JP2006278446A - 単板式カラー固体撮像素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 信号読出回路117,118に接続される高濃度不純物領域107,108が表面部に形成された半導体基板101と、半導体基板101の浅部に形成された青色光検出用のフォトダイオード102,103,104と、半導体基板101の深部に形成された赤色光検出用のフォトダイオード104,105,106とを備える単板式カラー固体撮像素子100において、各フォトダイオードの夫々に連設され半導体基板の表面に露出する接続領域であってフォトダイオードの蓄積電荷を対応の前記高濃度不純物領域107,108に移動させる接続領域103a,105aを、高濃度不純物領域107,108に接する部分にのみ形成する。
【選択図】 図1
Description
図1(a)は、本発明の第1の実施形態に係る単板式カラー固体撮像素子の単位セルの断面模式図であり、図1(b)は図1(a)に示す単板式カラー固体撮像素子のシリコン基板表面部分の平面模式図である。図1(b)のA―A線断面が図1(a)に示される。図1(a)に示す単位セルが、二次元的に縦横に配列形成されることで、1つの撮像素子が構成される。
図2は、本発明の第2の実施形態に係る単板式カラー固体撮像素子の単位セルの断面模式図である。第1の実施形態に係る単板式カラー固体撮像素子と同一構成部分または同様部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
図3は、本発明の第3の実施形態に係る単板式カラー固体撮像素子の断面模式図である。本実施形態の単板式カラー固体撮像素子300は、n型シリコン基板301内に3つのフォトダイオード構造を設け、R,G,Bの3色を分離して検出する。即ち、シリコン基板301の深部から順に、p型半導体層308、n型半導体層307、p型半導体層306、n型半導体層305、p型半導体層304、n型半導体層303、p型半導体層302を設ける。そして、シリコン基板301の表面上に透明絶縁膜312を積層すると共に、透明絶縁膜312内に、開口313aが設けられた光遮蔽膜313を埋設する。
101,301 n型シリコン基板
111 光電変換膜
103,105 n型半導体層
102,104,106 p型半導体層
103a,105a,303a,305a,307a 表面露出部分(接続領域)
107,108,309,310,311 n型高濃度不純物領域
Claims (9)
- 信号読出回路と該信号読出回路に接続される高濃度不純物領域とが表面部に形成された半導体基板と、該半導体基板の浅部に形成された青色光検出用のフォトダイオードと、該半導体基板の深部に形成された赤色光検出用のフォトダイオードと、該半導体基板の上層に積層された緑色光検出用の光電変換膜とを備える単板式カラー固体撮像素子において、前記各フォトダイオードの夫々に連設され前記半導体基板の表面に露出する接続領域であってフォトダイオードの蓄積電荷を対応の前記高濃度不純物領域に移動させる接続領域を、該高濃度不純物領域に接する部分にのみ形成したことを特徴とする単板式カラー固体撮像素子。
- 信号読出回路と該信号読出回路に接続される高濃度不純物領域とが表面部に形成された半導体基板と、該半導体基板の浅部に形成された青色光検出用のフォトダイオードと、該半導体基板の深部に形成された赤色光検出用のフォトダイオードと、該半導体基板の上層に積層された緑色光検出用の光電変換膜とを備える単板式カラー固体撮像素子において、前記各フォトダイオードの電荷蓄積層と対応の前記高濃度不純物領域とを接続し読み出し電圧が印加されたとき前記電荷蓄積層の蓄積電荷を対応の前記高濃度不純物領域に移動させるMOS型スイッチを設けたことを特徴とする単板式カラー固体撮像素子。
- 前記光電変換膜が有機半導体で形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の単板式カラー固体撮像素子。
- 前記青色光検出用のフォトダイオード付近で光発生する少数キャリアの信号電荷が前記半導体基板の表面方向と反対の深さ方向とに分流する境界面を第1の境界面とし、前記赤色光検出用のフォトダイオード付近で光発生する少数キャリアの信号電荷が前記半導体基板の表面方向と反対の深さ方向とに分流する境界面を第2の境界面としたとき、第1の境界面の半導体基板表面からの深さが0.4μm〜1.1μmの間、第2の境界面の半導体基板表面からの深さが2μm以上となる位置に前記各フォトダイオードを形成したことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の単板式カラー固体撮像素子。
- 信号読出回路と該信号読出回路に接続される高濃度不純物領域とが表面部に形成された半導体基板と、該半導体基板の浅部に形成された青色光検出用のフォトダイオードと、該半導体基板の深部に形成された赤色光検出用のフォトダイオードと、前記浅部と前記深部の中間部に形成された緑色光検出用のフォトダイオードとを備える単板式カラー固体撮像素子において、前記各フォトダイオードの夫々に連設され前記半導体基板の表面に露出する接続領域であってフォトダイオードの蓄積電荷を対応の前記高濃度不純物領域に移動させる接続領域を、該高濃度不純物領域に接する部分にのみ形成したことを特徴とする単板式カラー固体撮像素子。
- 信号読出回路と該信号読出回路に接続される高濃度不純物領域とが表面部に形成された半導体基板と、該半導体基板の浅部に形成された青色光検出用のフォトダイオードと、該半導体基板の深部に形成された赤色光検出用のフォトダイオードと、前記浅部と前記深部の中間部に形成された緑色光検出用のフォトダイオードとを備える単板式カラー固体撮像素子において、前記各フォトダイオードの電荷蓄積層と対応の前記高濃度不純物領域とを接続し読み出し電圧が印加されたとき前記電荷蓄積層の蓄積電荷を対応の前記高濃度不純物領域に移動させるMOS型スイッチを設けたことを特徴とする単板式カラー固体撮像素子。
- 前記青色光検出用のフォトダイオード付近で光発生する小数キャリアの信号電荷が前記半導体基板の表面方向と反対の深さ方向とに分流する境界面を第1の境界面とし、前記緑色光検出用のフォトダイオード付近で光発生する小数キャリアの信号電荷が前記半導体基板の表面方向と反対の深さ方向とに分流する境界面を第2の境界面とし、前記赤色光検出用のフォトダイオード付近で光発生する少数キャリアの信号電荷が前記半導体基板の表面方向と反対の深さ方向とに分流する境界面を第3の境界面としたとき、第1の境界面の半導体基板表面からの深さが0.3μm〜0.7μmの間、第2の境界面の半導体基板表面からの深さが0.8μm〜1.6μmの間、第3の境界面の半導体基板表面からの深さが2μm以上となる位置に前記各フォトダイオードを形成したことを特徴とする請求項5または請求項6に記載の単板式カラー固体撮像素子。
- 前記信号読出回路がMOSトランジスタ回路または電荷転送路で構成されることを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の単板式カラー固体撮像素子。
- 前記各フォトダイオードの受光面以外を光遮蔽する光遮蔽膜を前記半導体基板の表面に積層したことを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれかに記載の単板式カラー固体撮像素子。
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