JP2006229027A - ウェハ搬送装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウェハWを真空吸着により吸引保持する保持部と,保持部により保持されたウェハWを所定の位置に搬送する搬送部とを備えるウェハ搬送装置100において,保持部における真空圧力を,ゲージ圧で−70kPa以上−30kPa以下とする。この真空圧力を調整するために,真空ポンプ160と,真空ポンプ160と保持部とを連通する第2の配管153とを備え,第2の配管153に,保持部における真空圧力を調整する圧力調整手段155を備える。これにより,ウェハWを真空吸着によって保持部に吸引保持した場合でも,接触によるウェハWの抗折強度の低下を軽減することができる。
【選択図】図4
Description
まず,本発明の第1の実施形態にかかる研削装置について説明する。なお,図1は,本実施形態にかかる研削装置の概略斜視図である。研削装置1は,被加工物である例えばウェハWの裏面を研削加工する装置として構成されている。ウェハWは,例えば,8インチ,12インチ等の略円板状のシリコンウェハである。研削装置1は,このウェハWの裏面(回路面と反対側の面)を研削加工して,例えば100〜50μmの厚さにまで薄くする。
110 搬送部
113 アーム部
120 保持部
133 吸着パッド
143 第1の配管
145 圧力計
151 配管分岐部
153 第2の配管
155 圧力調整手段
156 逆止弁
157 流量調節弁
158 配管開放部
159 調節ねじ
160 真空ポンプ
W ウェハ
Claims (2)
- ウェハを真空吸着により吸引保持する保持部と,前記保持部により保持された前記ウェハを所定の位置に搬送する搬送部とを備えるウェハ搬送装置において,
前記保持部における真空圧力を,ゲージ圧で−70kPa以上−30kPa以下とすることを特徴とする,ウェハ搬送装置。 - 前記保持部における真空圧力を,ゲージ圧で−70kPa以上−30kPa以下とするために,真空ポンプと,前記真空ポンプと前記保持部とに連通する配管とを備え,
前記配管に,前記保持部における真空圧力を調整する圧力調整手段を備えることを特徴とする,請求項1に記載のウェハ搬送装置。
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