JP2006220408A - 温度制御方法、温度制御装置、熱処理装置およびプログラム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】各炉31〜33の設定温度を変化させたときの連続炉3における各観測点でのガラス基板2の温度変化を、モデルを用いて行列として推定し、この行列の逆行列を用いてガラス基板2の温度が前記各観測点で所望の温度プロファイルの温度になるように、補正値を算出し、この算出値によって、設定温度を補正する。
【選択図】図3
Description
(13)本発明のプログラムは、被熱処理物を、連続する複数の熱処理ゾーンを移動させながら行なう熱処理における各熱処理ゾーンの温度を制御する温度制御に用いられるプログラムであって、前記被熱処理物を、前記複数の熱処理ゾーンを移動させて行なう熱処理において計測された、該被熱処理物の温度データを入力する第1のステップと、入力した被熱処理物の温度データに基いて、前記目標温度を変化させたときの前記被熱処理物の複数の観測点における熱処理ゾーン間の干渉の度合いを求める第2のステップと、前記干渉の度合い、および、前記被熱処理物の温度と所望の温度プロファイルの温度との温度差に基づいて、前記熱処理ゾーンの目標温度および検出温度の少なくともいずれか一方を補正する補正値を算出する第3のステップとをコンピュータに実行させるものである。
図1は、本発明の一つの実施の形態に係る温度調節器を備える熱処理装置の概略構成図である。
但し、α,β:モデルのパラメータ
q:シフトオペレータ
u(k):炉の設定温度の時系列データ
y(k):ガラス基板温度の時系列データ
k:0,1,2,3…
サンプリング周期は、例えば、0.5秒である。
上述の実施形態では、図7に示すように、計測した温度プロファイルL1の第1〜第3の観測点P1〜P3における温度と、所望の温度プロファイルL2の対応する温度との温度差をΔb1〜Δb3としたけれども、他の実施形態として、補正の精度はやや劣るものの、図9に示すように、ガラス基板2を熱処理する前の該ガラス基板2の初期温度T0、例えば、30℃と所望の温度プロファイルL2の各観測点P1〜P3の対応する温度との温度差をΔb1〜Δb3としてもよい。
3 連続炉 41〜43 温度調節器
7 上位装置
Claims (13)
- 被熱処理物を、連続する複数の熱処理ゾーンを移動させながら行なう熱処理における各熱処理ゾーンの温度を制御する方法であって、
前記被熱処理物の温度と所望の温度プロファイルの温度との温度差に基いて、前記熱処理ゾーンの目標温度および検出温度の少なくともいずれか一方を補正する補正値を算出することを特徴とする温度制御方法。 - 前記被熱処理物の前記温度は、前記被熱処理物を、前記複数の熱処理ゾーンを移動させて計測される複数の観測点における計測温度である請求項1に記載の温度制御方法。
- 前記被熱処理物を、前記複数の熱処理ゾーンを移動させて熱処理を行って該被熱処理物の温度を計測する第1のステップと、
計測した被熱処理物の温度に基いて、前記目標温度を変化させたときの前記被熱処理物の前記複数の観測点における熱処理ゾーン間の干渉の度合いを求める第2のステップと、
求めた干渉の度合いに基づいて、前記補正値を算出する第3のステップと、
を含む請求項2に記載の温度制御方法。 - 算出した前記補正値に基いて、前記目標温度および前記検出温度の少なくともいずれか一方を補正する第4のステップを含む請求項3に記載の温度制御方法。
- 前記第2のステップでは、計測した被熱処理物の温度に基いて、前記目標温度の温度変化と前記被熱処理物の前記複数の観測点における温度変化との関係を示す行列を求め、
前記第3のステップでは、前記行列の逆行列を用いて前記補正値を算出する請求項3または4に記載の温度制御方法。 - 前記第2のステップでは、熱処理ゾーンの目標温度および計測した被熱処理物の温度に基いて、熱処理ゾーンおよび被熱処理物を含むモデルを作成し、作成したモデルを用いて、前記行列を求める請求項5に記載の温度制御方法。
- 被熱処理物を、連続する複数の熱処理ゾーンを移動させながら行なう熱処理における各熱処理ゾーンの温度を制御する温度調節器と、前記被熱処理物の温度と所望の温度プロファイルの温度との温度差に基いて、補正値を算出する補正装置とを備え、
前記温度調節器は、前記熱処理ゾーンの目標温度および検出温度に基づいて、前記熱処理ゾーンの温度を制御するものであって、かつ、前記目標温度および前記検出温度の少なくともいずれか一方を、前記補正値に基づいて補正することを特徴とする温度制御装置。 - 前記被熱処理物の前記温度は、前記被熱処理物を、前記複数の熱処理ゾーンを移動させて計測される複数の観測点における計測温度である請求項7に記載の温度制御装置。
- 前記補正装置は、前記目標温度を変化させたときの前記被熱処理物の前記複数の観測点における熱処理ゾーン間の干渉の度合いに基いて、前記補正値を算出する請求項8に記載の温度制御装置。
- 前記補正装置は、前記複数の熱処理ゾーンを移動させて計測した被熱処理物の温度に基いて、前記目標温度の温度変化と前記被熱処理物の前記複数の観測点における温度変化との関係を示す行列を求め、該行列の逆行列を用いて前記補正値を算出する請求項9に記載の温度制御装置。
- 前記補正装置は、各熱処理ゾーンの目標温度および計測した被熱処理物の温度に基いて得られる熱処理ゾーンおよび被熱処理物を含むモデルを有し、該モデルを用いて、前記行列を求める請求項10に記載の温度制御装置。
- 請求項7ないし11のいずれか1項に記載の温度制御装置と、連続する複数の熱処理ゾーンを有するとともに、前記温度制御装置によって温度制御される連続処理装置とを備えることを特徴とする熱処理装置。
- 被熱処理物を、連続する複数の熱処理ゾーンを移動させながら行なう熱処理における各熱処理ゾーンの温度を制御する温度制御に用いられるプログラムであって、
前記被熱処理物を、前記複数の熱処理ゾーンを移動させて行なう熱処理において計測された、該被熱処理物の温度データを入力する第1のステップと、
入力した被熱処理物の温度データに基いて、前記目標温度を変化させたときの前記被熱処理物の複数の観測点における熱処理ゾーン間の干渉の度合いを求める第2のステップと、
前記干渉の度合い、および、前記被熱処理物の温度と所望の温度プロファイルの温度との温度差に基づいて、前記熱処理ゾーンの目標温度および検出温度の少なくともいずれか一方を補正する補正値を算出する第3のステップと、
をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
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