JP2006321687A - 光ファイバ素線の製造方法および光ファイバ素線の製造装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 高速化、長尺化された光ファイバ素線の製造においても、二次被覆装置のニップルへの付着物の付着を防いで、被覆工程を円滑化し、かつ高品位の光ファイバ素線を得る光ファイバ素線の製造方法および光ファイバ素線の製造装置を提供する。
【解決手段】 光ファイバ裸線３の外周に一次被覆樹脂５を被覆し、一次被覆樹脂５を硬化して一次被覆層を形成して一次被覆光ファイバ７とし、一次被覆光ファイバ７の外周に二次被覆装置８により二次被覆樹脂９を被覆し、二次被覆樹脂９を硬化し二次被覆層を形成して光ファイバ素線１１とする被覆工程を備えた光ファイバ素線の製造方法において、被覆工程にて、二次被覆装置８に導入する前の一次被覆光ファイバ７に対して、一次被覆樹脂５に含まれる揮発分が固化したものを溶融する温度のパージガスを吹き付ける。
【選択図】 図１

Description

本発明は、光ファイバの高速紡糸に用いられる光ファイバ素線の製造方法および光ファイバ素線の製造装置に関するものである。

光ファイバ素線は、通常、光ファイバ裸線の外周をヤング率の比較的低い硬化性樹脂で被覆して一次被覆層を形成した後、この一次被覆層の外周をヤング率の比較的高い硬化性樹脂で被覆して二次被覆層を形成することにより得られる。このように光ファイバ裸線を被覆する被覆工程は、光ファバ素線の製造工程の一部として行われる。

図５は、光ファイバ素線の製造工程の一例を示す模式図である。
光ファイバ母材１０１は、加熱炉１０２にて約２０００℃で溶融紡糸され、光ファイバ裸線１０３に形成される。

この光ファイバ裸線１０３は、引き続き一次被覆装置１０４に導入されて、その外周が一次被覆用の紫外線硬化型または熱硬化型などからなる硬化性樹脂１０５で被覆され、引き続き一次硬化装置１０６で紫外線照射または加熱などにより、硬化性樹脂１０５が硬化されて一次被覆層が形成された一次被覆光ファイバ１０７とされる。

この一次被覆光ファイバ１０７は、引き続き二次被覆装置１０８に導入されて、その外周が二次被覆用の硬化性樹脂１０９で被覆され、引き続き二次硬化装置１１０により硬化性樹脂１０９が硬化されて二次被覆層が形成され、二層の硬化樹脂からなる被覆層が設けられた光ファイバ素線１１１とされる。
この光ファイバ素線の製造工程は、被覆層の偏肉などによる障害を避けるために、上方から下方に向けて垂直ライン上で行われる。

近年、光ファイバ素線の製造が高速化、長尺化されるに伴って、被覆工程に種々の問題が発生している。
例えば、一次被覆用の硬化性樹脂１０５が硬化する際には、この硬化反応により生じる熱（以下、「反応熱」という。）によって、硬化性樹脂１０５に含まれる比較的低分子量の未重合成分がガス（以下、「揮発分」という。）となって発生する。この揮発分は、一次硬化装置１０６で発生する。

そして、一次被覆光ファイバ１０７の移動に伴い揮発分も移動して、図６に示すように、揮発分が二次被覆装置１０８のニップル１１２に設けられたコーティングポート１１３の内壁や周辺部に引き込まれる。この揮発分は液化または固化し、コーティングポート１１３の内壁や周辺部に付着する（以下、「付着物１１４」という。）。この付着物１１４は、コーティングポート１１３の光ファイバの導入部（穴）を塞ぐとともに、一次被覆光ファイバ１０７に接触して一次被覆層の表面を粗し、この表面を平滑面で無くしてしまうことがある。

一次被覆層の表面が平滑面でないと、一次被覆層と二次被覆層１１６との界面に空気を巻き込んでしまい、結果として、この界面にボイドが生じるという問題がある。また、付着物１１４のうち固化したものが、二次被覆層１１６に混入する際、二次被覆用樹脂液面を乱し、二次被覆層１１６内にボイドを生じるという問題がある。このように一次被覆層と二次被覆層１１６との界面や二次被覆層１１６内にボイドが存在すると、製品の品質を低下させ、時には断線などの原因ともなり、被覆不能に陥ることがある。
特開２００３−２１２６０５号公報

本発明は、前記事情に鑑みてなされたもの高速化、長尺化された光ファイバ素線の製造においても、二次被覆層中にボイドが生じるのを防いで、被覆工程を円滑化し、かつ高品位の光ファイバ素線を得る光ファイバ素線の製造方法および光ファイバ素線の製造装置を提供するで、ことを目的とする。

本発明の請求項１に係る光ファイバ素線の製造方法は、光ファイバ裸線の外周に一次被覆用の硬化性樹脂を被覆し、該一次被覆用の硬化性樹脂を硬化して一次被覆層を形成して一次被覆光ファイバとし、該一次被覆光ファイバの外周に二次被覆装置により二次被覆用の硬化性樹脂を被覆し、該二次被覆用の硬化性樹脂を硬化し二次被覆層を形成して光ファイバ素線とする被覆工程を備えた光ファイバ素線の製造方法であって、前記二次被覆装置に導入する前の一次被覆光ファイバに対して、前記一次被覆用の硬化性樹脂に含まれる揮発分の固化したものを溶融する温度のパージガスを吹き付けることを特徴とする。

本発明の請求項２に係る光ファイバ素線の製造方法は、請求項１において、前記揮発分を溶融する温度は、３５℃以上、８０℃以下であることを特徴とする。

本発明の請求項３に係る光ファイバ素線の製造装置は、光ファイバ裸線の外周に被覆した一次被覆用の硬化性樹脂を硬化する一次硬化装置と、該一次硬化装置により前記一次被覆用の硬化性樹脂が硬化されてなる一次被覆光ファイバの外周に二次被覆用の硬化性樹脂を被覆する二次被覆装置と、前記一次硬化装置と前記二次被覆装置との間に、前記二次被覆装置に連設されたパージ部と、該パージ部に前記一次被覆光ファイバの進行方向に漸次拡径するテーパ管状に形成され、前記一次被覆光ファイバが非接触的に導入されかつ導出される導管部と、該導管部の大径部に設けられ、パージガスを前記導管部内に吹き込むパージガス吹込部と、を備えた光ファイバ素線の製造装置であって、前記パージガス吹き込み部にはパージガス導入管が接続され、該パージガス導入管には前記導管部内に吹き込む前のパージガスを加熱するパージガス加熱部が設けられたことを特徴とする。

本発明によれば、被覆工程にて、二次被覆装置に導入する前の一次被覆光ファイバに対して、一次被覆用の硬化性樹脂に含まれる揮発分の固化したものを溶融する温度のパージガスを吹き付けるので、コーティングポート内に付着した揮発分の固化したものを効率的に除去することができるから、二次被覆層中にボイドが生じるのを防止することができる。

以下、本発明を実施した光ファイバの被覆方法および光ファイバの被覆装置について詳細に説明する。

図１は、本発明に係る光ファイバ素線の製造装置および本発明に係る光ファイバ素線の製造方法における光ファイバ素線の製造工程の一実施形態を示す模式図である。図２は、本発明に係る光ファイバ素線の製造装置を構成する二次被覆装置、および、この二次被覆装置に連設されたパージ部の一実施形態を示す概略断面図である。
図１中、符号１は光ファイバ母材、２は加熱炉、３は光ファイバ裸線、４は一次被覆装置、５は一次被覆用の硬化性樹脂（以下、「一次被覆樹脂」と略す。）、６は一次硬化装置、７は一次被覆光ファイバ、８は二次被覆装置、９は二次被覆用の硬化性樹脂（以下、「二次被覆樹脂」と略す。）、１０は二次硬化装置、１１は光ファイバ素線をそれぞれ表している。また、図２中、符号１２はニップル、１３はコーティングポート、１５はコーティングダイス、１６は二次被覆層、２０はパージ部、２１は一次被覆光ファイバ７の導入孔、２２は導管部、２３は大径部、２４はパージガス吹込部、２５はパージガス導入管、２６はパージガス加熱部、２７はパージガスをそれぞれ表している。

この実施形態における光ファイバ素線の製造装置は、加熱炉２と、一次被覆装置４と、一次硬化装置６と、二次被覆装置８と、二次硬化装置１０と、パージ部２０と、パージガス加熱部２５とから概略構成されている。

この光ファイバ素線の製造装置では、加熱炉２、一次被覆装置４、一次硬化装置６、二次被覆装置８および二次硬化装置１０が、上方から下方に向けてこの順に垂直ライン上に配されており、一次硬化装置４と二次被覆装置８との間には、前記の垂直ライン上に二次被覆装置８に連接するようにパージ部２０が設けられ、パージ部２０に接続されたパージガス導入管２５にはパージガス加熱部２６が設けられている。

二次被覆装置８のニップル１２には、一次被覆光ファイバ７の導入孔となるコーティングポート１３が設けられており、二次被覆装置８におけるコーティングポート１３の下方かつ光ファイバの紡糸方向には、一次被覆光ファイバ７に二次被覆樹脂９を被覆するためのコーティングダイス１５が設けられている。

二次被覆装置８に連設されるパージ部２０には、一次被覆光ファイバ７の導入孔２１を基端とし、一次被覆光ファイバ７の進行方向（紡糸方向）に漸次拡径するテーパ管状に形成され、一次被覆光ファイバ７を非接触的に、上方から導入し、かつ、下方から導出する導管部２２が設けられている。

導管部２２の大径部２３には、パージガス２７を導管部２２内に吹き込むためのディフューザを有するパージガス吹込部２４が設けられている。また、パージガス吹込部２４には、パージガス２７を導管部２２内に吹き込むパージガス導入管２５が接続されている。さらに、パージガス導入管２５には、その外周を囲むように、導管部２２内に吹き込む前のパージガス２７を加熱するためのパージガス加熱部２６が設けられている。

パージ部２０の導入孔２１の開口径は、パージ部２０内に導入される一次被覆光ファイバ７の外径の２倍以上、８倍以下であることが好ましい。
例えば、一次被覆光ファイバ７の外径が０．２ｍｍであれば、導入孔２１の開口径は０．４ｍｍ以上、１．６ｍｍ以下とすることが好ましい。

導入孔２１の開口径が一次被覆光ファイバ７の外径の２倍未満であると、導入孔２１近傍において、微少な線振れによって、一次被覆光ファイバ７が導入孔２１の内壁に接触し、損傷するおそれがある。一方、導入孔２１の開口径が一次被覆光ファイバ７の外径の８倍を超えると、パージガス２７によるエアナイフ効果が薄れ、一次被覆層をなす一次被覆樹脂５に含まれる揮発分が液化または固化して、コーティングポート１３の内壁や周辺部に付着した付着物の除去が困難になる。このような観点から、導入孔２１の開口径は、パージ部２０内に導入される一次被覆光ファイバ７の外径の３倍以上、６倍以下であることがより好ましく、５倍程度であることが特に好ましい。

導管部２２のテーパ角およびその長さは特に限定されるものではなく、パージ部２０内に導入される一次被覆光ファイバ７の走行速度、二次被覆装置８における二次被覆樹脂９の供給圧、パージガスの流速（容積速度）、導入孔２１の開口径、コーティングポート１３の開口径などを考慮した上で、一次被覆光ファイバ７が過度な線振れを起こさない範囲でパージガス２７によるエアナイフ効果が最大となる範囲であることが好ましい。

また、パージ部２０は、テーパ角およびその長さが異なる数種類のものを用意して、一次被覆光ファイバ７の外周に二次被覆層１６を形成する工程の運転条件に応じて最適なものに付け替えるようにしてもよい。例えば、導入孔２１の開口径が１．０ｍｍの場合、パージ部２０のテーパ角は一次被覆光ファイバ７の走行軸（一次被覆光ファイバ７の走行方向と平行な軸）に対して５°以上、３０°以下であることが好ましく、１０°以上、１５°以下であることがより好ましい。また、導入孔２１の開口径が１．０ｍｍの場合、パージ部２０の長さは、１０ｍｍ以上、５０ｍｍ以下であることが好ましく、１０ｍｍ以上、２０ｍｍ以下であることがより好ましい。

パージガス吹込部２４は、パージガス導入管２５を介して、パージガス２７を導管部２２内に一定の流速で導入するようになっている。また、パージガス吹込部２４とパージガス導入管２５との接続部、あるいは、パージガス導入管２５の長手方向の途中に、パージガス２７を清浄化するためのフィルタ（図示略）が設けられている。これにより、パージガス２４は導管部２２のテーパ管状壁面に沿って一次被覆光ファイバ７の走行に逆らって次第に加速加圧されながら上昇し、導入孔２１と一次被覆光ファイバ７との間隙からエアナイフとして効果的な角度で一次被覆光ファイバ７の周面に向けて均等に噴出される。

パージガス導入管２５の外周を囲むように設けられたパージガス加熱部２６としては、特に限定されるものではなく、導管部２２内に吹き込む前のパージガス２７を、その流速に応じて所定の温度に加熱することができるものであれば、いかなるもので用いられる。また、導管部２２内に吹き込むパージガス２７の温度を所定の温度、すなわち、揮発分を溶融する温度（３５℃以上、８０℃以下）とするためには、パージガス加熱部２６は、パージ部２０の近傍に設けられることが望ましい。

この実施形態では、一次硬化装置４と二次被覆装置８との間に、二次被覆装置８に連接するようにパージ部２０が設けられ、パージ部２０に接続されたパージガス導入管２５にはパージガス加熱部２６が設けられているから、二次被覆装置８に導入される前の一次被覆光ファイバ７の一次被覆層をなす一次被覆樹脂５に含まれる揮発分が固化したものを効率的に除去することができるから、二次被覆装置８のニップル１２に付着物が付着することがない。

なお、この実施形態では、パージ部２０が二次被覆装置８に直接取り付けられている例を示したが、本発明の光ファイバ素線の製造装置はこれに限定されない。本発明の光ファイバ素線の製造装置にあっては、パージ部の設置位置は、一次硬化装置と二次被覆装置との中間であれば特に限定されない。

ただし、パージ部２０が独立した位置に設置される場合には、パージガス２７が効率よく導入孔２１から吹き出されるように、例えば図３に示すように、パージ部２０の一次被覆光ファイバ７が導出される側にガスシール部２８を設けることが好ましい。このガスシール部２８には、一次被覆光ファイバ７を非接触に通過させる導出孔２９が形成されている。これにより、パージガス吹込部２４から吹き込まれたパージガス２７は、その一部が導出孔２９を通じて下方に漏出するが、吹き込みガスの流速を調節することにより、有効量のパージガス２７を一次被覆光ファイバ７の走行方向に逆行して導入孔２１から吹き出させることができる。

また、この実施形態では、１つのパージ部２０が二次被覆装置８に直接取り付けられている例を示したが、本発明の光ファイバ素線の製造装置はこれに限定されない。本発明の光ファイバ素線の製造装置にあっては、一次硬化装置と二次被覆装置との中間であれば、２つ以上のパージ部を直列にして設置してもよい。２つ以上のパージ部を直列にして設置する場合、各パージ部の形状は同一であっても、異なっていてもよい。ただし、これらのパージ部は、その少なくとも１つが一次被覆光ファイバの進行方向に漸次拡径するテーパ管状の導管部を有し、かつ、この導管部の大径部にパージガス吹込部が設けられていればよい。

図４に、２つのパージ部を直列に設置した例を示す。
この例では、図２に示したパージ部２０と同一形状の第一のパージ部３０と、第二のパージ部４０が、大径部２３およびパージガス吹込部２４を共有して互いに逆向きに接合して設置されている。これにより、共有するパージガス吹込部２４からパージガス２７を吹き込むと、パージガス２７は、それぞれの導管部３２、４２を通って、第一のパージ部３０の導入孔３１、および、第二のパージ部４０の導出孔４１から吹き出される。

この例においても、少なくとも第一のパージ部３０は、一次被覆光ファイバ７の走行方向に漸次拡径するテーパ管状の導管部３２を有し、かつ、この導管部３２の大径部２３にパージガス吹込部２４が設けられているので、パージガス２７の一部は一次被覆光ファイバ７の走行方向に逆行して、一次被覆光ファイバ７の周面に均等に吹き付けられる。これにより、揮発分が液化または固化して、コーティングポート１３の内壁や周辺部に付着した付着物が効果的に除去される。このとき、第二のパージ部４０の導出孔４１は前記のガスシール部の役割を果たす。これとともに、第一のパージ部３０と、第二のパージ部４０を一体化し、導管部３２と導管部４２を連通してなるガス流空間４３が、一次被覆光ファイバ７の被覆層内に含まれる揮発性物質も放散させ、一次被覆層と二次被覆層との密着性を高めるなどの効果をもたらす。

２個またはそれ以上のパージ部を、その全ての導管部が一次被覆光ファイバ７の進行方向に漸次拡径するテーパをなすように、重ね傘状に配置することもできる。この場合は、それぞれの導入孔から吹き出すパージガスがそれぞれエアナイフ効果を現すので、揮発分が液化または固化して、コーティングポート１３の内壁や周辺部に付着した付着物の除去効率がきわめて高く、線引きの高速化・長尺化がさらに進んだ場合にも対応できるものとなる。

次に、図１および図２を参照して、本発明に係る光ファイバ素線の製造方法の一実施形態を説明する。
光ファイバ母材１は、加熱炉２にて約２０００℃で溶融紡糸され、光ファイバ裸線３に形成される。

この光ファイバ裸線３は、引き続き一次被覆装置４に導入されて、その外周が一次被覆用の紫外線硬化型または熱硬化型などからなる一次被覆樹脂５で被覆され、引き続き一次硬化装置６で紫外線照射または加熱などにより、一次被覆樹脂５が硬化されて一次被覆層が形成された一次被覆光ファイバ７とされる（被覆工程）。

この一次被覆光ファイバ７は、引き続き二次被覆装置８に導入されて、その外周が二次被覆樹脂９で被覆され、引き続き二次硬化装置１０により二次被覆樹脂９が硬化されて二次被覆層１６が形成され、一次被覆層および二次被覆層からなる被覆層が設けられた光ファイバ素線１１とされる（被覆工程）。

その後、光ファイバ素線１１は、ターンプーリ（図示略）によって別方向に向きを変えられ、引取機（図示略）、ダンサーロール（図示略）を順に経て、巻取ドラム（図示略）に巻き取られる。

この実施形態では、上記の被覆工程にて、二次被覆装置８に連設されたパージ部２０内に一次被覆光ファイバ７を導入し、パージ部２０内において、二次被覆装置８に導入する前の一次被覆光ファイバ７に対して、一次被覆樹脂５に含まれる揮発分が固化したものを溶融する温度に制御されたパージガス２７を吹き付ける。

すなわち、被覆工程にて、二次被覆装置８に導入する前の一次被覆光ファイバ７に対して、一次被覆樹脂５に含まれる揮発分が固化したものを溶融する温度に制御されたパージガス２７を吹き付けることにより、一次被覆光ファイバ７に付着した状態で随伴する揮発分が固化したものは、パージガス２７によって溶融し、光ファイバ周辺から吹き飛ばされて除去されるか、あるいは、液化して二次被覆樹脂９に溶解する。したがって、二次被覆装置８のニップル１２に設けられたコーティングポート１３の内壁や周辺部に付着物が付着することがない。よって、一次被覆層と二次被覆層１６の界面近傍、もしくは、二次被覆層１６中にボイドが生じることがない。
また、パージガス２７は、一次被覆光ファイバ７の周面に均等に吹き付けられるので、一次被覆光ファイバ７がこれによって線振れなどを起こすことはない。

上記の揮発分を溶融する温度は、３５℃以上、８０℃以下であることが好ましく、３０℃以上、５０℃以下であることがより好ましい。一次被覆光ファイバ７に吹き付けられるパージガス２７の温度を、上記の範囲内とすれば、次被覆装置８に導入される前の一次被覆光ファイバ７の一次被覆層をなす一次被覆樹脂５に含まれる揮発分を効率的に除去することができるから、二次被覆層１６中にボイドが生じることがない。

パージガス２７としては、清浄化された不活性ガスであればいずれでもよい。安価に常時入手できるものの例は窒素ガスであるが、炭酸ガス、アルゴンガス、キセノンガス、シランガス、フロンガスなども便利に使用できる。

なお、被覆工程にて、パージガス２７を、一次被覆光ファイバ７の走行方向とは反対の方向に吹き付けることが好ましい。すなわち、被覆工程にて、パージガス吹込部２４からパージガス２７を導管部２２内に吹き込み、これを導管部２２の一次被覆光ファイバ７の導入孔２１から吹き出すと、二次被覆装置８に導入される前の一次被覆光ファイバ７にパージガス２７が、一次被覆光ファイバ７の走行方向に対して逆方向に、かつ、一次被覆光ファイバ７の周面に吹き付けられ、一次被覆光ファイバ７に随伴する揮発分が固化したものを、パージガス２７によって光ファイバ周辺から効率的に吹き飛ばして、除去することができる。

以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

（実施例）
図１に示した光ファイバ素線の製造工程において、図２に示したパージ部２０および二次被覆装置８を備え、パージ部２０に接続されたパージガス導入管２５にパージガス加熱部２６が設けられた光ファイバ素線の製造装置を用いて、光ファイバ素線の高速・長尺の線引きを行った。
パージ部２０の導入孔２１の開口径を１．０ｍｍ、導管部２２のテーパ角を１０°、導管部２２の長さを１５ｍｍとした。パージガス２７としては窒素ガスを用い、供給ガス量は５ｌ／ｍｉｎとした。加熱部２６により加熱された導管部２２内に吹き込むパージガス２７の温度を４０℃とした。一次被覆光ファイバ７の直径は０．２ｍｍであった。
なお、光ファイバ素線の製造工程における光ファイバの線速を１０ｍ／ｓとし、線引き長さは１５０ｋｍで完了とした。

（比較例）
加熱部２６を用いて、導管部２２内に吹き込むパージガス２７の温度を３５℃〜８０℃内の温度に制御しない以外は実施例と同様にして、光ファイバ素線の高速・長尺の線引きを行った。

実施例では、上記の条件下において問題なく線引きを完了することができた。また、得られた光ファイバ素線には、二次被覆層１６中にボイドが観察されなかった。
一方、比較例では、線引き長さ８０ｋｍで二次被覆層１６にボイドの混入が認められ、１００ｋｍでニップル１２から二次被覆樹脂９が溢れるなどにより被覆不能となった。この結果から、実施例で用いた加熱部が揮発分を効果的に除去し二次被覆層１６中にボイドが生じることを防止し、高速・長尺の線引きを可能にしたことは明かである。

本発明の光ファイバ素線を得る光ファイバ素線の製造方法および光ファイバ素線の製造装置は、光ファイバのみならず、直列に２つ以上の被覆装置を有する全ての製造装置おける２番目以降の塗布部にも適用できる。

本発明に係る光ファイバ素線の製造装置および本発明に係る光ファイバ素線の製造方法における光ファイバ素線の製造工程の一実施形態を示す模式図である。 本発明に係る光ファイバ素線の製造装置を構成する二次被覆装置、および、この二次被覆装置に連設されたパージ部の一実施形態を示す概略断面図である。 本発明に係る光ファイバ素線の製造装置に用いられるパージ部の他の実施形態を示す概略断面図である。 本発明に係る光ファイバ素線の製造装置に用いられるパージ部の他の実施形態を示す概略断面図である。 光ファイバ素線の製造工程の一例を示す模式図である。 従来の光ファイバ素線の製造装置を構成する二次被覆装置の一例を示す概略断面図である。

符号の説明

１・・・光ファイバ母材、２・・・加熱炉、３・・・光ファイバ裸線、４・・・一次被覆装置、５・・・一次被覆樹脂、６・・・一次硬化装置、７・・・一次被覆光ファイバ、８・・・二次被覆装置、９・・・二次被覆樹脂、１０・・・二次硬化装置、１１・・・光ファイバ素線、１２・・・ニップル、１３・・・コーティングポート、１５・・・コーティングダイス、１６・・・二次被覆層、２０・・・パージ部、２１・・・導入孔、２２・・・導管部、２３・・・大径部、２４・・・パージガス吹込部、２５・・・パージガス導入管、２６・・・パージガス加熱部、２７・・・パージガス、２８・・・ガスシール部、２９・・・導出孔、３０・・・第一のパージ部、３１・・・導入孔、３２・・・導管部、４０・・・第二のパージ部、４１・・・導出孔、４２・・・導管部、４３・・・ガス流空間。

Claims (3)

1. 光ファイバ裸線の外周に一次被覆用の硬化性樹脂を被覆し、該一次被覆用の硬化性樹脂を硬化して一次被覆層を形成して一次被覆光ファイバとし、該一次被覆光ファイバの外周に二次被覆装置により二次被覆用の硬化性樹脂を被覆し、該二次被覆用の硬化性樹脂を硬化し二次被覆層を形成して光ファイバ素線とする被覆工程を備えた光ファイバ素線の製造方法であって、
   前記二次被覆装置に導入する前の一次被覆光ファイバに対して、前記一次被覆用の硬化性樹脂に含まれる揮発分の固化したものを溶融する温度のパージガスを吹き付けることを特徴とする光ファイバ素線の製造方法。
2. 前記揮発分を溶融する温度は、３５℃以上、８０℃以下であることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ素線の製造方法。
3. 光ファイバ裸線の外周に被覆した一次被覆用の硬化性樹脂を硬化する一次硬化装置と、該一次硬化装置により前記一次被覆用の硬化性樹脂が硬化されてなる一次被覆光ファイバの外周に二次被覆用の硬化性樹脂を被覆する二次被覆装置と、前記一次硬化装置と前記二次被覆装置との間に、前記二次被覆装置に連設されたパージ部と、該パージ部に前記一次被覆光ファイバの進行方向に漸次拡径するテーパ管状に形成され、前記一次被覆光ファイバが非接触的に導入されかつ導出される導管部と、該導管部の大径部に設けられ、パージガスを前記導管部内に吹き込むパージガス吹込部と、を備えた光ファイバ素線の製造装置であって、
   前記パージガス吹き込み部にはパージガス導入管が接続され、該パージガス導入管には前記導管部内に吹き込む前のパージガスを加熱するパージガス加熱部が設けられたことを特徴とする光ファイバ素線の製造装置。
   
   

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