JP2003279256A - 連続式熱処理炉 - Google Patents
連続式熱処理炉Info
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- JP2003279256A JP2003279256A JP2002077675A JP2002077675A JP2003279256A JP 2003279256 A JP2003279256 A JP 2003279256A JP 2002077675 A JP2002077675 A JP 2002077675A JP 2002077675 A JP2002077675 A JP 2002077675A JP 2003279256 A JP2003279256 A JP 2003279256A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat treatment
- glass substrate
- region
- setter
- furnace
- Prior art date
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- Withdrawn
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Landscapes
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Tunnel Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラズマディスプレイパネル用ガラス基板等
の大型ガラス基板を熱処理するための連続式熱処理炉で
あって、従来に比して設置面積を著しく減少できるもの
を提供する。 【解決手段】 セッター上に載置した大型ガラス基板を
移動させながら、所望の温度曲線に従って昇温、均熱保
持及び徐冷という熱処理が行えるようにした連続式熱処
理炉である。昇温を行う領域２１及び徐冷を行う領域２
５においては、セッター３上に載置した大型ガラス基板
１を垂直方向に移動させながら熱処理を行うようにし
た。
の大型ガラス基板を熱処理するための連続式熱処理炉で
あって、従来に比して設置面積を著しく減少できるもの
を提供する。 【解決手段】 セッター上に載置した大型ガラス基板を
移動させながら、所望の温度曲線に従って昇温、均熱保
持及び徐冷という熱処理が行えるようにした連続式熱処
理炉である。昇温を行う領域２１及び徐冷を行う領域２
５においては、セッター３上に載置した大型ガラス基板
１を垂直方向に移動させながら熱処理を行うようにし
た。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】 本発明は、プラズマディス
プレイパネル用ガラス基板等の大型ガラス基板を熱処理
する際に使用される連続式熱処理炉に関する。
プレイパネル用ガラス基板等の大型ガラス基板を熱処理
する際に使用される連続式熱処理炉に関する。
【０００２】
【従来の技術】 近年、壁掛けテレビやマルチメディア
用ディスプレイとして利用できる大画面フラットパネル
ディスプレイ（以下、「ＦＰＤ」という。）の実用化が
着々と進行しつつある。このような大画面ＦＰＤとして
は、自発光型で広い視野角を持ち、品質表示が良いとい
う品質面のメリットと、作製プロセスが簡単で大型化が
容易という製造面でのメリットを兼ね備えた、プラズマ
ディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」という。）が最
有力候補として挙げられている。
用ディスプレイとして利用できる大画面フラットパネル
ディスプレイ（以下、「ＦＰＤ」という。）の実用化が
着々と進行しつつある。このような大画面ＦＰＤとして
は、自発光型で広い視野角を持ち、品質表示が良いとい
う品質面のメリットと、作製プロセスが簡単で大型化が
容易という製造面でのメリットを兼ね備えた、プラズマ
ディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」という。）が最
有力候補として挙げられている。
【０００３】 ＰＤＰの製造は、前面ガラス、背面ガラ
スと称する大型ガラス基板の表面に、印刷、乾燥、焼成
の工程を複数回繰り返す厚膜法により、電極、誘導体、
蛍光体等の種々の部材を逐次形成して行き、最終的に前
面ガラスと背面ガラスとを封着することにより行われ
る。
スと称する大型ガラス基板の表面に、印刷、乾燥、焼成
の工程を複数回繰り返す厚膜法により、電極、誘導体、
蛍光体等の種々の部材を逐次形成して行き、最終的に前
面ガラスと背面ガラスとを封着することにより行われ
る。
【０００４】 この場合において、ガラス基板の乾燥、
焼成といった熱処理は、ガラス基板の表面温度ができる
限り均一となるように精密に温度制御した状態で行うこ
とが要求される。ガラス基板表面の温度分布が大きい状
態で乾燥、焼成を行うと、基板や基板上に形成した部材
が歪むことに起因して、割れ、欠け等の欠陥を生じ、製
品の歩留まりが低下する等の不具合を生じるからであ
る。
焼成といった熱処理は、ガラス基板の表面温度ができる
限り均一となるように精密に温度制御した状態で行うこ
とが要求される。ガラス基板表面の温度分布が大きい状
態で乾燥、焼成を行うと、基板や基板上に形成した部材
が歪むことに起因して、割れ、欠け等の欠陥を生じ、製
品の歩留まりが低下する等の不具合を生じるからであ
る。
【０００５】 従来、このようなガラス基板の熱処理
は、電気ヒーター等の温度制御可能な加熱手段が設置さ
れたローラーハース炉のような連続式熱処理炉を使用
し、処理対象であるガラス基板をセッター上に載置した
状態で、炉内を水平方向に直線移動させながら、所望の
温度曲線に従って昇温、均熱保持、徐冷という順で行わ
れていた。
は、電気ヒーター等の温度制御可能な加熱手段が設置さ
れたローラーハース炉のような連続式熱処理炉を使用
し、処理対象であるガラス基板をセッター上に載置した
状態で、炉内を水平方向に直線移動させながら、所望の
温度曲線に従って昇温、均熱保持、徐冷という順で行わ
れていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】 近年、ＰＤＰ等の大
型ガラス基板の生産においては、生産設備を省スペース
化し、単位面積当たりの生産性を向上することが重要な
技術課題となっている。しかしながら、ローラーハース
炉のように、ガラス基板を水平方向に直線移動させなが
ら熱処理する連続式熱処理炉は、その構造上、炉長が長
くなることは避けられず、大きな設置面積を必要とする
ため、前記課題を達成することは非常に困難となってい
るのが実状である。
型ガラス基板の生産においては、生産設備を省スペース
化し、単位面積当たりの生産性を向上することが重要な
技術課題となっている。しかしながら、ローラーハース
炉のように、ガラス基板を水平方向に直線移動させなが
ら熱処理する連続式熱処理炉は、その構造上、炉長が長
くなることは避けられず、大きな設置面積を必要とする
ため、前記課題を達成することは非常に困難となってい
るのが実状である。
【０００７】 本発明は、このような事情に鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところは、ＰＤＰ用ガ
ラス基板等の大型ガラス基板を熱処理するための連続式
熱処理炉であって、従来に比して設置面積を著しく減少
できるものを提供することにある。
れたものであり、その目的とするところは、ＰＤＰ用ガ
ラス基板等の大型ガラス基板を熱処理するための連続式
熱処理炉であって、従来に比して設置面積を著しく減少
できるものを提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】 本発明によれば、セッ
ター上に載置した大型ガラス基板を移動させながら、所
望の温度曲線に従って昇温、均熱保持及び徐冷という熱
処理が行えるようにした連続式熱処理炉であって、昇温
を行う領域及び徐冷を行う領域においては、前記セッタ
ー上に載置した大型ガラス基板を垂直方向に移動させな
がら熱処理を行うようにしたことを特徴とする連続式熱
処理炉、が提供される。
ター上に載置した大型ガラス基板を移動させながら、所
望の温度曲線に従って昇温、均熱保持及び徐冷という熱
処理が行えるようにした連続式熱処理炉であって、昇温
を行う領域及び徐冷を行う領域においては、前記セッタ
ー上に載置した大型ガラス基板を垂直方向に移動させな
がら熱処理を行うようにしたことを特徴とする連続式熱
処理炉、が提供される。
【０００９】
【発明の実施の形態】 前記のとおり、本発明の連続式
熱処理炉は、セッター上に載置した大型ガラス基板を移
動させながら、所望の温度曲線に従って、昇温、均熱保
持、徐冷という順で熱処理するためのものである。そし
て、本発明は、その特徴的な構成として、昇温を行う領
域（昇温領域）及び徐冷を行う領域（徐冷領域）におい
ては、セッター上に載置した大型ガラス基板を垂直方向
に移動させながら熱処理を行うようにした。
熱処理炉は、セッター上に載置した大型ガラス基板を移
動させながら、所望の温度曲線に従って、昇温、均熱保
持、徐冷という順で熱処理するためのものである。そし
て、本発明は、その特徴的な構成として、昇温を行う領
域（昇温領域）及び徐冷を行う領域（徐冷領域）におい
ては、セッター上に載置した大型ガラス基板を垂直方向
に移動させながら熱処理を行うようにした。
【００１０】 従来、ＰＤＰ用ガラス基板等の大型ガラ
ス基板の熱処理に、ガラス基板を水平方向に直線移動さ
せるタイプの連続式熱処理炉を使用していた大きな理由
として、熱処理中のガラス基板の表面温度ができる限り
均一となるように精密に温度制御しなければならないと
いうことがあった。
ス基板の熱処理に、ガラス基板を水平方向に直線移動さ
せるタイプの連続式熱処理炉を使用していた大きな理由
として、熱処理中のガラス基板の表面温度ができる限り
均一となるように精密に温度制御しなければならないと
いうことがあった。
【００１１】 例えば、５０〜６０インチのＰＤＰ用大
型ガラス基板の基板表面の各部分における最高温度と最
低温度との許容される温度差Δｔは、均熱保持を行う領
域（均熱保持領域）では、Δ２℃以内という非常に高い
温度管理精度が求められ、これを満たすためには、炉内
の上部（炉天井）及び／又は下部（炉床）に電気ヒータ
ーのように緻密な温度制御ができる加熱手段を設置し、
ガラス基板を水平方向に移動させながら、その表面の熱
処理を行う必要がある。
型ガラス基板の基板表面の各部分における最高温度と最
低温度との許容される温度差Δｔは、均熱保持を行う領
域（均熱保持領域）では、Δ２℃以内という非常に高い
温度管理精度が求められ、これを満たすためには、炉内
の上部（炉天井）及び／又は下部（炉床）に電気ヒータ
ーのように緻密な温度制御ができる加熱手段を設置し、
ガラス基板を水平方向に移動させながら、その表面の熱
処理を行う必要がある。
【００１２】 しかしながら、このように高い温度管理
精度が求められるＰＤＰ用大型ガラス基板においても、
熱処理の全行程において同等の精度が要求されるわけで
はなく、均熱保持の際に比して、昇温や徐冷の際に求め
られる温度管理の精度は幾分緩やかであり、例えば前記
の５０〜６０インチのＰＤＰ用大型ガラス基板の基板表
面の各部分における最高温度と最低温度との許容される
温度差Δｔは、昇温領域と徐冷領域では、Δ６℃程度ま
で許容さる。
精度が求められるＰＤＰ用大型ガラス基板においても、
熱処理の全行程において同等の精度が要求されるわけで
はなく、均熱保持の際に比して、昇温や徐冷の際に求め
られる温度管理の精度は幾分緩やかであり、例えば前記
の５０〜６０インチのＰＤＰ用大型ガラス基板の基板表
面の各部分における最高温度と最低温度との許容される
温度差Δｔは、昇温領域と徐冷領域では、Δ６℃程度ま
で許容さる。
【００１３】 本発明者らは、この点に着目し、要求さ
れる温度管理精度があまり高くない昇温領域と徐冷領域
とについては、垂直方向に移動させながら熱処理を行う
ような構造とし、これによって、従来の水平方向にのみ
移動が可能であった連続式熱処理炉に比して、炉の設置
面積を著しく減少させることに成功した。
れる温度管理精度があまり高くない昇温領域と徐冷領域
とについては、垂直方向に移動させながら熱処理を行う
ような構造とし、これによって、従来の水平方向にのみ
移動が可能であった連続式熱処理炉に比して、炉の設置
面積を著しく減少させることに成功した。
【００１４】 図１は、本発明に係る連続式熱処理炉の
一例を示す模式図である。この熱処理炉では、セッター
３上に載置された状態で炉内に搬入された大型ガラス基
板１は、まず、昇温領域２１において炉内を垂直方向に
上昇しながら昇温され、次いで、均熱保持領域２３で水
平方向に移動しながら最高温度で均熱保持され、その
後、徐冷領域２５において垂直方向に下降しながら徐冷
される。
一例を示す模式図である。この熱処理炉では、セッター
３上に載置された状態で炉内に搬入された大型ガラス基
板１は、まず、昇温領域２１において炉内を垂直方向に
上昇しながら昇温され、次いで、均熱保持領域２３で水
平方向に移動しながら最高温度で均熱保持され、その
後、徐冷領域２５において垂直方向に下降しながら徐冷
される。
【００１５】 本例では、比較的高い温度管理精度が必
要とされる均熱保持領域２３においては、従来と同様
に、炉内の上部及び／又は下部に設けた電気ヒーター等
の加熱手段５によって加熱を行うようにしている。
要とされる均熱保持領域２３においては、従来と同様
に、炉内の上部及び／又は下部に設けた電気ヒーター等
の加熱手段５によって加熱を行うようにしている。
【００１６】 一方、それほど高い温度管理精度が要求
されず、また、必要とされる熱量が比較的大きい昇温領
域２１においては、給気ファン７より送られる空気をヒ
ーター９で所定の温度に加熱し、ＨＥＰＡフィルター
（High EfficiencyParticle Air Filter：高性能微粒子
フィルター）１１に通して清浄化した後、これを熱風と
して炉内に吹き込んで、大型ガラス基板１を加熱してい
る。炉内に吹込まれた熱風は、大型ガラス基板１やセッ
ター３と熱交換された後に、排気管１２を通して炉外に
排気される。
されず、また、必要とされる熱量が比較的大きい昇温領
域２１においては、給気ファン７より送られる空気をヒ
ーター９で所定の温度に加熱し、ＨＥＰＡフィルター
（High EfficiencyParticle Air Filter：高性能微粒子
フィルター）１１に通して清浄化した後、これを熱風と
して炉内に吹き込んで、大型ガラス基板１を加熱してい
る。炉内に吹込まれた熱風は、大型ガラス基板１やセッ
ター３と熱交換された後に、排気管１２を通して炉外に
排気される。
【００１７】 同様に、それほど高い温度管理精度が要
求されない徐冷領域２５においては、給気ファン１３よ
り送られる空気をＨＥＰＡフィルター１５に通して清浄
化し、これを冷却用空気として炉内に吹き込んで、大型
ガラス基板１を冷却するようにしている。炉内に吹込ま
れた冷却用空気は、大型ガラス基板１やセッター３と熱
交換された後に、排気管１６を通して炉外に排気され
る。
求されない徐冷領域２５においては、給気ファン１３よ
り送られる空気をＨＥＰＡフィルター１５に通して清浄
化し、これを冷却用空気として炉内に吹き込んで、大型
ガラス基板１を冷却するようにしている。炉内に吹込ま
れた冷却用空気は、大型ガラス基板１やセッター３と熱
交換された後に、排気管１６を通して炉外に排気され
る。
【００１８】 これら昇温領域２１における熱風による
加熱や、徐冷領域２５における冷却用空気による冷却で
は、電気ヒーターほど精密な温度制御はできないが、温
風や冷却用空気の風速、風量、吹き込み位置等の条件を
最適化することにより、昇温時や徐冷時に必要とされる
程度の基板の温度管理精度は満たすことが可能である。
また、排気管１２や排気管１６から排気された熱風や冷
却用空気は、給気ファン７や給気ファン１３に再循環さ
せ、省エネルギー化を図ることもできる。
加熱や、徐冷領域２５における冷却用空気による冷却で
は、電気ヒーターほど精密な温度制御はできないが、温
風や冷却用空気の風速、風量、吹き込み位置等の条件を
最適化することにより、昇温時や徐冷時に必要とされる
程度の基板の温度管理精度は満たすことが可能である。
また、排気管１２や排気管１６から排気された熱風や冷
却用空気は、給気ファン７や給気ファン１３に再循環さ
せ、省エネルギー化を図ることもできる。
【００１９】 昇温領域２１及び徐冷領域２５におい
て、セッター３上に載置した大型ガラス基板１を垂直方
向に移動させるための搬送手段としては、例えば図２に
示すような構造のウォーキングビームが好適に使用でき
る。このウォーキングビームは、固定ロッド３１と可動
ロッド４１とからなり、両ロッドはそれぞれ垂直方向に
伸びる主軸３３、４３に、所定の間隔で水平方向に伸び
る支持棒３５、４５を取り付けた構造を有する。図２に
示すように、固定ロッド３１は主軸３３が９０°回転す
る機構を有し、一方、可動ロッド４１は同様に主軸４３
が９０°回転する機構と所定範囲で上下動する機構を有
する。
て、セッター３上に載置した大型ガラス基板１を垂直方
向に移動させるための搬送手段としては、例えば図２に
示すような構造のウォーキングビームが好適に使用でき
る。このウォーキングビームは、固定ロッド３１と可動
ロッド４１とからなり、両ロッドはそれぞれ垂直方向に
伸びる主軸３３、４３に、所定の間隔で水平方向に伸び
る支持棒３５、４５を取り付けた構造を有する。図２に
示すように、固定ロッド３１は主軸３３が９０°回転す
る機構を有し、一方、可動ロッド４１は同様に主軸４３
が９０°回転する機構と所定範囲で上下動する機構を有
する。
【００２０】 図３は、このウォーキングビームを用い
て、大型ガラス基板を垂直方向に上昇させる際の基本的
な動作を示す説明図である。まず、図３ののように、
大型ガラス基板１が載置されたセッター３が、固定ロッ
ド３１の支持棒３５のみにより支持された状態から動作
が開始し、次いでのように可動ロッド４１が上動し
て、可動ロッド４１の支持棒４５が固定ロッド３１の支
持棒３５より僅か上の高さに到達したところで一旦停止
する。この時点で、セッター３の支持は固定ロッド３１
の支持棒３５から可動ロッド４１の支持棒４５に移った
状態となる。
て、大型ガラス基板を垂直方向に上昇させる際の基本的
な動作を示す説明図である。まず、図３ののように、
大型ガラス基板１が載置されたセッター３が、固定ロッ
ド３１の支持棒３５のみにより支持された状態から動作
が開始し、次いでのように可動ロッド４１が上動し
て、可動ロッド４１の支持棒４５が固定ロッド３１の支
持棒３５より僅か上の高さに到達したところで一旦停止
する。この時点で、セッター３の支持は固定ロッド３１
の支持棒３５から可動ロッド４１の支持棒４５に移った
状態となる。
【００２１】 次に、のように固定ロッド３１が９０
°回転して、その支持棒３５がセッター３の下部から離
れ、可動ロッド４１は再び上昇して、のようにセッタ
ー３を支持している支持棒４５の高さが、先程までセッ
ター３を支持していた固定ロッド３１の支持棒３５の１
つ上方の支持棒３５′より僅か上の高さに到達したとこ
ろで停止する。
°回転して、その支持棒３５がセッター３の下部から離
れ、可動ロッド４１は再び上昇して、のようにセッタ
ー３を支持している支持棒４５の高さが、先程までセッ
ター３を支持していた固定ロッド３１の支持棒３５の１
つ上方の支持棒３５′より僅か上の高さに到達したとこ
ろで停止する。
【００２２】 続いて、固定ロッド３１が先程とは逆方
向に９０°回転し、のように、その支持棒３５′が、
セッター３の下で待機した状態となる。その後、可動ロ
ッド４１は一旦下降して、セッター３を支持棒４５から
支持棒３５′に移戴する。次に、のように可動ロッド
４１は９０°回転して、その支持棒４５がセッター３の
下部から離れ、更に最初の高さまで下動して、先程とは
逆方向に９０°回転し、最初の位置に戻る。
向に９０°回転し、のように、その支持棒３５′が、
セッター３の下で待機した状態となる。その後、可動ロ
ッド４１は一旦下降して、セッター３を支持棒４５から
支持棒３５′に移戴する。次に、のように可動ロッド
４１は９０°回転して、その支持棒４５がセッター３の
下部から離れ、更に最初の高さまで下動して、先程とは
逆方向に９０°回転し、最初の位置に戻る。
【００２３】 図４は、同じウォーキングビームを用い
て、大型ガラス基板を垂直方向に下降させる際の基本的
な動作を示す説明図である。まず、図４ののように、
大型ガラス基板１が載置されたセッター３が、固定ロッ
ド３１の支持棒３５のみにより支持された状態から動作
が開始し、次いでのように可動ロッド４１が上動し
て、可動ロッド４１の支持棒４５が固定ロッド３１の支
持棒３５より僅か上の高さに到達したところで一旦停止
する。この時点で、セッター３の支持は固定ロッド３１
の支持棒３５から可動ロッド４１の支持棒４５に移った
状態となる。
て、大型ガラス基板を垂直方向に下降させる際の基本的
な動作を示す説明図である。まず、図４ののように、
大型ガラス基板１が載置されたセッター３が、固定ロッ
ド３１の支持棒３５のみにより支持された状態から動作
が開始し、次いでのように可動ロッド４１が上動し
て、可動ロッド４１の支持棒４５が固定ロッド３１の支
持棒３５より僅か上の高さに到達したところで一旦停止
する。この時点で、セッター３の支持は固定ロッド３１
の支持棒３５から可動ロッド４１の支持棒４５に移った
状態となる。
【００２４】 次に、にように固定ロッド３１が９０
°回転して、その支持棒３５がセッター３の下部から離
れ、可動ロッド４１は下動して、のようにセッター３
を支持している支持棒４５の高さが、先程までセッター
３を支持していた固定ロッド３１の支持棒３５の１つ下
方の支持棒３５″より僅か上の高さに到達したところで
停止する。
°回転して、その支持棒３５がセッター３の下部から離
れ、可動ロッド４１は下動して、のようにセッター３
を支持している支持棒４５の高さが、先程までセッター
３を支持していた固定ロッド３１の支持棒３５の１つ下
方の支持棒３５″より僅か上の高さに到達したところで
停止する。
【００２５】 続いて、固定ロッド３１が先程とは逆方
向に９０°回転し、のように、その支持棒３５″が、
セッター３の下部で待機した状態となる。その後、可動
ロッド４１は一旦下降して、セッター３を支持棒４５か
ら支持棒３５″に移戴する。次に、のように可動ロッ
ド４１は９０°回転して、その支持棒４５がセッター３
の下部から離れ、更に最初の高さまで上動して、先程と
は逆方向に９０°回転し、最初の位置に戻る。
向に９０°回転し、のように、その支持棒３５″が、
セッター３の下部で待機した状態となる。その後、可動
ロッド４１は一旦下降して、セッター３を支持棒４５か
ら支持棒３５″に移戴する。次に、のように可動ロッ
ド４１は９０°回転して、その支持棒４５がセッター３
の下部から離れ、更に最初の高さまで上動して、先程と
は逆方向に９０°回転し、最初の位置に戻る。
【００２６】 このようなサイクルを繰り返すことによ
り、このウォーキングビームは、セッター上に載置した
大型ガラス基板を、昇温領域又は徐冷領域にて、垂直方
向に上昇又は下降させることができる。なお、大型ガラ
ス基板を水平方向に移動させる均熱保持領域において
は、従来と同様にローラー等の搬送手段を用いて移動さ
せればよい。
り、このウォーキングビームは、セッター上に載置した
大型ガラス基板を、昇温領域又は徐冷領域にて、垂直方
向に上昇又は下降させることができる。なお、大型ガラ
ス基板を水平方向に移動させる均熱保持領域において
は、従来と同様にローラー等の搬送手段を用いて移動さ
せればよい。
【００２７】
【発明の効果】 以上説明したように、本発明の連続式
熱処理炉は、従来ＰＤＰ用ガラス基板等の大型ガラス基
板の熱処理に使用されてきた連続式熱処理炉に比して、
設置面積を著しく減少させることが可能なので、生産設
備を省スペース化し、単位面積当たりの生産性を向上さ
せることができる。
熱処理炉は、従来ＰＤＰ用ガラス基板等の大型ガラス基
板の熱処理に使用されてきた連続式熱処理炉に比して、
設置面積を著しく減少させることが可能なので、生産設
備を省スペース化し、単位面積当たりの生産性を向上さ
せることができる。
【図１】 本発明に係る連続式熱処理炉の一例を示す模
式図である。
式図である。
【図２】 大型ガラス基板を垂直方向に移動させるため
の搬送手段として使用可能なウォーキングビームの構造
を示す説明図である。
の搬送手段として使用可能なウォーキングビームの構造
を示す説明図である。
【図３】 図２のウォーキングビームを用いて大型ガラ
ス基板を垂直方向に上昇させる際の基本的な動作を示す
説明図である。
ス基板を垂直方向に上昇させる際の基本的な動作を示す
説明図である。
【図４】 図２のウォーキングビームを用いて大型ガラ
ス基板を垂直方向に下降させる際の基本的な動作を示す
説明図である。
ス基板を垂直方向に下降させる際の基本的な動作を示す
説明図である。
１…大型ガラス基板、３…セッター、５…給気ファン、
９…ヒーター、１１…ＨＥＰＡフィルター、１２…排気
管、１３…給気ファン、１５…ＨＥＰＡフィルター、１
６…排気管、２１…昇温領域、２３…均熱保持領域、２
５…徐冷領域、３１…固定ロッド、３３…主軸、３５…
支持棒、３５′…支持棒、３５″…支持棒、４１…可動
ロッド、４３…主軸、４５…支持棒。
９…ヒーター、１１…ＨＥＰＡフィルター、１２…排気
管、１３…給気ファン、１５…ＨＥＰＡフィルター、１
６…排気管、２１…昇温領域、２３…均熱保持領域、２
５…徐冷領域、３１…固定ロッド、３３…主軸、３５…
支持棒、３５′…支持棒、３５″…支持棒、４１…可動
ロッド、４３…主軸、４５…支持棒。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
// Ｈ０１Ｊ 9/02 Ｈ０１Ｊ 9/02 Ｆ
9/227 9/227 Ｅ
11/02 11/02 Ｂ
(72)発明者 安達 博人
愛知県名古屋市瑞穂区須田町２番56号 エ
ヌジーケイ・キルンテック株式会社内
Ｆターム(参考） 4G015 EA00
4K050 AA02 BA07 CD16 CG28
5C027 AA01 AA05 AA09
5C028 FF16
5C040 JA21
Claims (3)
- 【請求項１】 セッター上に載置した大型ガラス基板を
移動させながら、所望の温度曲線に従って昇温、均熱保
持及び徐冷という熱処理が行えるようにした連続式熱処
理炉であって、 昇温を行う領域及び徐冷を行う領域においては、前記セ
ッター上に載置した大型ガラス基板を垂直方向に移動さ
せながら熱処理を行うようにしたことを特徴とする連続
式熱処理炉。 - 【請求項２】 前記昇温を行う領域及び徐冷を行う領域
においては、炉内への熱風又は冷却用空気の吹き込みに
よって熱処理を行い、均熱保持を行う領域においては、
炉内上部及び／又は下部に設けた加熱手段によって熱処
理を行うようにした請求項１記載の連続式熱処理炉。 - 【請求項３】 前記大型ガラス基板がプラズマディスプ
レイパネル用ガラス基板である請求項１又は２に記載の
連続式熱処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002077675A JP2003279256A (ja) | 2002-03-20 | 2002-03-20 | 連続式熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002077675A JP2003279256A (ja) | 2002-03-20 | 2002-03-20 | 連続式熱処理炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003279256A true JP2003279256A (ja) | 2003-10-02 |
Family
ID=29228059
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002077675A Withdrawn JP2003279256A (ja) | 2002-03-20 | 2002-03-20 | 連続式熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003279256A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1681526A2 (en) | 2005-01-17 | 2006-07-19 | Omron Corporation | Temperature control method, temperature control apparatus, heat treatment apparatus and program |
| KR100793214B1 (ko) * | 2004-07-22 | 2008-01-10 | 주식회사 미래라이팅 | 평판형 형광램프용 글라스 포밍장치 |
| JP2009537864A (ja) * | 2006-05-18 | 2009-10-29 | コーニング インコーポレイテッド | ガラス板を熱処理するための方法および装置 |
-
2002
- 2002-03-20 JP JP2002077675A patent/JP2003279256A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100793214B1 (ko) * | 2004-07-22 | 2008-01-10 | 주식회사 미래라이팅 | 평판형 형광램프용 글라스 포밍장치 |
| EP1681526A2 (en) | 2005-01-17 | 2006-07-19 | Omron Corporation | Temperature control method, temperature control apparatus, heat treatment apparatus and program |
| JP2009537864A (ja) * | 2006-05-18 | 2009-10-29 | コーニング インコーポレイテッド | ガラス板を熱処理するための方法および装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050607 |