JP2006290635A - 炭化珪素単結晶の製造方法及び炭化珪素単結晶インゴット - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 成長結晶中の添加元素濃度が、成長結晶中で種結晶中と同じ濃度から、所定の濃度変化率の範囲内にて漸増あるいは漸減して所望の濃度まで変化させる炭化珪素単結晶の製造方法、及び、この方法により製造される炭化珪素単結晶インゴットである。
【選択図】 なし
Description
Yu. M. Tairov and V.F. Tsvetkov, Journal of Crystal Growth, vol. 52 (1981) pp.146−150. L. Pauling, "The Nature of the Chemical Bond", Chapter 4, Cornell Univ. Press, New York (1960).
(1) 結晶上に炭化珪素単結晶インゴットを成長させる工程を包含する炭化珪素単結晶の製造方法であって、成長結晶中の添加元素濃度が種結晶から成長結晶中で種結晶中と同じ濃度から、所定の濃度変化率の範囲内にて漸増あるいは漸減して所望の濃度まで変化させることを特徴とする炭化珪素単結晶の製造方法、
(2) 濃度変化率が、結晶成長方向に対し1%/100μm以上、200%/100μm以下の範囲内である(1)記載の炭化珪素単結晶の製造方法、
(3) 前記濃度変化率が、結晶成長方向に対し5%/100μm以上、100%/100μm以下の範囲内である(1)記載の炭化珪素単結晶の製造方法、
(4) 前記添加元素が、窒素、ホウ素、アルミニウムのいずれか1種である (1)記載の炭化珪素単結晶の製造方法、
(5) (1)〜(4)に記載の何れかの製造方法により作製される炭化珪素単結晶インゴット、
(6) (5)記載の炭化珪素単結晶インゴットであって、該インゴットの口径が50mm以上、300mm以下である炭化珪素単結晶インゴット、
(7) (6)記載の炭化珪素単結晶インゴットであって、該インゴットの口径が75mm以上、300mm以下である炭化珪素単結晶インゴット、
(8) (6)又は(7)に記載の炭化珪素単結晶インゴットを切断、研磨してなる炭化珪素単結晶基板、
(9) (8)記載の炭化珪素単結晶基板にエピタキシャル成長してなる炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ、
である。
さらにこれらの単結晶を切断、研磨加工を施すことにより、50mm以上300mm以下の口径を有する炭化珪素単結晶ウェハを取り出せる。
先ず、図2に示す単結晶成長装置について、簡単に説明する。結晶成長は、SiC結晶粉末2を昇華させ、種結晶として用いたSiC単結晶1上で再結晶化させることにより行われる。種結晶のSiC単結晶1は、高純度黒鉛製坩堝3の蓋4の内面に取り付けられる。原料のSiC結晶粉末2は、高純度黒鉛製坩堝3の内部に充填されている。このような黒鉛製坩堝3は、二重石英管5の内部に、黒鉛の支持棒6により設置される。黒鉛製坩堝3の周囲には、熱シールドのための黒鉛製フェルト7が設置されている。二重石英管5は、真空排気装置により高真空排気(10−3Pa以下)することができ、かつ、内部雰囲気をガス流量調節計10を通って導入されるArガスにより圧力制御することができる。各種ド−ピングガス(窒素、トリメチルアルミニウム、トリメチルボロン)も、ガス流量調節計10を通して導入することができる。また、二重石英管5の外周には、ワークコイル8が設置されており、高周波電流を流すことにより黒鉛製坩堝3を加熱し、原料及び種結晶を所望の温度に加熱することができる。坩堝温度の計測は、坩堝上部及び下部を覆うフェルトの中央部に直径2〜4mmの光路を設け坩堝上部及び下部からの光を取り出し、二色温度計を用いて行う。坩堝下部の温度を原料温度、坩堝上部の温度を種温度とする。
実施例1と同様にして、種結晶として、(0001)面を有した六方晶系のSiC単結晶1を用意した。同種結晶のマイクロパイプ欠陥密度は5個/cm2以下と非常に小さく結晶性良好であり、ド−ピング元素としての窒素の濃度は1×1019cm−3であった。次に、種結晶1を黒鉛製坩堝3の蓋4の内面に取り付けた。黒鉛製坩堝3の内部には、CVD法により得られた高純度SiC結晶粉末2(高抵抗率を実現するために、不純物の少ない高純度原料が必要)を充填した。次いで、SiC原料を充填した黒鉛製坩堝3を、蓋4で閉じ、黒鉛製フェルト7で被覆した後、黒鉛製支持棒6の上に乗せ、二重石英管5の内部に設置した。そして、石英管の内部を真空排気した後、ワークコイルに電流を流し、原料温度を2000℃まで上げた。その後、雰囲気ガスとして高純度Arガス(純度99.9995%)を流入させ、石英管内圧力を約80kPaに保ちながら、原料温度を目標温度である2400℃まで上昇させた。成長圧力である1.3kPaには約30分かけて減圧し、その後、約20時間成長を続けた。この際の坩堝内の温度勾配は15℃/cmで、成長速度は約0.75mm/時であった。得られた結晶の口径は51mmで、高さは15mm程度であった。この成長時間中、成長開始時には窒素流量を0.5×10−6m3/sec(同流量にて成長結晶中の窒素濃度が種結晶中濃度と同等の1×1019cm−3となることからこの流量を用いた)とし、成長開始後、窒素流量を一定速度で低減させ、5時間で0m3/sec(バルブ閉の状態)まで低減させた。窒素流量を0m3/sec(アンド−プ)とした際に得られる成長結晶中の窒素濃度は1×1018cm−3となるため、成長結晶中での濃度変化率は26.7%/100μm(=1000%/(0.75mm/時×5時間))であった。
2 SiC結晶粉末原料
3 坩堝(黒鉛あるいはタンタル等の高融点金属)
4 黒鉛製坩堝蓋
5 二重石英管
6 支持棒
7 黒鉛製フェルト(断熱材)
8 ワークコイル
9 高純度Arガス配管
10 高純度Arガス及び不純物ガス用マスフローコントローラ
11 真空排気装置。
Claims (9)
- 種結晶上に炭化珪素単結晶インゴットを成長させる工程を包含する炭化珪素単結晶の製造方法であって、成長結晶中の添加元素濃度が、成長結晶中で種結晶中と同じ濃度から所定の濃度変化率の範囲内にて漸増あるいは漸減して所望の濃度まで変化させることを特徴とする炭化珪素単結晶の製造方法。
- 前記濃度変化率が、結晶成長方向に対し1%/100μm以上、200%/100μm以下の範囲内である請求項1記載の炭化珪素単結晶の製造方法。
- 前記濃度変化率が、結晶成長方向に対し5%/100μm以上、100%/100μm以下の範囲内である請求項1記載の炭化珪素単結晶の製造方法。
- 前記添加元素が窒素、ホウ素、アルミニウムのいずれか1種である請求項1記載の炭化珪素単結晶の製造方法。
- 請求項1〜4に記載の何れかの製造方法により作製される炭化珪素単結晶インゴット。
- 請求項5記載の炭化珪素単結晶インゴットであって、該インゴットの口径が、50mm以上300mm以下である炭化珪素単結晶インゴット。
- 請求項6記載の炭化珪素単結晶インゴットであって、該インゴットの口径が、75mm以上300mm以下である炭化珪素単結晶インゴット。
- 請求項6又は7に記載の炭化珪素単結晶インゴットを切断、研磨してなる炭化珪素単結晶基板。
- 請求項8に記載の炭化珪素単結晶基板にエピタキシャル成長してなる炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
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