JP2006273649A - 光学素子の製造方法、及びモールドプレス成形装置 - Google Patents

光学素子の製造方法、及びモールドプレス成形装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2006273649A
JP2006273649A JP2005094459A JP2005094459A JP2006273649A JP 2006273649 A JP2006273649 A JP 2006273649A JP 2005094459 A JP2005094459 A JP 2005094459A JP 2005094459 A JP2005094459 A JP 2005094459A JP 2006273649 A JP2006273649 A JP 2006273649A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mold
molding
press
zone
optical element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005094459A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4939677B2 (ja
Inventor
Hiroyuki Watanabe
裕之 渡辺
Tadayuki Fujimoto
忠幸 藤本
Shinichiro Hirota
慎一郎 広田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoya Corp
Original Assignee
Hoya Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoya Corp filed Critical Hoya Corp
Priority to JP2005094459A priority Critical patent/JP4939677B2/ja
Publication of JP2006273649A publication Critical patent/JP2006273649A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4939677B2 publication Critical patent/JP4939677B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/02Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing in machines with rotary tables
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/12Cooling, heating, or insulating the plunger, the mould, or the glass-pressing machine; cooling or heating of the glass in the mould
    • C03B11/122Heating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/16Gearing or controlling mechanisms specially adapted for glass presses
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00Press-moulding glass
    • C03B2215/66Means for providing special atmospheres, e.g. reduced pressure, inert gas, reducing gas, clean room
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

【課題】成形サイクルタイムを延長させることなく、簡便な手段で、個々の成形型に最適のプレス条件を設定し、適用することで、製品ごとのばらつきを少なくして、光学素子を高精度に製造することができる光学素子の製造方法、及びモールドプレス成形装置を提供する。
【解決手段】複数の支持台X,Yを、成形ゾーンP2に設けられた加熱部、プレス部、冷却部を含む複数の処理部を順次、一定時間ごとに間歇的に移動させることにより複数の成形型x、yに順次、加熱、プレス、冷却を含む処理を施して光学素子を連続的に製造するにあたり、前記処理が施された成形型x、yを、支持台X,Yから取り外して成形体を取り出すともに、新たな成形素材を収容し、支持台X,Yに再配置する入替工程を、成形型x、yのそれぞれに対して順次行い、成形型x、yをそれぞれに対応する同一の支持台X,Yに繰り返し再配置する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、被成形面に対する研削、研磨などの後加工を必要とせずに、精密加工を施した成形型によって、ガラスなどの成形素材をプレス成形する光学素子の製造方法、及びモールドプレス成形装置に関する。
ガラスなどの成形素材を、加熱により軟化し、所定形状に精密加工した上下一対の成形型でプレス成形することにより、レンズなどの光学素子を製造する方法が知られている(例えば、特許文献1、2参照)。
ここで、特許文献1には、加熱室、プレス室、冷却室など処理室が円周方向に並べて配置され、これらの処理室の中を、被成形ガラスを入れた成形型を順次移送することにより、ガラス成形体を製造する回転移送式のガラス成形体の製造装置が開示されている。
そして、このような製造装置によれば、高い形状精度、面精度のガラス成形体が得られると記載されている。
また、特許文献2には、成形型にガラス素材を供給し、また、成形品を取り出す機構を備えたローダ・アンローダステーションと、加熱下で成形型内のガラス素材をプレス成形する機構を備えた加熱チャンバとを備えた光学部品の成形装置が開示されている。
そして、このような装置において、複数の成形型をキャリアに装着して搬送するに際し、加熱チャンバ内では、成形型を緩く位置決めするチャンバ内用キャリアを用いることによって、熱の影響で成形型にストレスが作用しないようにする一方で、ローダ・アンローダステーションでは、成形型を微細に位置決め可能なチャンバ外用キャリアを用いることによって、ローディング作業、及びアンローディング作業時に、胴型がみだりに位置ずれしないようにすることが記載されている。
特開平1−157425号公報 特開平10−59731号公報
ここで、図10に、特許文献1に記載された回転移送式のガラス成形体の製造装置の概略を示す。
この装置において、ガラス素材などの成形素材(被成形ガラス)を収容した成形型は、取出・挿入室から装置内に挿入され、回転テーブルにより、周方向に並べて配置された、第一加熱室、第二加熱室、第三加熱室(均熱室)、プレス室、第一徐冷室、第二徐冷室、及び急冷室を順次通過するように移送される。このとき、上記回転テーブルは、一定時間ごとに間歇的に回転し(図中、回転テーブルの回転方向を矢印で示す)、この一定時間が、成形サイクルタイムとなる。
各処理室において適切な処理が施され、取出・挿入室に戻ってきた成形型は、取出・挿入室から装置外に取り出される。そして、次に成形に処される成形素材を収容した成形型が、取出・挿入室から装置内に挿入され、回転テーブルにより各処理室を移送されながら同様の処理が施される。
このとき、特許文献1では、回転テーブル上には成形型を載せる試料台(成形型支持部)が備えられており、例示された態様では、回転テーブル上に8個の試料台を配置し、9〜10個の成形型を用いて連続的に、上記のような繰り返し動作を行うとしてある。
このような特許文献1に開示された成形装置は、プレス成形に必要な成形型の昇温、降温を二次元的に配置された処理室の通過によって行うため、多数の成形型を同時に使用でき、個々の成形に必要な実質時間(成形サイクルタイム)の短縮に有利なものである。
ところで、近年、光学性能や、外観などの光学製品に対する種々の要求が、今まで以上に厳しくなってきており、また、コスト削減の観点からも歩留まりを向上させて、生産性をより向上させることが強く求められている。このためには、連続生産におけるプレス成形の条件を厳しく制御し、均一化させなければならない。
このような状況下、本発明者らが、鋭意検討を重ねたところ、特許文献1に開示された成形装置により、レンズなどのガラス成形体を連続生産するには、従来は見落とされていた、成形条件の均一化を妨げる要素が内在しているという知見を得るに至った。
すなわち、プレス成形に用いられる個々の成形型、及び成形型支持部の寸法や、成形素材の組成が全く同一であり、さらに、プレス成形に最適な条件(加熱条件、プレス荷重、プレスストロークなど)が同一である場合には問題は生じ難いが、これらは常に同一とは限らず、成形条件の均一化を妨げる要素となり、ガラス成形体を形状再現性よく、今まで以上により精密に成形する上での障害になることを見出した。
例えば、成形型は、その成形面が磨耗すると、成形面を再研磨して再生することが一般に行われているが、成形面を再研磨すると、成形型の軸方向の寸法が変化する。このため、成形しようとするガラス成形体の形状が同一であっても、プレス荷重を印加する際に与えるべき最適のプレスストロークは、成形型ごとに異なる場合がある。また、これとともに、成形型の寸法が変化すると、寸法変化に伴って成形型の質量も変化することから、個々の成形型の熱容量も異なってくるため、成形型ごとの熱容量の違いを反映して、加熱条件を調整する必要が生じる場合もある。
ガラス成形体をより高度な精密性をもって成形するには、このように、成形型ごとに異なるプレスストロークや、加熱条件に対処ながら成形を行うことができる手段が求められる。
また、大きさや、形状などの異なる異種のレンズを同時に成形し、これらを同時並行的に連続生産することは、生産効率の上で極めて有利である。このような場合において、たとえ、プレス成形時の加熱条件がほぼ同一の成形素材を選択したとしても、それぞれに与えるべきプレス荷重や、プレスストロークが相違することが少なくない。
このため、成形型を循環させて、連続生産しつつ、個々の成形型と、成形しようとするレンズの組合せに対する最適の条件を適用するためには、それらに対して成形装置内で処理を施す前に、成形素材を収容した成形型ごとに、その個体を認識して、それぞれについての最適な成形条件を入力し、制御しなければならず、著しく煩雑な手間を要する。
一方、特許文献2には、複数の成形型を装着して搬送するキャリアを用い、ローダ・アンローダステーションにおいて成形品を取り出し、また、ガラス素材を供給した後の成形型は、チャンバ外用キャリアからチャンバ内用キャリアに移し変えられることが記載されている。
しかしながら、特許文献2におけるキャリアは、装置に備えられたものではなく、成形型と共に入れ替え、特に、成形不良が生じた場合には成形型とともに排除するものであるため、成形条件との相関を与えることはできず、成形型ごとの成形条件の制御はできない。さらに、成形型がチャンバ外用キャリアに装着されてローダ・アンローダステーションにある間は、チャンバ内用キャリアは、その位置で待機しているので、滞留時間が長くなり、結果として成形サイクルタイムが長くなるという問題が生じる。
また、上記の従来技術に記載されたような成形型移送式の成形装置において、生産効率を上げるために、成形サイクルタイムの短縮が望まれる。このためには、各処理室で行われる処理の配分を工夫する必要がある。
例えば、比較的長い加熱時間が必要なものであれば、加熱室を複数設け、一定の移動時間をもって移動させることにより、その移動時間の複数倍の時間を加熱に充てることができる。このようにすることで、処理室や、成形型を適宜数用意すれば、短い成形サイクルタイムを維持しつつ、生産効率を極めて高くすることが可能である。同様に、冷却時間が長時間必要であれば、冷却室の数を増加させることによって、成形型に対する適切な冷却を施しながら、成形サイクルタイムを延長させない工夫が可能である。
しかしながら、成形型内の成形体の取出し、新たな成形素材の供給に必要な入替時間が律速になることがある。すなわち、加熱、プレス、冷却を経た成形型を、装置の成形型支持部から取り外し、分解し、内部の成形体を取出し、新たな成形素材を供給し、成形装置の支持部に再配置するこれらの一連の入替工程には、所定の連続した時間が必要である。
このとき、この所要時間分は、成形型支持部の移動を行わず、換言すればこの所要時間を成形サイクルタイムとして設定することができるが、この場合、入替工程のために成形型を取り外された成形型支持部は、新たな素材を供給された成形型が再配置されるまで待機することとなり、この待機時間の間、他の成形型支持部も個々の処理室において一斉に待機することとなる。したがって、ここでの成形サイクルタイムは、入替工程に必要な所要時間に支配され、短縮は難しい。
特許文献1に開示された装置では、回転テーブルの回転とともに移動する試料台は、一周して入替工程に付される毎に、取り外された成形型とは異なる成形型を受け入れることとなる。したがって、入替工程が律速になって、成形サイクルタイムの短縮を妨げるということはない。
しかしながら、前述したように、個々の成形型と、それに収容された成形素材の組合せに最適の処理条件を予め設定することは困難である。
本発明は、上記の事情にかんがみなされたものであり、成形サイクルタイムの短縮に有利な成形型移送式の成形装置により、その成形サイクルタイムを延長させることなく、簡便な手段で、個々の成形型に最適のプレス条件を設定し、適用することで、製品ごとのばらつきを少なくして、光学素子を高精度に製造することができる光学素子の製造方法、及びモールドプレス成形装置の提供を目的とする。
上記目的を達成するため本発明の光学素子の製造方法は、モールドプレス成形装置に設けられた複数の成形型支持部を、加熱部、プレス部、冷却部を含む複数の処理部に、順次、一定時間ごとに間歇的に移動させることにより、前記成形型支持部のそれぞれに支持された成形型に順次、加熱、プレス、冷却を含む処理を施して光学素子を連続的に製造する光学素子の製造方法であって、
前記処理が施された成形型を前記成形型支持部から取り外して、前記成形型から成形体を取り出すともに、新たな成形素材を前記成形型に収容し、前記取出しの行われた位置と異なる位置にある前記成形型支持部に再配置する入替工程を、前記成形型のそれぞれに対して順次行い、かつ、前記成形型を、それぞれに対応する同一の前記成形型支持部に繰り返し再配置する方法としてある。
このような方法とすることにより、成形型と、成形型支持部との組み合わせを常に同一として、プレス成形を繰り返し行うことができるため、各成形型の個体差などに応じて最適な成形条件を、予め、成形装置の制御部に入力しておく際に、各成形型と常に対となって組み合わされる成形型支持部の個体差についても織り込んだ成形条件を入力しておくことで、常に一定の条件でプレス成形を行い、得られる製品ごとのばらつきを少なくすることができる。さらに、このとき成形型の入替工程に要する時間が、成形型の各処理工程における一定時間ごとの間歇移動に干渉することなく、言い換えれば、成形型の入替工程が、成形サイクルの律速段階となることを防止できる。
本発明の光学素子の製造方法では、前記入替工程がなされている間、前記成形型が取り外された前記成形型支持部を、一定時間ごとの間歇的な移動を継続させるのが好ましい。
これにより、他の成形型支持部と共通の移動機構を利用して、他の成形型支持部の移動を妨げないようにすることができるため、成形サイクルタイムを延長することなく、成形型と、成形型支持部との組み合わせを常に同一とすることが可能となる。
より具体的には、前記成形型支持部が一定時間ごとの間歇的な移動を継続するとともに、前記入替作業の終了した前記成形型を、それぞれに対応する同一の前記成形型支持部に繰り返し再配置するようにすればよい。
また、本発明の光学素子の製造方法では、前記成形型支持部のそれぞれに対して、成形条件を予め設定し、設定した成形条件に基づいて、前記成形型支持部に支持された成形型に、加熱、プレス、冷却を含む処理を施すことができる。
これにより、成形型の個体差に依存する成形条件を、成形型が支持される支持部に付随するデータとして管理、制御することができ、成形ごとに個々の成形型の個体認識を行うことなく、個々の成形型ごとに、容易に成形条件を最適化することができる。
前記成形条件としては、プレス荷重、プレスストローク、プレス速度、又は加熱温度などが挙げられる。
また、本発明の光学素子の製造方法は、前記成形型のうち少なくとも一つが、他の成形型と異なる寸法とすることができ、このような場合であっても、成形型ごとに最適な条件でプレス成形を行うことができる。さらに、成形条件の異なる複数種の光学素子を同時に流動させながら、それぞれに対して最適な条件でプレス成形を行うこともできる。
また、本発明のモールドプレス成形装置は、加熱部、プレス部、冷却部を含む複数の処理部と、複数の成形型支持部と、前記成形型支持部を前記複数の処理部に順次移動させ、循環させる移動手段と、前記移動手段を一定の周期で移動させる制御手段と、前記処理部にて処理が施された成形型を、成形型支持部から取出す手段が設けられた取出ゾーンと、前記取出ゾーンでの取出し後に成形素材を供給した成形型を、成形型支持部に供給する供給ゾーンとを備え、前記取出ゾーンと供給ゾーンの間に、成形型が取り外された前記成形型支持部を移動させる領域を設けた構成としてある。
このような構成とすることにより、成形型の分解組立が、成形サイクルの進行の妨げになるのを回避しつつ、生産効率の低下を伴うことなく、成形型と支持台との組み合わせを常に同一とすることができる。
以上のように、本発明によれば、成形型と、成形型支持部との組み合わせを常に同一として、プレス成形を繰り返し行うことができる。このため、成形型の個体差などに応じた最適な成形条件を、予め、成形装置の制御部に入力しておく際に、成形型を支持する成形型支持部の個体差についても織り込んだ成形条件を入力しておくことで、プレス成形の条件の均一化を図り、得られる製品ごとのばらつきを少なくすることができる。したがって、プレス条件の異なる複数種の光学素子を同時に流動させてプレス成形を行うような場合であっても、それぞれの最適条件でプレス成形することが可能となる。
以下、本発明に係る光学素子の製造方法、及びモールドプレス成形装置の好ましい実施形態について、図面を参照して説明する。
[モールドプレス成形装置]
まず、本発明に係るモールドプレス成形装置(以下、単に成形装置という)の実施形態について説明する。
ここで、図1は、本実施形態に係る成形装置を概念的に示す説明図である。
本実施形態における成形装置は、成形素材が収容された成形型に、順次、加熱、プレス、冷却を含む処理を施して、成形素材を所望の形状にプレス成形するためのものであり、供給ゾーンP1、成形ゾーンP2、取出ゾーンP3、アイドルゾーンP4、及び分解組立ゾーンP5を備えている。
また、成形ゾーンP2には、成形型に上記処理を施す、加熱部、プレス部、冷却部などの処理部が設けられている。
さらに、本実施形態における成形装置は、供給ゾーンP1、成形ゾーンP2に設けられた各処理部、取出ゾーンP3、アイドルゾーンP4の順に、一定時間ごとに移動と停止を繰り返して間歇的に移動するように、所定の移動手段に取り付けられた複数の支持台(成形型支持部)を備えている。このとき、移動開始から、次の移動開始までの時間は一定時間Tである。
なお、アイドルゾーンP4においては、支持台は、停止してもよく、また停止せず通過するだけでも良い。
このとき、支持台は、一つずつ単独で移動するようにしてもよく、二以上の支持台がひとまとまりで移動するようにしてもよい。また、供給ゾーンP1から成形ゾーンP2、アイドルゾーンP4を経て間歇的に順次移動してきた支持台は、再び供給ゾーンP1に移動し、同様の移動を繰り返す。
移動手段としては、回転駆動手段に連結された回転テーブルや、直線動作を主とする駆動手段など公知のものが適用できるが、その形態は限定されない。
供給ゾーンP1では、成形に供される成形素材が収容された成形型を、支持台に支持させる作業が行われる。支持台に支持された成形型は、前述したようにして支持台が移動することにより、成形ゾーンP2に設けられた各処理部に順次移送される。その際、成形型には、加熱、プレス、冷却といった所定の処理が施され、成形型に収容された成形素材が、所望の形状に成形される。
取出ゾーンP3では、成形を終えた成形型を支持台から取り外す作業が行われ、支持台から取り外された成形型は、任意の移送手段により、分解組立ゾーンP5に移送される。
分解組立ゾーンP5では、移送されてきた成形型を分解して所望の形状に成形された成形体を取り出すとともに、新たに成形に供される成形素材を収容して、成形型を組み立てる作業が行われる。成形素材が収容された成形型は、任意の移送手段により、供給ゾーンP1に移送され、再び支持台に支持される。そして、成形型は、支持台の間歇的な移動により、成形ゾーンP2に設けられた各処理部に移送され、成形が繰り返される。
したがって、成形型を移送する支持台が間歇的に移動する一定時間T、すなわち、支持台が移動を開始してから、次の移動が開始されるまでの時間が、成形サイクルタイムとなり、上記一定時間Tあたり1個の成形型を移送すれば、時間Tあたり1個の成形体が得られる。
なお、取出ゾーンP3で成形型が取り外された支持台は、その位置で、新たな成形素材を収容した成形型の供給を待機するのではなく、供給ゾーンP1に移動する。このときの移動領域がアイドルゾーンP4である。この移動は、所定時間(分解組立ゾーンにおける成形型の分解組立に必要な時間)以内で供給ゾーンP1に到達できれば、任意の速度でよい。また、支持台は、供給ゾーンP1から成形ゾーンP2を経て取出ゾーンP3に至るまでの一定の間歇移動と同一の移動をすることが好ましく、アイドルゾーンP4を、支持台の循環路の一部とすることが装置構成上有利である。
よって、支持台が、取出ゾーンP3から供給ゾーンP1に移動し、さらに供給ゾーンP1からの移動を開始するのに要する時間t1は、取出ゾーンP3から供給ゾーンP1に移動するまでに行われる支持台の間歇的な移動回数をzとすると、t1=T×(1+z)となる。
このとき、取出ゾーンP3で支持台から成形型を取り外してから、分解組立ゾーンP5において成形型の分解、組み立てを行って、供給ゾーンP1に成形型を移送して支持台に再配置する一連の入替工程に要する時間t2と、上記時間t1とがほぼ等しくなるように、支持台を間歇的に移動させる一定時間Tや、移動回数zを適宜調整することで、支持台が供給ゾーンP1に到達する時期と、成形型が供給ゾーンP1に到達する時期とをほぼ同期させることができる。これにより、供給ゾーンP1において、成形型を支持台に再配置するにあたり、成形型と支持台との組み合わせを常に同一とすることが可能となる。
なお、移動回数zは、アイドルゾーンP4の行路長を適宜変更することによって調整することができる。
ここで、単に、支持台が供給ゾーンP1に到達する時期と、成形型が供給ゾーンP1に到達する時期とを同期させるだけであれば、アイドルゾーンP4を設けなくても、上記一定時間Tを長くするだけで十分である。
しかし、成形サイクルタイムを短縮して、生産効率を向上させるためには、上記一定時間Tは、可能な限り短くするのが好ましい。さらに、成形型の分解組立作業を含む入替工程に要する時間t2を短縮するには限界がある。
したがって、成形型の分解組立作業を含む入替工程の所要時間を勘案して成形サイクルタイムTを設定することができ、又は、上記入替工程の所要時間と、成形に適した成形サイクルタイムを勘案した上で、アイドルゾーンP4の行路長や、その中での停止回数を設定することができる。
例えば、本実施形態では、成形型の分解組立作業を経て、成形型を供給ゾーンP1に移送して支持台に再配置するまでの成形型の入替工程に要する時間t2が、所望の成形サイクルタイムを超えるような場合であっても、アイドルゾーンP4を経由して支持台を移動させることにより、後続の支持台が取出ゾーンP1に至ることを阻害せず、ひいては成形ゾーンP2における成形の進行を維持し、成形型が供給ゾーンP1に到達する時期とほぼ同期して上記再配置を行うことができる。
これにより、本実施形態によれば、成形型の分解組立作業を含む一連の入替工程には、成形サイクルタイム(上記一定時間T)より長い時間を充当して、成形型の分解組立が、成形サイクルの進行の妨げになるのを回避しつつ、生産効率の低下を伴うことなく、成形型と支持台との組み合わせを常に同一とすることができる。
このような成形装置において、成形型が移送される流れを、図1を参照しつつ、より具体的に説明する。
なお、図1には、複数の支持台のうち二つの支持台を代表して示しており、支持台Xには成形型xが、支持台Yには成形型yが、それぞれ組み合わされている。また、図1は、支持台X,Yが、それぞれ一つずつ単独で移動するようにした例であり、図中矢印で、支持台X,Y、成形型x,yのそれぞれの移動方向を示している。
供給ゾーンP1において、支持台Xに支持された成形型xは、支持台Xが移動することにより、成形ゾーンP2に移送される。このとき、支持台Xが成形ゾーンP2に移動していくのに伴って、支持台Yが供給ゾーンP1に移動してくる。供給ゾーンP1に移動してきた支持台Yには、成形型yを支持させる(図1(1)参照)。
次いで、成形型xは支持台Xに支持されて、成形ゾーンP2の各処理部を移送される。このとき、成形型yは、成形型xよりも一つ遅れて、成形ゾーンP2の各処理部を支持台Yに支持されて移送される。したがって、成形型xが取出ゾーンP3に移送されたとき、成形型yは、成形ゾーンP2の最後に設けられた処理部に移送されることになる。
成形型xが取出ゾーンP3に移送されると、成形型xは、支持台Xから取り外されて、分解組立ゾーンP5に移送される(図1(2)参照)。
分解組立ゾーンP3においては、成形型xから成形体が取り出されるとともに、新たに成形に供される成形素材が成形型xに収容されるが、この間、支持台Xは、間歇的な移動を継続して行い、アイドルゾーンP4内を移動する。
また、成形型xに続いて、成形ゾーンP2から、取出ゾーンP3に移送されてきた成形型yも、支持台Yから取り外されて、分解組立ゾーンP5に移送される(図1(3)参照)。
そして、支持台Xは、アイドルゾーンP4から供給ゾーンP1に移動し、支持台Yは、取出ゾーンP3からアイドルゾーンP4に移動する。このとき、支持台Xが、取出ゾーンP3からアイドルゾーンP4を経由して、供給ゾーンP1に移動し、供給ゾーンP1からの移動を開始するのに要する時間t1と、取出ゾーンP3において成形型を支持台から取り外してから、分解組立ゾーンP5における分解、組み立てを経て、供給ゾーンP1に成形型を移送するまでに要する時間t2とがほぼ等しくなるようにしておけば、成形型xは再び支持台Xに支持され、同一の組み合わせによって成形が繰り返され(図1(4)参照)、同様に、成形型yも再び支持台Yに支持されて成形が繰り返される。
これに対し、アイドルゾーンP4を設けず、供給ゾーンP1と取出ゾーンP3とを共通とし、供給取出ゾーンPにおいて、成形型x、yの支持台X,Yへの支持と取り外しを行うようにしたときに(前述した特許文献1に開示された成型装置に相当)、成形型が移送される流れを、図11を参照して説明する。
成形ゾーンP2の各処理部を移送され(図11(1)参照)、供給取出ゾーンPに戻ってきた成形型xは、支持台Xから取り外されて、分解組立ゾーンP5に移送される(図11(2)参照)。
このとき、成形型xから成形体を取り出して、新たな成形素材を収容して成形型xを組み立てるまで、支持台Xをそのままの状態で待機させておけば、成形型xを再び支持台Xに支持させることができ、同一の組み合わせによって成形を繰り返すことができる。しかし、この場合には、支持台Xを待機させている間、他の支持台も移動を停止することになり、その分だけ成形サイクルタイムが長くなってしまう。
一方、図示するように、成形素材が収容された別の成形型αを用意し、この成形型αを支持台Xに支持させて、この組み合わせで、成形ゾーンP2を移動するようにすれば(図11(3)参照)、支持台Xを待機させる必要がなくなり、成形サイクルタイムが長くなってしまうこともない。しかし、この場合には、成形型と支持台との組み合わせを同じにすることができず、次に供給取出ゾーンPに戻ってきた成形型yは、支持台Yから取り外されて分解組立ゾーンP5に移送される一方で、支持台Yには、支持台Yが供給取出ゾーンPに移動してくるまでの時間を利用して、新たな成形素材を収容して組み立てられた、成形型xを支持させ、この組み合わせで成形が行われるというように、成形型と支持台との組み合わせが、一つずつずれていくことになる。
[モールドプレス成形型]
次に、本発明に好適に用いられるモールドプレス成形型(以下、単に成形型という)の一例について説明する。ここで、図6は、成形型の概略断面図であり、プレス荷重印加時の状態を示している(後述する図8(7)参照)。
図5に示す成形型100は、上型10、下型20、胴型30及び支承部材40を備えて構成され、上型10と下型20との間で成形素材50をプレス成形する。
図示する例において、胴型30は、成形型100を組み立てる際や、プレス成形の際に、上下型10,20を摺動ガイドすることにより、これらの水平方向の相対位置を規制して、上下型10,20の同軸性を確保する。
このため、胴型30と上下型10,20の摺動クリアランスは、要求される光学素子の偏心精度を考慮すると10μm以下、特に、5μm以下とすることが好ましい。上記摺動クリアランスを制御すれば、上下型10,20の成形面11,21間の偏心(シフト:上下型10,20の成形面11,21の水平方向のずれ、ティルト:上下型10,20の軸の傾き)を高精度に抑制できる。
後述する光学素子の製造方法では、プレス成形の際に、胴型30内に嵌合された下型20に対して、上型10が胴型30内を摺動ガイドされ、上下型10,20が相対的に接近、離間するように構成した例について説明するが、これとは逆に構成することもできる。すなわち、胴型30内に嵌合された上型10に対して、下型20が胴型30内を摺動ガイドされるようにしてもよく、上下型10,20が、その同軸性を確保しつつ、相対的に近接、離間するようになっていれば、その具体的な構成は制限されない。
このような胴型30には、上下型10,20が接近、離間するときに、型内外の気圧差によって、上下型10,20の動きが妨げられないようにするための通気孔33を設けておくのが好ましい。特に、図示するように、胴型30の内径が変化して段部となっている部位に通気孔33を設け、この段部の隙間における体積の増減に対して、成形型内部が常に外圧と等しくなるように、通気孔33を介して雰囲気ガスの導通が行われるようにするのが好ましい。また、支承部材40にも、胴型30と同様の目的で通気孔41を設けることが好ましい。これにより、プレス成形や成形型の組立・分解をスムーズに行えるようになる。
上型10は、下型20と対向する下面に成形面11が形成されている。上型10の上部には、成形面11より径の大きいフランジ部12が形成されており、このフランジ部12が、胴型30の上部に形成された大径内周部31に収容される。
このとき、上型10の上面と、胴型30の上面とが同一面となったときに、上型10に形成されたフランジ部12の下面と、胴型30に形成された小径内周部32の上端との間には、所定寸法以上の隙間Gが確保されるようにするのが好ましい。このような隙間Gを確保することにより、プレス成形の際に、上型10を、その上面が胴型30の上面と一致するまで押し込んで、いったん成形体15の肉厚を決めた後であっても、成形体51に必要な荷重(上型10の自重のみでもよい)を付与し続けることができ、成形体51の熱収縮に追従した上型10の下降を許容することができる(後述する図8(7)及び同(8)参照)。
また、下型20の上型10と対向する上面には、成形面21が形成されており、下型20の下部には、成形面21より径の大きいフランジ部22が形成されている。プレス成形の際に、このフランジ部22の上面に胴型30の下面が当接し、かつ、プレス圧によって互いに密着されることにより、下型20と胴型30の相互位置が高精度に画定され、これによってもティルトが抑制される。
このような成形型100において、上型10、下型20、胴型30及び支承部材40の素材には特に制限はない。炭化ケイ素、ケイ素、窒化ケイ素、炭化タングステン、酸化アルミニウムや炭化チタンなどのサーメット、又は、これらの表面にダイヤモンド、耐熱金属、貴金属合金、炭化物、窒化物、硼化物、酸化物などを被覆したものを挙げることができる。
上下型10,20の成形面11、21や、支承部材40には、ガラスの融着を防止するために、非晶質及び/又は結晶質のグラファイト及び/又はダイヤモンドの単一成分層又は混合層からなる炭素膜、又は貴金属合金による離型膜などを用いることが好ましい。
[光学素子の製造方法]
次に、本発明に係る光学素子の製造方法の実施形態について、前述した成形装置のより具体的な例を示しつつ、図6に示す成形型を、ここに例示する成形装置に適用して実施する例を挙げて説明する。
ここで、図2は、前述した成形装置を、回転移送式の成形装置に適用した例を示す概略平面図である。
図2に示す成形装置は、支持台3の移動手段として回転テーブル2を採用した、回転移送式の成形装置であって、周方向に沿ってほぼ等間隔に並べて配置された、供給ゾーンP1と、成形ゾーンP2をなす多数の処理室P2a〜P2hと、取出ゾーンP3と、アイドルゾーンP4とを成形エリアに備えている。また、成形エリアの外には、分解組立ゾーンP5を備えている。
ここで、P2aは第一加熱室、P2bは第二加熱室、P2cは第三加熱室(又は均熱室)であり、これらは総称して加熱部ともいう。P2dは第一プレス室、P2eは第二プレス室であり、これらは総称してプレス部ともいい、加熱部でプレス成形に適した温度とされた成形型へのプレス荷重の印加が行われる。P2fは第一徐冷室、P2gは第二徐冷室、P2hは急冷室であり、これらは総称して冷却部ともいい、プレス荷重が印加された後の成形型の冷却処理が行われる。
そして、これらの処理室P2a〜P2hは、それぞれの処理に適した温度に温度制御されるとともに、各処理室内の温度を所定温度に保つために、シャッターS1〜S6によって区画されている。
供給ゾーンP1では、チャンバ1により包囲された成形エリア内の設定環境を損なうことなく、成形に供される成形素材50を収容して組み立てられた成形型100の挿入作業が行われるが、具体的には、次のようにして成形型100を成形エリア内に挿入する。
ここで、図3は、図2のA−A断面に相当し、供給ゾーンP1の概略を示す説明図である。
まず、成形型100の挿入作業が行われないときの状態を説明すると、ピストンロッド5aの下端に取り付けられたベルジャー5が、上下に開口する筒状のシール台6の上端に押しつけられ、これによって、シール台6の上方開口部を封止して、成形エリア内の気密状態が確保されるようにしてある。
成形型100を成形エリア内に挿入する際には、回転テーブル2の外周側に形成された穴2aに嵌合することにより取り付けられた支持台3を、ピストンロッド4により、回転テーブル2から取り外すとともに、図3において二点破線で示す位置まで支持台3を上昇させ、次いで、ピストンロッド5aによりベルジャー5を上昇させて、支持台3を大気開放する。このとき、支持台3のフランジ部3aをチャンバ1の内面に押しつけることにより、シール台6の下方開口部を封止して、成形エリア内の気密状態を確保する。
なお、図示する例において、支持台3は、成形型100が、各処理室P2a〜P2hのほぼ中央に位置するように(後述する図4及び図5参照)、背の高い台として形成されているが、支持台3の形状は、成形型100や、加熱手段8の形態に応じて適宜変更することができる。また、必要に応じて支持台3を省略し、回転テーブル2上に成形型100を直に支持させるようにしてもよい。
次に、図示しない把持具などにより、成形素材50を収容した成形型100を搬送し、図中二点破線で示すように成形型100を支持台3に支持させた後に、ピストンロッド5aによりベルジャー5を下降させて、シール台6の上端に再び押しつける。そして、ベルジャー5、シール台6、及び支持台3のフランジ部3aによって囲まれる空間内を、シール台6に接続されたパイプ6aを介して排気してから、窒素などの非酸化性ガスを充填してガス置換することにより、成形エリア内と同様の気相状態とする。
このようにすれば、ピストンロッド4により支持台3を下降させ、シール台6の下方開口部を開放しても、成形エリア内の設定環境が損なわれることがなく、成形型100を支持させた支持台3を再び回転テーブル2に取り付けることができる(図3参照)。
供給ゾーンP1から成形エリア内に挿入された成形型100は、回転テーブル2が、図2において矢印方向に回転することにより、常時非酸化性ガスの雰囲気(不活性ガス雰囲気)下に環境設定された、成形ゾーンP2の処理室P2a〜P2hの中を順次通過する。
回転テーブル2は、図示しない回転軸と、インデックスマシンを備えた制御手段とを中央に備えており、回転テーブル2が、一定時間Tごとに回転と停止を繰り返して、所定の回転角度分だけ間歇的に回転することによって、支持台3に支持された成形型100が、隣設する処理室間を移動する。そして、この一定時間T、すなわち、回転テーブル2の間歇的な回転により成形型100が移動を開始してから、次の移動が開始されるまでの時間が、成形サイクルタイムとなる。
成形ゾーンP2に設けられた第一加熱室P2aは、図4に示すように、周囲をケース7によって取り囲まれているが、このケース7は、図示しない適当な手段によって、チャンバ1に固定されている。
また、ケース7の底壁7aには、周方向に延びるスリット7bが形成されている。このスリット7bは、成形型100を移送する際の支持台3の移動通路となるものであり、スリット7bを通って、その下側から第1加熱室P2a内に、支持台3が入り込むようになっている。さらに、ケース7内には、ケース7の内面を覆うリフレクタ9が配置されているとともに、ケース7の内側側面には、成形型100の移送路に面して、抵抗加熱によるヒータ、高周波誘導コイルなどの加熱手段8が設置されている。
ここで、図4は、図2のB−B断面に相当し、第一加熱室P2aの概略を示す説明図である。
なお、第二加熱室P2b、第三加熱室(均熱室)P2c、第一徐冷室P2f、第二徐冷室P2gは、設定温度が異なるだけで、第一加熱室P2aと同様の構造となっている。また、各処理室は、各々の設定温度に維持されるように温度制御されるが、支持台3の先端に熱電対を配し、その導線を回転テーブル2の回転軸に導いて、支持台3の先端部、すなわち、成形型100の底部の温度測定を行うことにより、加熱手段18による加熱温度を制御することができる。
加熱部P2a〜P2cを通過して、加熱処理が施された成形型100には、プレス室P2d,P2eにおいてプレス処理が施される。
第一プレス室P2dは、図5に示すように、ケース7により周囲が取り囲まれ、ケース7内には、加熱手段8、リフレクタ9が配置されている点で、第一加熱室P2aと共通に構成されているが、これらに加え、回転テーブル2を下側から支えるための支持棒90aと、成形型100にプレス荷重を印加するための加圧棒90を有する加圧手段91とを備えている。
加圧手段91は、予め成形条件が設定された制御部110からの制御信号によってその駆動が適宜制御される。また、加熱手段8による加熱温度も制御部110からの制御信号によって制御される。この成形条件は、回転テーブル2によって移送されてくる支持台3、及び成形型100のそれぞれに対応するように設定されていて、具体的な成形条件としては、プレス荷重、プレスストローク、プレス速度、又は加熱温度のうち少なくとも一つを設定することができる。
ここで、図5は、図2のC−C断面に相当し、第一プレス室P2dの概略を示す説明図である。なお、第二プレス室P2eも、第一プレス室P2dと同様の構造となっている。
プレス室P2d,P2eでプレス処理が施された成形型100は、第一徐冷室P2f、第二徐冷室P2g、急冷室P2hに順次移送され、冷却処理が施される。前述したように、第一徐冷室P2fと、第二徐冷室P2gは、第一加熱室P2aと同様に構成されているが、急冷室P2hには、冷却ガスによる急冷機構を設けることができる。
冷却部P2f〜P2hでの冷却処理を終えた成形型は、取出ゾーンP3に移送され、成形エリア外に取り出される。取出ゾーンP3は、前述した供給ゾーンP1と同様に構成されており、成形型100の挿入作業と逆の手順で、成形エリア内の設定環境が損なわれないようにして、成形を終えた成形型100の取出作業が行われる。
成形エリアから取り出された成形型100は、分解組立ゾーンP5に移送される。分解組立ゾーンP5では、成形型100を分解して、所望の形状に成形された成形体を取り出すとともに、新たに成形に供される成形素材を収容して、成形型を組み立てる作業が行われる。そして、組み立てられた成形型100は、供給ゾーンP1に移送される。
このような一連の入替工程が行われる一方で、取出ゾーンP3において成形型100が取り外された支持台3は、アイドルゾーンP4を経由して供給ゾーンP1へと移動する。
このとき、図2に示す例では、取出ゾーンP3と、供給ゾーンP1との間に、これらと等間隔にアイドルゾーンP4を設けてあるので、支持台3が、取出ゾーンP3からアイドルゾーンP4を経由して、供給ゾーンP1に移動し、さらに供給ゾーンP1から移動を開始するまでに要する時間t1は、回転テーブル2が間歇的に回転する一定時間Tの三倍(t1=T×3)になる。したがって、この時間t1以内に、取出ゾーンP3において成形型100を支持台3から取り外してから、分解組立ゾーンP5における分解、組み立てを経て、供給ゾーンP1に成形型100を移送するまでの一連の入替工程を終えるようにすれば、成形型100が、再び同じ支持台3に支持されるようにすることができる。
分解組立ゾーンP5で行われる成形型100の分解、組み立ては、上記時間t1以内に、成形型100を供給ゾーンP1に移送することができる限り、取出ゾーンP3から供給ゾーンP1に移送されるまでの適当な位置で行うことができる。例えば、図示するように、分解組立ゾーンP5を取出ゾーンP3と供給ゾーンP1の中間地点に設け、この位置で成形型100の分解、組み立てを行うようにしてもよいが、成形型100が取出ゾーンP3から取り出された直後、又は、成形型100を供給ゾーンP1に移送する直前の位置で行うようにしてもよい。
また、成形型100の分解、組み立ては、成形型100を移送しながら行うようにしてもよい。このとき、成形体の取り出しや、成形素材の供給に支障をきたさないように、成形体の取り出し、及び/又は形成素材の供給を行うときだけ、成形型100の移送を停止させてもよい。
このように、本実施形態によれば、成形型100と、支持台3との組み合わせを常に同一として、プレス成形を繰り返し行うことができる。
このため、各成形型100の寸法、形状、質量などの個体差と、これらに供給される成形素材50との組み合わせによる特性などに応じて、成形型100ごとの最適な成形条件を、予め、成形装置の制御部に入力しておく際に、各成形型100と常に対となって組み合わされる支持台3の個体差についても織り込んだ成形条件を入力しておくことで、常に一定の条件でプレス成形を行い、得られる製品ごとのばらつきを少なくすることができる。
また、成形型100と、支持台3とが、常に同一の組み合わせでプレス成形に処されるため、成形型100の個体差に依存する成形条件を、成形型100が支持される支持部3に付随するデータとして管理、制御することが可能となる。このため、支持台3のみに着目して成形条件を最適化すれば、成形型100ごとに成形条件を最適化したことになるので、成形型100の個体認識をする必要がなく、成形条件の最適化を容易にすることができる。
このように最適化して設定する成形条件としては、プレス荷重、プレスストローク、プレス速度(プレスヘッドが成形型に荷重印加するときの移動速度) 、加熱手段8の出力、冷却ガス流量などがある。
さらに、一台の成形装置に、形状、体積などの異なる複数の光学素子を混流させて、同時に製造する場合であっても、加熱部P2a〜P2cにおける加熱手段8の出力や、プレス室P2d,P2eにおけるプレス荷重、プレスストローク、プレス速度などを、支持台3ごとに異なるように予め設定し、制御することにより、いずれの光学素子も最適の条件でプレス成形することができ、その形状精度、面精度を良好に維持することが可能となるため、生産効率を向上させる上で、きわめて有利である。
次に、本実施形態における光学素子の製造方法を実施するにあたり、その具体的な手順の一例を以下に説明する。
ここで、図7〜図9は、本実施形態の光学素子の製造方法を実施する手順の一例を示す説明図である。
まず、分解組立ゾーンP5において、下型20と上型10とが離間した状態で待機している成形型に対し、吸着パッド61付の搬送アーム60によって、ガラスプリフォームなどの成形素材50を供給する(図7(1)参照)。
このとき、上型10が組み込まれた胴型30は、支持手段80により、その位置を固定しておく。また、載置台70に設けられた開口部71から雰囲気ガスを吸引することにより、載置台70上に下型20を密着、固定し、下型20が位置ずれを起こさないようにしておく。
そして、搬送アーム60の吸着パッド61が、所定範囲内の精度で下型20の成形面21上に到達したときに(図7(2)参照)、その吸着を解除し、搬送アーム60を直ちに退避させる。
これにより、成形素材50は、下型20の成形面21上に載置される(図7(3)参照)。
次いで、搬送アーム60を退避させた後に、載置台70を上昇させ、胴型30内に下型20を組み込む。胴型30内に下型20が組み込まれ、胴型30の下面に、下型20のフランジ部22の上面が当接すると、成形素材50の厚みによって、上型10の上面が、胴型30の上面より高い位置に押し上げられる(図7(4)参照)。
分解組立ゾーンP5における成形型100の組立作業を終えた後、図示しない把持具などにより、成形型100を供給ゾーンP1に移送する。供給ゾーンP1では、前述したようにして、成形エリア内の設定環境が損なわれないように、成形型100を成形エリア内に挿入するとともに、支持台3に成形型100を支持させる。
そして、成形型100を支持させた支持台3が、回転テーブル2に取り付けられると、シャッターS1〜S6を開くとともに、回転テーブル2を所定の回転角度だけ回転させる。これにより、成形型100は、第一加熱室P2aに移動し、そこで停止する(図8(5)参照)。
第一加熱室P2a内に、成形型100を一定時間滞在させた後、回転テーブル2を再び所定の回転角度だけ回転させ、成形型100を第二加熱室P2bに移動する。その後は同様に、一定時間Tごとに回転テーブル2の回転と停止を繰り返す。これにより、成形型100は、隣設する処理室間を順次移動する。
このとき、例えば、第一加熱室P2aは、成形素材のプレス温度以上の高温に保ち、成形型100ごと、収容された成形素材50を急速に加熱する。そして、第二加熱室P2bでの加熱により、成形型100及び成形素材50を均熱化しつつ、さらに加熱してプレス温度に近づける。第三加熱室P2cでは、成形型100及び成形素材50を均熱化して、成形素材50のガラス粘度をプレス成形に適切な10〜10dPa・s付近に調整する。
次いで、プレス成形に適した温度に加熱された成形型100を、回転テーブル2の間歇的な回転により、第一プレス室P2dに移送する(図8(6)参照)。
回転テーブル2が停止したら、支持棒90aにより回転テーブル2を下側から支えながら、プレスヘッド(加圧棒)90を下降させ、所定圧力(例えば、30〜200Kg/cm)、所定時間(例えば、数十秒)で、成形型100にプレス荷重を印加する(図8(7)参照)。このとき、下型20と成形素材50との間に介在する雰囲気ガスは、支承部材40の通気孔41や胴型30の通気孔33を経由して成形型の外部へ放出される。
その後、プレスヘッド90を上昇してプレス荷重を解除するとともに、支持棒90aを下降させる。そして、回転テーブル2を再び間歇的に回転させ、成形型100を第二プレス室P2eに移動して、再びプレス荷重を印可する。
このように、二段階に分けてプレス荷重を成形型100に印加するに際し、第一プレス室P2dと、第二プレス室P2eとでは、設定温度、プレス荷重、プレスストローク、プレス速度などのプレス条件を異ならせることができる。
プレス室P2d,P2eのプレス条件は、例えば、次のように設定することができる。
第一プレス室P2dの設定温度を、ガラス粘度で10dPa・s相当とし、60Kg/cm程度の圧力でプレス荷重を印加する。そして、最終プレス肉厚より、20μm程度大きくなる位置までプレスする。この場合、プレスヘッドのプレスストロークは、初期位置から上記位置まで、成形型100の寸法に基づいて予め設定して制御部に入力しておき、この設定にしたがってプレスヘッド90を作動させる。
これに続く、第二プレス室P2eでは、設定温度をガラス粘度で1010dPa・s相当とし、圧力30Kg/cm程度のプレス荷重によって、さらにプレスする。そして、プレスヘッド90の下面が胴型30の上面に当接することによって、成形素材50は最終プレス肉厚に到達する。
このような成形条件を異ならせた二段階のプレスにより、より高精度の成形が可能となる。
このとき、第一プレス室P2dで設定されるプレスストロークは、成形型100の軸方向の寸法が全ての成形型100で同じであれば、同一に設定することができるが、通常、成形型100は、多数回のプレスによって消耗した成形面11,21を研磨して再生したり、既存の成形型を異種の光学素子用として再利用したりしているため、軸方向の寸法が個々の成形型100ごとに異なっている。したがって、プレスストロークは、個々の成形型100ごとに設定を変更する必要がある。さらに、支持台3にも個体差があり、その高さは、厳密には全ての支持台3において一定とは限らない。
また、成形型100の寸法が異なれば、その質量も異なってくるため、プレス成形に適した温度に加熱するために必要な熱量を得るために、加熱手段(加熱源)8の出力を成形型100ごとに設定を変えなければならない。
前述したように、本実施形態では、成形型100と、支持台3との組み合わせを常に同一とすることができるので、成形型100の個体差に依存する成形条件を、成形型100が支持される支持部3に付随するデータとして管理、制御し、これによって、成形型100の寸法や、支持台3の個体差などに関わらず、最適のプレス条件で成形を行うことができる。
第二プレス室P2eでのプレス処理を終えた成形型100には、冷却処理を施すが、まず、第一徐冷室P2f、第二徐冷室P2gに成形型100を順次移送して、少なくとも成形素材50のガラス転移点よりも低い温度まで冷却する(図8(8)参照)。
このとき、成形型には、上型10のフランジ部12の下面と、胴型30の小径内周部32の上端との間に、前述したような隙間Gを所定の寸法で確保しておくことにより、ガラスの収縮に対して上型10がその自重によって追随することが可能となり、良好な形状精度が得られる。
なお、ガラスの収縮に追随して上型10が降下したとき、上型10のフランジ部12と、胴型30の小径内周部32の上端面との間の隙間Gの間隔は狭くなる。
次に、第一徐冷室P2f、第二徐冷室P2gでの冷却処理を終えた成形型100を、急冷室P2hに移送する。
前述したように、第一徐冷室P2fと第二徐冷室P2gは、第一加熱室P2aと同様に構成されているが、急冷室P2hには、冷却ガスによる急冷機構を設けることができ、急冷室P2hにおける冷却温度は、成形型100の酸化防止のために、例えば、250℃以下に設定することができる。
その後、冷却処理が施された成形型100を取出ゾーンP3に移送して、成形型100を支持台3から取り外し、次いで、分解組立ゾーンP5へと移送する。一方、成形型100が取り外された支持台3は、アイドルゾーンP4を経由して供給ゾーンP1へと移動する。
このとき、アイドルゾーンP4には、適宜加熱手段を設置しておくことにより、支持部3に対して温度調整を施すことができるようにしておくのが好ましい。このようにすれば、アイドルゾーンP4において、次の成形サイクルにおける加熱部P2a〜P2cでの加熱に先行して、支持部3を加熱することにより、加熱部P2a〜P2cにおける昇温時間を短縮し、成形サイクルタイムの短縮を図ることができる。
分解組立ゾーンP5では、成形型100を載置台70に載置し(図9(9)参照)、支持手段80により胴型30の位置を固定するとともに、載置台70の開口部71から雰囲気ガスを吸引して、載置台70上に下型20を一体的に支持した上で、載置台70を垂直に下降させ、胴型30から下型20を抜き出す(図9(10)参照)。
このとき、載置台70上に下型20を一体的に支持して、胴型30から下型20を抜き出したときの位置を維持することで、下型20と胴型30の水平方向の相対位置がずれてしまうのを避けることができる。
そして、搬送アーム60の吸着パッド61により、成形体51を吸引支持し、下型20の成形面21上から成形体51を取り出す(図9(11)参照)。
このようにして成形型100から取り出された成形体51は、そのまま、又は必要に応じて芯取り加工を施して、所望の光学素子とすることができる。
成形型100から成形体51を取り出した後は、上記手順を繰り返すことによって、プレス成形を連続的に行うことができる。
以上のような本実施形態にあっては、加熱部、プレス部、冷却部などの各処理部に、成形素材が収容された成形型を移送して、加熱、プレス、冷却を含む適切な処理を順次施すが、各処理部に成形型を移送する具体的な構成は、上記した例には制限されない。例えば、上記した例では、回転テーブル2により成形型100を移送するようにしているが、二次元的(場合によっては三次元的)に配置された各処理部内を所定の時間間隔で通過できるように構成されているものであれば、成形型を移送する手段は特に制限されない。
また、各処理部の配置構成は、成形素材の組成や、得ようとする光学素子の形状にあわせて、加熱工程や冷却工程を最適化するために適宜変更することができる。例えば、加熱室を四つにしたり、徐冷室を三つにしたりするなどの変更を行うことができる。また、生産効率をさらに向上させるためには、加熱室、プレス室、冷却室などをそれぞれ同数連設し、異なる温度条件、異なる加圧条件を要する複数種類のプレス成形を同時並行的に行うようにしてもよい。
また、生産効率を向上させるために、各処理部において、加熱、プレス荷重の印加、冷却処理などの処理が行われるときに、一つの処理室に二以上の成形型が配列されるように、これに対応させて複数の支持台を、ひとまとまりで各処理室を移動するように設け、複数の成形型に対して同時に同じ処理を施すようにしてもよい。この場合、プレス室には、成形型の数に対応した二以上のプレス手段を設けることが好ましい。
また、本実施形態に用いる成形素材50の材料には特に制限はなく、ガラスプリフォームなどのガラス素材とすることができる。具体的には、ブロック状の光学ガラスを、切断、研磨して、円盤状、球形状などに加工(冷間加工)したガラスプリフォームとすることができるが、生産効率の点からは、光学ガラスを、溶融状態から受け型上に滴下、又は流下することによって、球形状、又は両凸曲面形状などに予備成形(熱間成形)したガラスプリフォームを用いるのが有利である。
以上、本発明について、好ましい実施形態を示して説明したが、本発明は、上記した実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の範囲で種々の変更実施が可能であることは言うまでもない。
本発明は、被成形面に対する研磨などの後加工を必要とせずに、ガラス等の成形素材を、精密加工を施した一対の上下型を用いてプレス成形することにより光学素子を製造する技術分野に広く適用することができる。
本発明に係るモールドプレス成形装置の実施形態を概念的に示す説明図である。 本発明に係るモールドプレス成形装置の実施形態を、回転移送式の成形装置に適用した例を示す概略平面図である。 図2のA−A断面に相当する供給ゾーンP1の概略を示す説明図である。 図2のB−B断面に相当する第一加熱室P2aの概略を示す説明図である。 図2のC−C断面に相当する第一プレス室P2dの概略を示す説明図である。 本発明に好適に用いられるモールドプレス成形型の一例を示す概略断面図である。 本発明に係る光学素子の製造方法の実施形態を実施する手順の一例を示す説明図である。 本発明に係る光学素子の製造方法の実施形態を実施する手順の一例を示す説明図である。 本発明に係る光学素子の製造方法の実施形態を実施する手順の一例を示す説明図である。 特許文献1に記載された回転移送式のガラス成形体の製造装置の概略を示す説明図である。 供給取出ゾーンPにおいて成形型の支持台への支持・取り外しを行うようにしたときに、成形型が移送される流れを示す説明図である。
符号の説明
3 支持台(成形型支持部)
100 成形型
P1 供給ゾーン
P2 成形ゾーン
P2a 第一加熱室
P2b 第二加熱室
P2c 第三加熱室(均熱室)
P2d 第一プレス室
P2e 第二プレス室
P2f 第一徐冷室
P2g 第二徐冷室
P2h 急冷室
P3 取出ゾーン
P4 アイドルゾーン
P5 分解組立ゾーン

Claims (6)

  1. モールドプレス成形装置に設けられた複数の成形型支持部を、加熱部、プレス部、冷却部を含む複数の処理部に、順次、一定時間ごとに間歇的に移動させることにより、前記成形型支持部のそれぞれに支持された成形型に順次、加熱、プレス、冷却を含む処理を施して光学素子を連続的に製造する光学素子の製造方法であって、
    前記処理が施された成形型を前記成形型支持部から取り外して、前記成形型から成形体を取り出すともに、新たな成形素材を前記成形型に収容し、前記取出しの行われた位置と異なる位置にある前記成形型支持部に再配置する入替工程を、前記成形型のそれぞれに対して順次行い、かつ、前記成形型を、それぞれに対応する同一の前記成形型支持部に繰り返し再配置することを特徴とする光学素子の製造方法。
  2. 前記入替工程がなされている間、前記成形型が取り外された前記成形型支持部が、一定時間ごとの間歇的な移動を継続することを特徴とする請求項1に記載の光学素子の製造方法。
  3. 前記成形型支持部のそれぞれに対して、成形条件を予め設定し、設定した成形条件に基づいて、前記成形型支持部に支持された成形型に、加熱、プレス、冷却を含む処理を施すことを特徴とする請求項1〜2のいずれか1項に記載の光学素子の製造方法
  4. 前記成形条件が、プレス荷重、プレスストローク、プレス速度、又は加熱温度の少なくともひとつであることを特徴とする請求項3に記載の製造方法
  5. 前記成形型のうち少なくとも一つが、他の成形型と異なる寸法のものである請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学素子の製造方法。
  6. 加熱部、プレス部、冷却部を含む複数の処理部と、
    複数の成形型支持部と、
    前記成形型支持部を前記複数の処理部に順次移動させ、循環させる移動手段と、
    前記移動手段を一定の周期で移動させる制御手段と、
    前記処理部にて処理が施された成形型を、成形型支持部から取出す手段が設けられた取出ゾーンと、
    前記取出ゾーンでの取出し後に成形素材を供給した成形型を、成形型支持部に供給する供給ゾーンとを備え、
    前記取出ゾーンと供給ゾーンの間に、成形型が取り外された前記成形型支持部を移動させる領域を設けたことを特徴とするモールドプレス成形装置。
JP2005094459A 2005-03-29 2005-03-29 光学素子の製造方法、及びモールドプレス成形装置 Active JP4939677B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005094459A JP4939677B2 (ja) 2005-03-29 2005-03-29 光学素子の製造方法、及びモールドプレス成形装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005094459A JP4939677B2 (ja) 2005-03-29 2005-03-29 光学素子の製造方法、及びモールドプレス成形装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006273649A true JP2006273649A (ja) 2006-10-12
JP4939677B2 JP4939677B2 (ja) 2012-05-30

Family

ID=37208749

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005094459A Active JP4939677B2 (ja) 2005-03-29 2005-03-29 光学素子の製造方法、及びモールドプレス成形装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4939677B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014162670A (ja) * 2013-02-25 2014-09-08 Hoya Corp ガラス成形体の製造方法、及びガラス成形体の製造装置
WO2019188254A1 (ja) * 2018-03-30 2019-10-03 オリンパス株式会社 光学素子の成形方法および光学素子成形用金型
WO2020013083A1 (ja) * 2018-07-10 2020-01-16 Hoya株式会社 成形型の分解組立装置及び成形装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01157425A (ja) * 1987-09-30 1989-06-20 Hoya Corp ガラス成形体の製造装置
JPH10265229A (ja) * 1997-03-25 1998-10-06 Ohara Inc ガラス成形品のプレス成形方法および装置
JPH11255526A (ja) * 1998-03-10 1999-09-21 Ngk Insulators Ltd ガラス成形装置
JP2001270723A (ja) * 2000-03-28 2001-10-02 Toyo Glass Co Ltd ガラスプレス成形機のインデックステーブル駆動機構及びその制御方法
JP2004091281A (ja) * 2002-09-02 2004-03-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd ガラスレンズの製造装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01157425A (ja) * 1987-09-30 1989-06-20 Hoya Corp ガラス成形体の製造装置
JPH10265229A (ja) * 1997-03-25 1998-10-06 Ohara Inc ガラス成形品のプレス成形方法および装置
JPH11255526A (ja) * 1998-03-10 1999-09-21 Ngk Insulators Ltd ガラス成形装置
JP2001270723A (ja) * 2000-03-28 2001-10-02 Toyo Glass Co Ltd ガラスプレス成形機のインデックステーブル駆動機構及びその制御方法
JP2004091281A (ja) * 2002-09-02 2004-03-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd ガラスレンズの製造装置

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014162670A (ja) * 2013-02-25 2014-09-08 Hoya Corp ガラス成形体の製造方法、及びガラス成形体の製造装置
KR101810753B1 (ko) * 2013-02-25 2017-12-19 호야 가부시키가이샤 유리 성형체의 제조 방법, 및 유리 성형체의 제조 장치
WO2019188254A1 (ja) * 2018-03-30 2019-10-03 オリンパス株式会社 光学素子の成形方法および光学素子成形用金型
CN111902374A (zh) * 2018-03-30 2020-11-06 奥林巴斯株式会社 光学元件的成型方法及光学元件成型用模具
CN111902374B (zh) * 2018-03-30 2022-09-09 奥林巴斯株式会社 光学元件的成型方法及光学元件成型用模具
WO2020013083A1 (ja) * 2018-07-10 2020-01-16 Hoya株式会社 成形型の分解組立装置及び成形装置
JP2020007189A (ja) * 2018-07-10 2020-01-16 Hoya株式会社 成形型の分解組立装置及び成形装置
CN112351957A (zh) * 2018-07-10 2021-02-09 Hoya株式会社 成型模具的分解组装装置以及成型装置
JP7158928B2 (ja) 2018-07-10 2022-10-24 Hoya株式会社 成形型の分解組立装置及び成形装置
CN112351957B (zh) * 2018-07-10 2023-09-01 Hoya株式会社 成型模具的分解组装装置以及成型装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4939677B2 (ja) 2012-05-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1234631C (zh) 压模成型装置及压模成型方法
KR101272074B1 (ko) 몰드 프레스 성형 몰드 및 광학소자의 제조방법
JP5059019B2 (ja) モールドプレス成形型、及び成形体の製造方法
KR100839731B1 (ko) 몰드 프레스 성형 몰드 및 광학소자의 제조방법
JP5021205B2 (ja) モールドプレス成形型及び光学素子の製造方法
JP4939677B2 (ja) 光学素子の製造方法、及びモールドプレス成形装置
JP5021196B2 (ja) モールドプレス成形型、光学素子の製造方法、及び凹メニスカスレンズ
JP6047802B2 (ja) ガラス成形体の製造装置、及び、ガラス成形体の製造方法
TWI331987B (en) Press-molding apparatus, press-molding method and method of producing an optical element
JP2008056532A (ja) モールドプレス成形装置、及び成形体の製造方法
JP5883317B2 (ja) モールドプレス成形装置、及び光学素子の製造方法
US20040212110A1 (en) Press-molding apparatus and method of producing an optical element
JP2003104741A (ja) 光学素子のプレス成形装置及び光学素子の製造方法
JP4695404B2 (ja) 成形型の組立装置及び光学素子の製造方法
JP6081630B2 (ja) モールドプレス成形装置、及び光学素子の製造方法
JP4792141B2 (ja) モールドプレス成形型及び光学素子の製造方法
JP4455963B2 (ja) 成形体製造装置および製造方法
JP4849858B2 (ja) モールドプレス成形装置および光学素子の製造方法
JP4141983B2 (ja) モールドプレス成形方法及び光学素子の製造方法
JP2006083026A (ja) モールドプレス成形型および成形体の製造方法
JP2011184248A (ja) 光学素子の成形装置
WO2015146399A1 (ja) ガラス成形体の製造装置及びガラス成形体の製造方法
JP2004010404A (ja) ガラス光学素子の製造方法
JP3767780B2 (ja) ガラス光学素子の製造方法
JP2006232581A (ja) 光学素子の製造方法、モールドプレス成形装置、及びこれらに用いる位置決め装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080129

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100415

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100427

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100625

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110322

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110520

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120221

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120226

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150302

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4939677

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250