれの出力端子から観測する電源ノイズの大きさを比較することで、半導体集積回路100内にあるノイズ源の場所をある程度推定することも可能となる。
図7は、テストモード対応バッファ回路111として、他の実施の形態によるデータ出力回路10を示した図である。図7を参照すると、データ出力回路10は、判定部2と、制御部3と、インバータ4とを具備する。制御部3は、出力端子がインバータ4に接続される。図7のデータ出力回路10は、図4に示したデータ出力回路1にインバータ4を追加したものである。データ出力回路10は、データ出力回路1と同じ構成には同じ符号を用いて説明する。
判定部2及び制御部3は、データ出力回路1と同様である。インバータ4は、テストエントリ時の出力インピーダンスを下げる役割を担っている。インバータ4は、Pchトランジスタ41と、Nchトランジスタ42とを備える。
Pchトランジスタ41は、ソース端子がノード62を介して電源電位を供給する電源に接続され、ドレイン端子がNchトランジスタ42のドレイン端子に接続される。Nchトランジスタ42は、ソース端子がノード63を介して接地電位を供給する接地に接続される。尚、Pchトランジスタ34のソース端子も、ノード62を介して電源に接続され、Nchトランジスタ35のソース端子も、ノード63を介して接地に接続される。Pchトランジスタ34のドレイン端子と、Nchトランジスタ35のドレイン端子と、Pchトランジスタ41のドレイン端子と、Nchトランジスタ42のドレイン端子とは接続される。
本発明の半導体集積回路100におけるデータ出力回路10の動作を説明する。尚、判定部2と制御部3の動作はデータ出力回路1と同様であるため説明を省略する。Pchトランジスタ41は、ゲート端子がノード60を介して/TEST_V信号を受信する。Nchトランジスタ42は、ゲート端子がノード61を介して、インバータ回路26が/TEST_G信号を反転した信号を受信する。Pchトランジスタ41及びNchトランジスタ42は、それら受信した信号に基づいて、/TEST_V信号及び/TEST_G信号に対応する信号を、ノード64を介して出力する。尚、データ出力回路10のタイミングチャートは、図5及び図6と同様である。
製品の仕様によっては、出力端子の出力インピーダンスが必ずしも十分に小さくない場合がある。データ出力回路10は、テストエントリ時の出力インピーダンスを下げることによって、より正確に内部の電源電位の変動を出力端子に伝達するできる効果を奏する。
ここまで、特定の出力端子を選択して、内部電源の変動を観測するテストモードを前提に説明をしたが、テストモード対応バッファ回路111は、前述したようにその他の入出力端子にも適用できる。半導体記憶装置100においてメモリの読み書き動作に直接かかわらない端子、例えば、バウンダリスキャン用の出力端子(TDO)やデータストローブ用のクロック出力端子などが挙げられる。このような端子にテストモード対応バッファ回路111を適用した場合は、データ出力端子にテストエントリすることなく、内部の電源電位変動を観測することができる。この場合、通常のメモリテストを実施しながら、内部電源変動をモニタすることができるので、より実使用時に近い状態を再現できると共に、不具合が発生する瞬間の内部電源ノイズを確実に抽出できるというメリットがある。図8は、入力端子として定義されている端子に、テストモード対応バッファ回路111であるデータ入力回路を適用する場合を示した図である。図8に示すように、トランジスタ(インバータ4)を入力端子に接続することで簡単に実現することができる。尚、図8では、外部装置が出力する外部信号を受信する入力回路は省略されている。
図9は、本発明の半導体集積回路100のレイアウトの具体例を示した図である。図9を参照すると、半導体集積回路100は、電源端子130からの電源配線131の配置に応じた、テストモード対応バッファ回路111と、テストモード対応回路112と、通常出力バッファ回路113とを具備する。このような半導体集積回路100によって、ユーザは電源端子130からの位置が異なるA点とB点での電源の挙動を観測することができる。尚、図9では、テスト制御回路101は省略されている。図10は、図9におけるA点とB点との電圧の挙動を示したグラフである。横軸は時間を示し、縦軸は電圧を示す。
(第2の実施の形態)
図2に示した第1の実施の形態による半導体集積回路100は、テスト制御回路101がテストモード対応バッファ回路111及びテストモード対応バッファ回路112に同じTEST信号を出力している。しかし、テスト制御回路101は、複数のテストモード対応バッファに対してTEST信号を選択的に出力してもよい。図11は、選択型のテスト制御回路103を具備する本発明の半導体集積回路100を示すブロック図である。図11を参照すると、半導体集積回路100は、テスト制御回路103と、複数のテストモード対応バッファ回路111、112と、通常出力バッファ回路113と、複数の端子121、122、123とを具備する。尚、半導体集積回路100に含まれる、テスト制御回路、バッファ回路及び端子の数は、図11に示した数に限定するものではない。
テスト制御回路103は、テストモード対応バッファ回路111とテストモード対応バッファ回路112とのそれぞれに異なるTEST信号(TEST1、TEST2)を選択的に出力することができる。つまり、テスト制御回路103は、テストモードを示すTEST信号(/TEST_Vと、/TEST_Gとの何れか一方がローレベルである信号)を、テストモード対応バッファ回路111と、テストモード対応バッファ回路112とのそれぞれに出力する。
テストモード対応バッファ回路111、112の詳細は、第1の実施の形態と同様である。詳細には、テストモード対応バッファ回路111、112は、テストモードを示すTEST信号を受け取ると、そのTEST信号を受けている間、各々接続されている端子121、122を介して、回路内部の電源電圧又は接地電圧に固定された出力信号を出力する。尚、テスト制御回路103がTEST信号を出力するテストモード対応バッファ回路の数は、図11に示した数に限定するものではない。即ち、第2の実施の形態の半導体集積回路100は、固定になるバッファ回路群と、通常動作をするバッファ回路群とを区別することができ、固定になるバッファ回路群は、テストモードを示すTEST信号(/TEST_Vと、/TEST_Gとの何れか一方がローレベルである信号)を受信し、通常動作をするバッファ回路群は、TEST信号(/TEST_Vと、/TEST_Gとが共にハイレベルである信号)を受信する。本発明の第2の実施の形態による半導体集積回路100は、選択的にTEST信号を出力することができるテスト制御回路103を具備することによって、よりフレキシブルに内部回路の電源ノイズを観測することができる効果を奏する。尚、第2の実施の形態による半導体集積回路100は、バッファ回路側の入力部でAIマスタスライスやFuseなどで入力信号(TEST信号)を固定する方法が例示される。
以上説明したように、本発明の半導体集積回路100は、選択的にテストエントリした端子から、半導体集積回路100の内部で発生する電源ノイズを観測することができる。また、本発明の半導体集積回路100は、テストエントリ時も内部の動作が通常動作とほぼ同様な動きをするため、より実使用に近い環境で、評価解析を特殊なテストパタンを作成することなく簡単に実施することができる。尚、本発明で説明した実施の形態は、矛盾のない範囲で組み合わせることが可能である。
1 データ出力回路
2 判定部
3 制御部
4 インバータ
10 データ出力回路
21 NAND回路
22 Pchトランジスタ
23 インバータ回路
24 Nchトランジスタ
25 Pchトランジスタ
26 インバータ回路
27 Nchトランジスタ
28 NOR回路
31 インバータ回路
32 NAND回路
33 NOR回路
34 Pchトランジスタ
35 Nchトランジスタ
41 Pchトランジスタ
42 Nchトランジスタ
51〜58 ノード
60〜64 ノード
100 半導体集積回路
101 テスト制御回路
111 テストモード対応バッファ回路
112 テストモード対応バッファ回路
113 通常出力バッファ回路
121 端子
122 端子
123 端子
130 電源端子
131 電源配線
200 データ出力回路
201 NAND回路
202 インバータ回路
203 NOR回路
204 Pchトランジスタ
205 Nchトランジスタ

Claims (12)

  1. テストモード又は通常モードを示すTEST信号を出力するテスト制御回路と、
    第1端子に接続され、前記TEST信号を受け取るテストモード対応バッファ回路と、
    出力端子である第2端子に接続される出力バッファ回路と
    を具備し、
    前記テストモード対応バッファ回路は、前記TEST信号として前記テストモードを示す第1TEST信号を受け取ると、前記第1TEST信号を受けている間、前記第1端子を介して内部の電源電圧又は接地電圧に固定された第1出力信号を出力し、前記TEST信号として前記通常モードを示す第2TEST信号を受け取ると、通常動作の入力バッファとして外部信号を受け取る、又は、通常動作の出力バッファとして第2出力信号を出力し、
    前記出力バッファ回路は、前記テストモード対応バッファ回路が前記TEST信号に基づいて動作する間、前記第2端子を介して通常動作の出力バッファとして第3出力信号を出力する
    半導体集積回路。
  2. 請求項1に記載の半導体集積回路であって、
    前記第2TEST信号に基づいて前記第2出力信号を出力する前記テストモード対応バッファ回路は、
    前記第1TEST信号を受け取ると、前記第1TEST信号に対応する信号を出力し、前記第2TEST信号を受け取ると、伝送されるデータを示すDATA信号に対応する信号を出力する判定部と、
    前記第1TEST信号に対応する信号を、前記内部の電源電圧又は接地電圧の前記第1出力信号で出力する制御部と
    を備え、
    前記判定部は、前記DATA信号を制御するOE信号に基づいて、前記DATA信号に対応する信号を制御する制御信号を出力し、
    前記制御部は、前記DATA信号に対応する信号を、前記制御信号に基づいて前記内部の電源電圧又は接地電圧の前記第2出力信号で出力する
    半導体集積回路。
  3. 請求項2に記載の半導体集積回路であって、
    前記判定部は、
    前記TEST信号に基づいて、前記第1TEST信号に対応する信号の出力を制御するインバータと、
    前記TEST信号に基づいて、前記DATA信号に対応する信号の出力を制御するトランスファーゲートと、
    前記TEST信号と前記OE信号とに基づいて、前記制御信号を出力する第1NOR回路と
    を備える
    半導体集積回路。
  4. 請求項3に記載の半導体集積回路であって、
    前記インバータは、前記第1TEST信号を受け取ると、前記第1TEST信号に対応する信号を出力し、
    前記トランスファーゲートは、前記第1TEST信号を受け取ると、前記DATA信号に対応する信号を出力しないように制御する
    半導体集積回路。
  5. 請求項3に記載の半導体集積回路であって、
    前記インバータは、前記第2TEST信号を受け取ると、前記第1TEST信号に対応する信号を出力しないように制御し、
    前記トランスファーゲートは、前記第2TEST信号を受け取ると、前記DATA信号に対応する信号を出力する
    半導体集積回路。
  6. 請求項2乃至5の何れか一項に記載の半導体集積回路であって、
    前記制御部は、
    前記第1TEST信号に対応する信号又は前記DATA信号に対応する信号と、前記制御信号が反転した信号とを受信するNAND回路と、
    前記第1TEST信号に対応する信号又は前記DATA信号に対応する信号と、前記制御信号とを受信する第2NOR回路と、
    前記第2NOR回路の出力端子が接続される第1ゲート端子と、前記内部の接地電圧を供給する接地に接続される第1ソース端子を有する第1Nchトランジスタと、
    前記NAND回路の出力端子が接続される第2ゲート端子と、前記内部の電源電圧を供給する電源に接続される第2ソース端子と、前記第1Nchトランジスタの第1ドレイン端子に接続される第2ドレイン端子とを有する第1Pchトランジスタと
    を備え、
    前記第1Pchトランジスタは、前記第1TEST信号に対応した前記第1出力信号又は前記第2出力信号を前記内部の電源電圧で出力し、
    前記第1Nchトランジスタは、前記第1TEST信号に対応した前記第1出力信号又は前記第2出力信号を前記内部の接地電圧で出力する
    半導体集積回路。
  7. 請求項6に記載の半導体集積回路であって、
    前記TEST信号を受信する第3ゲート端子と、前記内部の接地電圧を供給する接地に接続される第3ソース端子を有する第2Nchトランジスタと、
    前記TEST信号を受信する第4ゲート端子と、前記内部の電源電圧を供給する電源に接続される第4ソース端子と、前記第2Nchトランジスタの第3ドレイン端子に接続される第4ドレイン端子とを有する第2Pchトランジスタと
    を更に具備し、
    前記第1ドレイン端子と、前記第2ドレイン端子と、前記第3ドレイン端子と、前記第4ドレインとは接続される
    半導体集積回路。
  8. テスト期間を示すテストモード信号を出力するテスト制御回路と、
    出力端子に結合し、第1入力データに応じて前記出力端子に第1出力データを出力する出力バッファ回路と、
    所定の端子に結合するテストモード対応バッファ回路と
    を備え、
    前記出力バッファ回路は、前記テスト期間に前記テストモード信号に応答することなく前記出力端子に前記第1入力データに応じた前記第1出力データを出力し、
    前記テストモード対応バッファ回路は、前記テスト期間に前記テストモード信号に応答し、前記所定の端子を電源電位または接地電位に固定すること
    を特徴とする半導体集積回路。
  9. 前記テストモード対応バッファ回路は、前記テスト期間以外は第2入力データに応じた第2出力データを所定の端子に出力する出力バッファ回路であって、
    前記テストモード対応バッファ回路は、前記テスト期間には前記第2入力データに応じることなく前記テストモード信号に応答し、前記所定の端子を前記電源電位または前記接地電位に固定することを特徴とする請求項8に記載の半導体集積回路。
  10. テストモード又は通常モードを示すTEST信号を出力するステップと、
    第1端子に接続されるテストモード対応バッファ回路が、前記TEST信号を受け取るステップと、
    前記TEST信号に基づいて、前記テストモード対応バッファ回路が動作するステップと、
    出力端子である第2端子に接続される出力バッファ回路が、前記テストモード対応バッファ回路が前記TEST信号に基づいて動作する間、前記第2端子を介して通常動作の出力バッファとして第3出力信号を出力するステップと
    を具備し、
    前記テストモード対応バッファ回路が動作するステップは、
    前記TEST信号として前記テストモードを示す第1TEST信号を受け取る場合、前記第1TEST信号を受けている間、前記第1端子を介して内部の電源電圧又は接地電圧に固定された第1出力信号を出力するステップと、
    前記TEST信号として前記通常モードを示す第2TEST信号を受け取る場合、通常動作をするステップと
    を備え、
    前記通常動作をするステップは、
    通常動作の入力バッファとして外部信号を受け取るステップ、又は、通常動作の出力バッファとして第2出力信号を出力するステップ
    を含む
    半導体集積回路のテスト方法。
  11. 請求項10に記載の半導体集積回路のテスト方法であって、
    前記テストモード対応バッファ回路が、通常動作の出力バッファとして前記第2出力信号を出力する場合、
    前記TEST信号を受信するステップは、
    伝送されるデータを示すDATA信号と、前記DATA信号を制御するOE信号とを受信するステップ
    を含み、
    前記第1出力信号を出力するステップは、
    前記第1TEST信号に対応する信号を出力するステップと、
    前記DATA信号に対応する信号を出力しないように制御するステップと、
    前記第1TEST信号に対応する信号を、前記内部の電源電圧又は接地電圧の前記第1出力信号で出力するステップと
    を含む
    半導体集積回路のテスト方法。
  12. 請求項10に記載の半導体集積回路のテスト方法であって、
    前記テストモード対応バッファ回路が、通常動作の出力バッファとして前記第2出力信号を出力する場合、
    前記TEST信号を受信するステップは、
    伝送されるデータを示すDATA信号と、前記DATA信号を制御するOE信号とを受信するステップ
    を含み、
    前記第2出力信号を出力するステップは、
    前記DATA信号に対応する信号を出力するステップと、
    前記OE信号に基づいて、前記DATA信号に対応する信号を制御する制御信号を出力するステップと、
    前記DATA信号に対応する信号を、前記制御信号に基づいて前記内部の電源電圧又は接地電圧の前記第2出力信号で出力するステップと
    を含む
    半導体集積回路のテスト方法。
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