JP2006220921A - 光学素子の製造方法 - Google Patents
光学素子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006220921A JP2006220921A JP2005034369A JP2005034369A JP2006220921A JP 2006220921 A JP2006220921 A JP 2006220921A JP 2005034369 A JP2005034369 A JP 2005034369A JP 2005034369 A JP2005034369 A JP 2005034369A JP 2006220921 A JP2006220921 A JP 2006220921A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical element
- metal
- manufacturing
- metal wire
- polarizer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A62—LIFE-SAVING; FIRE-FIGHTING
- A62C—FIRE-FIGHTING
- A62C37/00—Control of fire-fighting equipment
- A62C37/36—Control of fire-fighting equipment an actuating signal being generated by a sensor separate from an outlet device
- A62C37/38—Control of fire-fighting equipment an actuating signal being generated by a sensor separate from an outlet device by both sensor and actuator, e.g. valve, being in the danger zone
- A62C37/40—Control of fire-fighting equipment an actuating signal being generated by a sensor separate from an outlet device by both sensor and actuator, e.g. valve, being in the danger zone with electric connection between sensor and actuator
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1847—Manufacturing methods
- G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
- G02B5/3058—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state comprising electrically conductive elements, e.g. wire grids, conductive particles
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E04—BUILDING
- E04B—GENERAL BUILDING CONSTRUCTIONS; WALLS, e.g. PARTITIONS; ROOFS; FLOORS; CEILINGS; INSULATION OR OTHER PROTECTION OF BUILDINGS
- E04B9/00—Ceilings; Construction of ceilings, e.g. false ceilings; Ceiling construction with regard to insulation
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
- F16K31/02—Actuating devices; Operating means; Releasing devices electric; magnetic
- F16K31/06—Actuating devices; Operating means; Releasing devices electric; magnetic using a magnet, e.g. diaphragm valves, cutting off by means of a liquid
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L11/00—Hoses, i.e. flexible pipes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Business, Economics & Management (AREA)
- Public Health (AREA)
- Emergency Management (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】 本発明は、基板上に複数の金属ワイヤグリッドを備えた光学素子の製造方法であって、前記金属ワイヤグリッドを、LSP(Liquid Self-patterning Process)で作製することを特徴とする光学素子の製造方法を提供する。
【選択図】 図1
Description
従って、本発明の目的は、より安価で量産性の高い偏光子等の光学素子の製造方法を提供することにある。
1.基板上に複数の金属ワイヤグリッドを備えた光学素子の製造方法であって、前記金属ワイヤグリッドを、LSP(Liquid Self-patterning Process)で作製することを特徴とする光学素子の製造方法。
(1)レジストパターン形成
図1(a)に示すように、石英等の基板11上に、通常の方法によりレジストパターン12を形成する。
次いで、図1(b)に示すように、Alからなる金属ナノペースト13をLSP法としてのスピンコート法により塗布し、レジスト12の凹部間に埋め込む。スピンコートする際の回転数は、4000rpm(2sec)で行い、その後2000rpm(20sec)で行った。初期2secのスピンコート回転数は、500〜10000rpmの範囲内が好適であり、特に1000〜7000rpm、とりわけ2000〜5000rpmが好ましい。また、金属ナノペースト13の粘度は、本実施例では8.3cpsとした。
そして、図1(c)に示すように、加熱炉で低温焼成(200℃以下)し、金属ワイヤグリッド14の基礎を形成する。金属ナノペースト13を焼成した際には、レジスト12の凹部に100nm以下の金属粒子が析出していた。金属ナノペースト13を形成するための金属粒子としては、その粒径が形成しようとする金属グリッドワイヤの幅より小さければよく、好ましくは100nm以下である。
図1(d)に示すように、金属ワイヤグリッド14が所望の高さに至るまで、前記の(1)〜(3)の工程を繰り返す。
図1(e)に示すように、金属ワイヤグリッド14が所望の高さにまで形成できたら、レジスト12を剥離する。これにより、金属ワイヤグリッド14を備えた高精度な光学素子としての偏光子10が、安価で量産性よく作製できる。
なお、本実施例においても、金属ナノペースト13を焼成した際には、レジスト12の凹部に100nm以下の金属粒子が析出していた。
本発明は、前述した各実施形態、実施例を好適に提供するものであるが、これらの実施形態、実施例に限定されず、その趣旨を逸脱しない範囲内で種々の変更が可能である。
Claims (7)
- 基板上に複数の金属ワイヤグリッドを備えた光学素子の製造方法であって、前記金属ワイヤグリッドを、LSP(Liquid Self-patterning Process)で作製することを特徴とする光学素子の製造方法。
- 埋め込み用ペーストとして金属ナノペーストを使用することにより前記金属ワイヤグリッドを形成する、請求項1記載の光学素子の製造方法。
- 予め金属ナノペーストを埋め込むための凹部を形成するレジストを設けておき、金属ナノペーストを焼成した際、レジスト凹部に金属粒子を析出させる、請求項2記載の光学素子の製造方法。
- 埋め込み用ペーストとして2種類以上の金属からなる金属ナノペーストを使用し、多元系の金属ワイヤグリッドを作製する、請求項2又は3記載の光学素子の製造方法。
- 金属ナノペーストを焼成後、LSPを1回以上繰返し、多層の金属ワイヤグリッドを作製する、請求項2〜4の何れかに記載の光学素子の製造方法。
- 前記金属ナノペーストが、Al、Ag及びAuからなる群より選択された1種類以上の金属を含む、請求項2〜5の何れかに記載の光学素子の製造方法。
- 前記光学素子として、可視スペクトル用の偏光子を作製する、請求項1〜6の何れかに記載の光学素子の製造方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005034369A JP4247627B2 (ja) | 2005-02-10 | 2005-02-10 | 光学素子の製造方法 |
EP06002130A EP1691219A1 (en) | 2005-02-10 | 2006-02-02 | Method for manufacturing optical element having a metal wire grid |
US11/348,438 US7666468B2 (en) | 2005-02-10 | 2006-02-06 | Method for manufacturing optical element |
CNB2006100066790A CN100363763C (zh) | 2005-02-10 | 2006-02-08 | 光学元件的制造方法 |
TW095104388A TWI278478B (en) | 2005-02-10 | 2006-02-09 | Method for manufacturing optical element |
KR1020060012516A KR100823797B1 (ko) | 2005-02-10 | 2006-02-09 | 광학 소자의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005034369A JP4247627B2 (ja) | 2005-02-10 | 2005-02-10 | 光学素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006220921A true JP2006220921A (ja) | 2006-08-24 |
JP4247627B2 JP4247627B2 (ja) | 2009-04-02 |
Family
ID=36035708
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005034369A Expired - Fee Related JP4247627B2 (ja) | 2005-02-10 | 2005-02-10 | 光学素子の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7666468B2 (ja) |
EP (1) | EP1691219A1 (ja) |
JP (1) | JP4247627B2 (ja) |
KR (1) | KR100823797B1 (ja) |
CN (1) | CN100363763C (ja) |
TW (1) | TWI278478B (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008069008A1 (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-12 | Nippon Oil Corporation | ワイヤグリッド型偏光子及びその製造方法、並びにそれを用いた位相差フィルム及び液晶表示素子 |
JP2009157071A (ja) * | 2007-12-26 | 2009-07-16 | Cheil Industries Inc | ワイヤグリッド偏光子およびその製造方法 |
JP2015502581A (ja) * | 2011-12-22 | 2015-01-22 | エルジー・ケム・リミテッド | 偏光分離素子の製造方法 |
JP2015527616A (ja) * | 2012-08-29 | 2015-09-17 | エルジー・ケム・リミテッド | 偏光分離素子の製造方法及び偏光分離素子 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101294004B1 (ko) * | 2006-11-02 | 2013-08-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 편광판, 이를 갖는 표시패널 및 표시장치 |
KR101281163B1 (ko) * | 2006-11-21 | 2013-07-02 | 삼성디스플레이 주식회사 | 와이어 그리드 편광자 제조방법 |
KR20080056582A (ko) * | 2006-12-18 | 2008-06-23 | 삼성전자주식회사 | 와이어 그리드 편광자의 제조방법 |
US8373928B2 (en) | 2007-04-19 | 2013-02-12 | Samsung Display Co., Ltd. | Polarizer and organic light emitting display apparatus comprising the polarizer |
KR100894065B1 (ko) * | 2007-04-19 | 2009-04-24 | 삼성모바일디스플레이 주식회사 | 편광자 및 그를 포함하는 유기 발광 표시 장치 |
KR100897198B1 (ko) * | 2008-10-24 | 2009-05-14 | (주)지이앤 | 편광 소자의 제조 방법 |
KR20130057261A (ko) * | 2011-11-23 | 2013-05-31 | 한국전자통신연구원 | 나노 와이어 그리드 편광자의 제조 방법 |
KR20140118027A (ko) * | 2013-03-28 | 2014-10-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 |
CN105572780B (zh) * | 2016-02-03 | 2018-09-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 线栅偏振器件及其制作方法、显示装置 |
CN107870385A (zh) * | 2017-12-22 | 2018-04-03 | 苏州大学 | 一种线栅偏振器的制造方法及制造系统 |
CN109085668B (zh) * | 2018-08-01 | 2021-04-20 | 中国航空工业集团公司雷华电子技术研究所 | 局域表面等离子体谐振器 |
CN111009708B (zh) * | 2019-12-20 | 2021-04-02 | 南京航空航天大学 | 基于等效局域型表面等离激元的带通滤波器及其工作方法 |
CN114077003A (zh) * | 2020-08-10 | 2022-02-22 | 三星Sdi株式会社 | 偏光板及包括其的光学显示装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IL98150A0 (en) * | 1990-05-17 | 1992-08-18 | Adeza Biomedical Corp | Highly reflective biogratings and method for theirhighly reflective biogratings and method production |
US6277740B1 (en) * | 1998-08-14 | 2001-08-21 | Avery N. Goldstein | Integrated circuit trenched features and method of producing same |
US6288840B1 (en) | 1999-06-22 | 2001-09-11 | Moxtek | Imbedded wire grid polarizer for the visible spectrum |
US6122103A (en) | 1999-06-22 | 2000-09-19 | Moxtech | Broadband wire grid polarizer for the visible spectrum |
US6243199B1 (en) | 1999-09-07 | 2001-06-05 | Moxtek | Broad band wire grid polarizing beam splitter for use in the visible wavelength region |
US6532111B2 (en) | 2001-03-05 | 2003-03-11 | Eastman Kodak Company | Wire grid polarizer |
JP3898597B2 (ja) | 2002-08-19 | 2007-03-28 | 信越化学工業株式会社 | 偏光子および偏光子の製造方法 |
US6665119B1 (en) * | 2002-10-15 | 2003-12-16 | Eastman Kodak Company | Wire grid polarizer |
US6887297B2 (en) * | 2002-11-08 | 2005-05-03 | Wayne State University | Copper nanocrystals and methods of producing same |
US7113335B2 (en) * | 2002-12-30 | 2006-09-26 | Sales Tasso R | Grid polarizer with suppressed reflectivity |
US7113336B2 (en) * | 2002-12-30 | 2006-09-26 | Ian Crosby | Microlens including wire-grid polarizer and methods of manufacture |
JP4414145B2 (ja) | 2003-03-06 | 2010-02-10 | ハリマ化成株式会社 | 導電性ナノ粒子ペースト |
JP2004309903A (ja) | 2003-04-09 | 2004-11-04 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 無機偏光素子および偏光光学素子および液晶素子 |
US7130047B2 (en) * | 2004-04-30 | 2006-10-31 | Optimum Technologies, Inc. | Method of producing polarizers for polarized optical probes |
US7187442B2 (en) * | 2004-04-30 | 2007-03-06 | Optimum Technologies, Inc. | Polarized optical probes |
-
2005
- 2005-02-10 JP JP2005034369A patent/JP4247627B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-02-02 EP EP06002130A patent/EP1691219A1/en not_active Withdrawn
- 2006-02-06 US US11/348,438 patent/US7666468B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-02-08 CN CNB2006100066790A patent/CN100363763C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-02-09 KR KR1020060012516A patent/KR100823797B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2006-02-09 TW TW095104388A patent/TWI278478B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008069008A1 (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-12 | Nippon Oil Corporation | ワイヤグリッド型偏光子及びその製造方法、並びにそれを用いた位相差フィルム及び液晶表示素子 |
JP2009157071A (ja) * | 2007-12-26 | 2009-07-16 | Cheil Industries Inc | ワイヤグリッド偏光子およびその製造方法 |
JP2015502581A (ja) * | 2011-12-22 | 2015-01-22 | エルジー・ケム・リミテッド | 偏光分離素子の製造方法 |
JP2015527616A (ja) * | 2012-08-29 | 2015-09-17 | エルジー・ケム・リミテッド | 偏光分離素子の製造方法及び偏光分離素子 |
US9551819B2 (en) | 2012-08-29 | 2017-01-24 | Lg Chem, Ltd. | Method for manufacturing polarized light splitting element and polarized light splitting element |
KR101737668B1 (ko) * | 2012-08-29 | 2017-05-29 | 주식회사 엘지화학 | 편광 분리 소자의 제조 방법 및 편광 분리 소자 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4247627B2 (ja) | 2009-04-02 |
KR20060090761A (ko) | 2006-08-16 |
EP1691219A1 (en) | 2006-08-16 |
US20060177571A1 (en) | 2006-08-10 |
CN1818725A (zh) | 2006-08-16 |
TW200635989A (en) | 2006-10-16 |
TWI278478B (en) | 2007-04-11 |
KR100823797B1 (ko) | 2008-04-21 |
US7666468B2 (en) | 2010-02-23 |
CN100363763C (zh) | 2008-01-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4247627B2 (ja) | 光学素子の製造方法 | |
KR102329363B1 (ko) | 대면적 다단 나노구조의 제조 | |
CN104064457B (zh) | 半导体装置 | |
CN102239540B (zh) | 制造衬底的方法 | |
US8828871B2 (en) | Method for forming pattern and mask pattern, and method for manufacturing semiconductor device | |
JP2009105252A (ja) | 微細パターンの製造方法および光学素子 | |
JP2010169722A5 (ja) | ||
TW200908093A (en) | Method for fabricating semiconductor device | |
JP2006227515A (ja) | 光学素子の製造方法 | |
JP5078058B2 (ja) | モールド及びモールドの作製方法 | |
JP2006163291A5 (ja) | ||
JP2006048060A (ja) | 回折光学素子の製造方法 | |
US20110201202A1 (en) | Method of forming fine patterns of semiconductor device | |
JP2017067446A (ja) | ナノギャップ電極の製造方法、側壁スペーサ、及び側壁スペーサの製造方法 | |
KR100712336B1 (ko) | 프리즘의 제조방법 | |
JP3675314B2 (ja) | 回折格子 | |
WO2005103818A3 (de) | Verfahren zur strukturierung von zumindest einer schicht sowie elektrisches bauelement mit strukturen aus der schicht | |
JP2020522023A (ja) | 高さ調整された光回折格子を製造する方法 | |
TW200933223A (en) | Method for preparing photonic crystal slab waveguides | |
JP2005519281A5 (ja) | ||
US10325778B2 (en) | Utilizing multiple layers to increase spatial frequency | |
JPS5947282B2 (ja) | エシエレツト格子の製造方法 | |
JP4994096B2 (ja) | 半導体装置の製造方法およびこれを用いた半導体装置 | |
TW201513181A (zh) | 金屬光柵的製備方法 | |
CN103187243A (zh) | 半导体器件的制造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080929 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081126 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081217 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081230 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120123 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120123 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130123 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130123 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140123 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |