JP2009122229A - 金属被覆光ファイバおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光ファイバ2の外周に金属被覆層3が形成されている金属被覆光ファイバにおいて、金属被覆層3は、平均粒子径500nm以下の金属微粒子を分散液中に分散させたスラリーを塗布、焼結してなり、焼結後の被覆厚さを2〜10μmとしたものである。
【選択図】図1
Description
(2)イオンプレーティング法、スパッタ法(気相)
(3)電解・無電解めっき法(液相)
溶融金属への浸漬法は最もシンプルな方法であり、その製造方法は光ファイバ裸線をガラス母材から溶融線引した後、ただちに溶融金属被覆装置に導入し、金属を所定の厚みに被覆したのち常温下で冷却し巻き取るのが一般的な方法である(例えば、特許文献1参照)。金属被覆は耐熱性に優れ、また透水を防止できることなどから、光ファイバとして耐熱性、耐湿性、長期信頼性に優れ、高温高湿などの劣悪な環境下でも使用可能である。
2 光ファイバ
3 金属被覆層
Claims (5)
- 光ファイバの外周に金属被覆層が形成されている金属被覆光ファイバにおいて、前記金属被覆層は、平均粒子径500nm以下の金属微粒子を分散液中に分散させたスラリーを塗布、焼結してなり、焼結後の被覆厚さが2〜10μmであることを特徴とする金属被覆光ファイバ。
- 前記金属被覆層は、金、銀、銅、およびニッケルのいずれかからなる請求項1記載の金属被覆光ファイバ。
- 前記金属被覆層の外周に絶縁ポリマー層が形成されている請求項1または2記載の金属被覆光ファイバ。
- 光ファイバの外周に金属被覆層が形成されている金属被覆光ファイバの製造方法において、前記光ファイバの外周に、平均粒子径500nm以下の金属微粒子を分散液中に分散させたスラリーを塗布し、焼結して被覆厚さを2〜10μmとする金属被覆層を形成することを特徴とする金属被覆光ファイバの製造方法。
- 前記スラリーの粘度が200mPa・sより大きく5000mPa・s以下である請求項4記載の金属被覆光ファイバの製造方法。
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