JP2006278568A - 電磁波シールド筐体 - Google Patents

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【課題】導電性を有する部分と導電性を有さない部分とを備え、且つ少ない工程にて容易に形成することができる電磁波シールド筐体を提供する。
【解決手段】導電性フィラーを含有する熱可塑性樹脂組成物を射出成形して製造される電磁波シールド筐体1である。その表層の一部には、射出成形時の金型面の一部を他の部分よりも高温とすることにより導電性フィラーを含まない絶縁層2が形成されている。これにより、射出成形を行うと同時に導電性フィラーを含まない絶縁層2が電磁波シールド筐体1に一体に形成される。
【選択図】図1

Description

本発明は、携帯電話機等の電子機器に使用される電磁波シールド筐体に関するものである。
従来より、電子機器の筐体として、電磁波シールド機能を備えた様々な電磁波シールド筐体が提供されている。
携帯電話等の電子機器では、回路基板を樹脂製の筐体に内装する際、前記筐体の内面に金属膜を形成して電磁波シールドを必要とする回路部品を覆うことが行われている。この金属膜は、メッキ、塗装、蒸着等の表面処理により形成することができる(特許文献1、従来の技術の欄参照)。
しかし、上記のように金属膜の形成により電磁シールド性を付与する場合には、樹脂成形等により筐体を形成した後に、更に金属膜形成のための処理を行わなければならず、製造工程が煩雑化すると共に製造コストも増大してしまうものであった。
また、筐体に他の部材に嵌合係止するためにフック状の嵌合係止部等を設ける場合には、部材の嵌合係止時に嵌合係止部に応力がかかることにより、この嵌合係止部に形成されている金属膜が剥がれ落ちて金属粉の粉落ちが発生し、この金属粉により筐体に内装されている回路基板に短絡が発生してしまうおそれもある。また、筐体の内面の回路基板とが近接する場合に前記回路基板が筐体内面の金属膜によりショートサーキットが生じたりするおそれもある。このため、筐体には部分的に金属膜が形成されていない部分を設ける必要があり、そのため金属膜形成時にマスキングを施したり、金属膜形成後にエッチング処理を施したりするなどの処理を行う必要があって、更に製造工程の煩雑化を招いてしまうものである。
また、金属膜を設けることなく、筐体に導電性を有する部分と導電性を有しない部分とを形成するために、筐体を導電性樹脂と非導電性樹脂との二色成形により形成することも提案されているが(特許文献1参照)、この場合は二種類の樹脂を用意しなければならず、また成形工程も煩雑なものとなってしまうという問題があった。
特開平08−148872号公報
本発明は上記の点に鑑みて為されたものであり、導電性を有する部分と導電性を有さない部分とを備え、且つ少ない工程にて容易に形成することができる電磁波シールド筐体を提供することを目的とするものである。
本発明に係る電磁波シールド筐体1は、導電性フィラーを含有する熱可塑性樹脂組成物を射出成形して製造される電磁波シールド筐体1であって、その表層の一部には、射出成形時の金型面の一部を他の部分よりも高温とすることにより導電性フィラーを含まない絶縁層2が形成されていることを特徴とするものである。これにより、射出成形を行うと同時に導電性フィラーを含まない絶縁層2が電磁波シールド筐体1に一体に形成される。
上記電磁波シールド筐体1においては、他の部材に嵌合係止する嵌合係止部3を備え、前記嵌合係止部3の表層に上記絶縁層2が形成されるようにすると、他の部材との嵌合係止時に嵌合係止部3が摩滅して粉落ちが発生しても、導電性の粉が生じることがなく、電磁波シールド筐体1が収容する回路基板等にショートサーキットが発生することを防止することができる。
また、上記電磁波シールド筐体1においては、表面に電気絶縁性が付与された絶縁部4を備え、前記絶縁部4の表層に上記絶縁層2が形成されているようにすると、電磁波シールド筐体1が収容する基板上の回路や電子部品等に絶縁層4が近接していても、ショートサーキットが発生することを防止することができる。
また、上記のような電磁波シールド筐体1における上記絶縁層2の厚みは0.02〜0.4mmの範囲となるようにすることが好ましい。
本発明によれば、熱可塑性樹脂組成物を射出成形するだけで、導電性フィラーを含む電磁波シールド筐体の表層の一部に導電性フィラーを含まない絶縁層を形成することができ、導電性を有する部分と導電性を有さない部分とを備える電磁波シールド筐体を少ない工程にて容易に形成することができるものである。
以下、本発明を実施するための最良の形態について説明する。
本発明に係る電磁波シールド筐体1は、導電性フィラーを含む熱可塑性樹脂組成物を射出成形金型5にて射出成形することにより得られる。
熱可塑性樹脂組成物としては、適宜のものが用いられるが、例えばABS樹脂等の熱可塑性樹脂と、ニッケルをコーティングしたカーボンファイバー等のような導電性フィラーとを含有するものを用いることができる。熱可塑性樹脂組成物中の導電性フィラーの含有量は適宜調整されるが、20〜50質量%の範囲とすることが好ましい。熱可塑性樹脂や導電性フィラーの種類は前記のものに限られず、適宜のものを用いることができる。
一方、射出成形金型5としては、図2に示すように、電磁波シールド筐体1と同一形状の空間(キャビティ6)が内部に形成されるものが用いられるが、射出成形時に前記キャビティ6の内面(金型面)を、その一部(以下、高温部7という)が他の部分(以下、低温部8)よりも高い温度に保持することができるものが用いられる。
例えば、上記射出成形金型5の内部に導電性部材からなる棒状のヒータ9を導入配置して通電加熱により金型面を加熱することができるようにすると共に、前記ヒータ9の配置密度を上記高温部7の近傍で部分的に高くしたり、高温部7においてヒータ9の配置位置を金型面に近接させて配置させたり、射出成形金型5の内部にヒータ9を高温部7の近傍にのみ配置したりすることにより、金型面の一部を他の部分よりも高い温度に保持することができるようにするものである。
射出成形により電磁波シールド筐体1を製造するにあたっては、上記のような熱可塑性樹脂組成物及び射出成形金型5を用い、例えば射出圧力を60〜150MPa、保圧を30〜60MPa、シリンダー温度をノズル先端で240〜290℃とする条件で射出成形を行うようにする。このとき、上記のように金型面の高温部7を低温部8よりも高い温度に保持するものであり、例えば高温部7の温度を80〜120℃、好ましくは90〜110℃に保持し、低温部8の温度を50〜70℃に保持するものである。
このようにして熱可塑性樹脂組成物の射出成形を行うと、射出成形金型5に熱硬化性樹脂組成物が射出されて金型面に沿ってスキン層が形成される際に、金型面の高温部7では、熱可塑性樹脂組成物の硬化は低温部8よりもゆっくりと進み、この間、熱可塑性樹脂組成物中の樹脂成分は流動により金型面と導電性フィラーとの間に入り込み、前記金型面と密着した状態で硬化されることとなる。このため、金型面の高温部7では、形成される電磁波シールド筐体1の表面には導電性フィラーが表出せず、またその表層には導電性フィラーが含まれない絶縁層2が形成されることとなる。一方、金型面の低温部8では熱可塑性樹脂組成物が速やかに硬化するため、前記のような樹脂成分の流動は生じず、このため前記のような絶縁層2は形成されないものである。
図1はこのような射出成形により形成される電磁波シールド筐体1の一例を示す。図示の電磁波シールド筐体1には、他の部材に嵌合係止する嵌合係止部3が設けられている。図示の嵌合係止部3は、電磁波シールド筐体1の内面側の外縁部から突出するように設けられており、その先端は内側に突出するフック状に形成されている。嵌合係止部3の形状はこのようなものに限られず、他の部材に嵌合係止可能なものであれば良い。この嵌合係止部3は、例えば携帯電話等の電子機器の筐体を構成する他の部材に嵌合係止するために形成されている。
電磁波シールド筐体1における上記絶縁層2は、上記の嵌合係止部3に形成することができる。この場合、嵌合係止部3を他の部材と嵌合させる際に、嵌合係止部3に応力がかかったり他の部材と擦れ合ったりすることにより摩滅してその表面から樹脂粉の粉落ちが生じても、嵌合係止部3の表層には導電性フィラーが含まれていないため、前記樹脂粉中には導電性フィラーは含まれなくなる。従って、電磁波シールド筐体1にて高周波回路等を覆う場合に、上記粉落ちにより生じた樹脂粉が前記回路等に接触しても、ショートサーキット等の不良が発生することがなくなるものである。
また、電磁波シールド筐体1における、表面に電気絶縁性を付与する必要のある部位(以下、絶縁部4という)に、上記絶縁層2を形成しても良い。このような絶縁部4としては、例えば電磁波シールド筐体1により高周波回路を覆う場合に回路と近接する箇所が挙げられるものであり、このような絶縁部4に絶縁層2を形成すると、回路やこの回路に実装されている部品と絶縁部4とが接触したとしても、ショートサーキット等の不良が発生することを防止することができるものである。
また、このように形成される電磁波シールド筐体1は、部分的に表層に導電性フィラーを含まない絶縁層2が形成されていることを除いて、導電性フィラーを含有しているものであるから、電磁波シールド筐体1の全体に亘って高い電磁波シールド性を有するものであり、このため、携帯電話機等の電子機器の内部に収容されている高周波回路等に基づく不要な電波の漏洩や電波干渉を防止することができるものである。
また、熱可塑性樹脂組成物の射出成形を行うだけで、他の部材を追加することなく、電磁波シールド筐体1の表層に部分的に絶縁層2を形成することができ、かかる構成の電磁波シールド筐体1を少ない工程で容易に製造すると共に部品点数を削減することができるものである。
また、絶縁層2を形成している箇所以外では、電磁波シールド筐体1の外面には導電性が付与されていることから、他の部品を追加しなくても、容易にアースを取ることができるものであり、部品点数を必要最小限に抑えることができるものである。例えば、携帯電話機の場合には、電磁波シールド筐体1に手が触れることによって、人体を通じてアースを取ることができるものである。その結果、帯電による電気的なトラブル、例えばノイズ等の不具合の発生を防止することができるものである。
上記のような電磁波シールド筐体1は、十分な強度と電磁波シールド性を得るためにはその厚みが0.2〜2.0mmの範囲となるように形成することが好ましい。また、この電磁波シールド筐体1における、絶縁層2の厚みは好ましくは0.02〜0.4mm、更に好ましくは0.02〜0.2mmの範囲となるようにするものであり、このような範囲とすることで良好なシールド効果が得られる。この絶縁層2の厚みは、熱可塑性樹脂組成物の組成に応じ、上記高温部7の温度を変更するなどして調整することができる。
(実施例)
熱可塑性樹脂組成物として、ニッケルをコーティングしたカーボンファイバーが25質量%添加されたアクリロニトリル・ブタジエン・スチレン樹脂(松下電工株式会社製「ABS(NiCF25%)」)を用い、射出成形により図1に示すような厚み0.3〜0.5mmの電磁波シールド筐体1を形成した。射出成形条件は、射出圧力を130MPa、保圧を45MPa、シリンダー温度をノズル先端で270℃とし、射出成形金型5の金型温度は低温部8を50℃、高温部7を90℃とした。
得られた電磁波シールド筐体1を切断して切断面を観察したところ、低温部8に相当する箇所では表層には導電性フィラーを含まない絶縁層2は形成されなかったが、高温部7に相当する箇所では0.04mmの厚みを有する絶縁層2が形成されていた。
(比較例)
射出成形時に金型温度を全体に亘って50℃とした以外は上記実施例と同様にして電磁波シールド筐体1を形成した。
得られた電磁波シールド筐体1を切断して切断面を観察したところ、導電性フィラーを含まない絶縁層2は形成されないことが確認された。
本発明の実施の形態の一例を示すものであり、(a)は斜視図、(b)は(a)のイ部分の拡大斜視図、(c)は部分断面図である。 射出成形金型5の一例を示す断面図である。
符号の説明
1 電磁波シールド筐体
2 絶縁層
3 嵌合係止部
4 絶縁部

Claims (4)

  1. 導電性フィラーを含有する熱可塑性樹脂組成物を射出成形して製造される電磁波シールド筐体であって、その表層の一部には、射出成形時の金型面の一部を他の部分よりも高温とすることにより導電性フィラーを含まない絶縁層が形成されていることを特徴とする電磁波シールド筐体。
  2. 他の部材に嵌合係止する嵌合係止部を備え、前記嵌合係止部の表層に上記絶縁層が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の電磁波シールド筐体。
  3. 表面に電気絶縁性が付与された絶縁部を備え、前記絶縁部の表層に上記絶縁層が形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の電磁波シールド筐体。
  4. 上記絶縁層の厚みが0.02〜0.4mmであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の電磁波シールド筐体。
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