JP2006210760A - シリコンウェーハ表面形状制御用エッチング液及び該エッチング液を用いたシリコンウェーハの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のシリコンウェーハの製造方法は、シリコン単結晶インゴットをスライスして得られた薄円板状のシリコンウェーハの表裏面を研削又はラッピングする平面化工程13と、アルカリ水溶液にシリカ粉末が均一に分散してなるシリコンウェーハ表面形状制御用エッチング液にシリコンウェーハを浸漬してシリコンウェーハの表裏面をエッチングするエッチング工程と、エッチングしたシリコンウェーハの表裏面を同時に研磨する両面同時研磨工程16又はエッチングしたウェーハの表裏面を片面ずつ研磨する片面研磨工程とをこの順に含むことを特徴とする。
【選択図】図1
Description
この加工変質層を取除くためにエッチング処理が施される。エッチング処理には、酸エッチング又はアルカリエッチングのいずれかの方法が採られる。このエッチング処理では、エッチング液を貯留したエッチング槽に複数枚のウェーハを浸漬させることにより、加工変質層を化学的に除去している。
請求項1に係る発明では、アルカリ水溶液にシリカ粉末が均一に分散してなるエッチング液は、研磨前ウェーハの表面粗さとテクスチャーサイズの制御をすることができるため、平坦化処理を終えた加工変質層を有するシリコンウェーハに対してこのエッチング液を用いてエッチングすることで、両面同時研磨工程や片面研磨工程においてウェーハ表裏面における研磨代をそれぞれ低減しながら、平坦化工程を終えた際のウェーハ平坦度の維持及びウェーハ表面粗さの低減の双方を達成することができる。
請求項2に係る発明では、上記濃度範囲の水酸化ナトリウム水溶液に所定の割合でシリカ粉末を添加することで、エッチング工程を終えたウェーハ表面粗さとウェーハ平坦度をより低減することができる。
請求項4に係る発明では、アルカリ水溶液にシリカ粉末を添加して調製されたエッチング液を用いたエッチング工程14により、研磨前ウェーハの表面粗さとテクスチャーサイズの制御をすることができるため、両面同時研磨工程16においてウェーハ表裏面における研磨代をそれぞれ低減しながら、平坦化工程を終えた際のウェーハ平坦度の維持及びウェーハ表面粗さの低減の双方を達成することができる。
請求項5に係る発明では、アルカリ水溶液にシリカ粉末を添加して調製されたエッチング液を用いたエッチング工程により、研磨前ウェーハの表面粗さとテクスチャーサイズの制御をすることができるため、片面研磨工程においてウェーハ表裏面における研磨代をそれぞれ低減しながら、平坦化工程を終えた際のウェーハ平坦度の維持及びウェーハ表面粗さの低減の双方を達成することができる。
また、本発明のシリコンウェーハの製造方法は、アルカリ水溶液にシリカ粉末を添加して調製されたエッチング液を用いたエッチング工程により、研磨前ウェーハの表面粗さとテクスチャーサイズの制御をすることができるため、両面同時研磨工程や片面研磨工程においてウェーハ表裏面における研磨代をそれぞれ低減しながら、平坦化工程を終えた際のウェーハ平坦度の維持及びウェーハ表面粗さの低減の双方を達成することができる。
本発明のシリコンウェーハ表面形状制御用エッチング液は、アルカリ水溶液にシリカ粉末が均一に分散してなることを特徴とする。このアルカリ水溶液にシリカ粉末が均一に分散してなるエッチング液は、シリカ粉末を添加することにより薬液中の金属不純物などに作用しアルカリエッチング特有の選択性を抑制することにより、研磨前ウェーハの表面粗さとテクスチャーサイズの制御をすることができるため、平坦化処理を終えた加工変質層を有するシリコンウェーハに対してこのエッチング液を用いてエッチングすることで、両面同時研磨工程や片面研磨工程においてウェーハ表裏面における研磨代をそれぞれ低減しながら、平坦化工程を終えた際のウェーハ平坦度の維持及びウェーハ表面粗さの低減の双方を達成することができる。
先ず、育成されたシリコン単結晶インゴットは、先端部及び終端部を切断してブロック状とし、インゴットの直径を均一にするためにインゴットの外径を研削してブロック体とする。特定の結晶方位を示すために、このブロック体にオリエンテーションフラットやオリエンテーションノッチを施す。このプロセスの後、図1に示すように、ブロック体は棒軸方向に対して所定角度をもってスライスされる(工程11)。工程11でスライスされたウェーハは、ウェーハの周辺部の欠けやチップを防止するためにウェーハ周辺に面取り加工する(工程12)。この面取りを施すことにより、例えば面取りされていないシリコンウェーハ表面上にエピタキシャル成長するときに周辺部に異常成長が起こり環状に盛り上がるクラウン現象を抑制することができる。
研削によりウェーハを平坦化する方法としては、図2及び図3に示すような研削装置20により行われる。図2に示すように、シリコンウェーハ21を載置するための被処理体支持部であるターンテーブル22が図示しない駆動機構により鉛直軸回りに回転可能に構成される。またターンテーブル22の上方側には、図3に示すように、ターンテーブル22にチャック22aを介して吸着載置されたシリコンウェーハ21に対して、その研削面を押圧するようにして研削用砥石23を支持するための砥石支持手段24が設けられる。この砥石支持手段24は図示しない駆動機構により研削用砥石23を鉛直軸回りに回転可能に構成される。またシリコンウェーハ上方には研削時にシリコンウェーハ21の表面に研削水を供給するための給水ノズル26が設けられる。このような研削装置20では、各駆動機構により研削用砥石23とシリコンウェーハ21とを相対的に回転させ、更にシリコンウェーハ21の表面において研削用砥石23との接触部位よりも外れた部位に給水ノズル26から研削水を供給し、シリコンウェーハ21の表面を洗浄しながら研削用砥石23をシリコンウェーハ21の表面に押圧して研削する。
両面同時研磨する方法としては、図6に示すような両面同時研磨装置50により行われる。図6に示すように、先ず、キャリアプレート51を両面同時研磨装置50のサンギア57とインターナルギア58に噛合させ、キャリアプレート51のホルダー内にシリコンウェーハ21をセットする。その後、このシリコンウェーハ21の両面を研磨面側に第1研磨布52aが貼り付けられた上定盤52と研磨面側に第2研磨布53aが貼り付けられた下定盤53で挟み込むように保持し、ノズル54から研磨剤56を供給するとともに、サンギア57とインターナルギア58によってキャリアプレート51を遊星運動させ、同時に上定盤52と下定盤53を相対方向に回転させることによって、シリコンウェーハ21の両面を同時に鏡面研磨する。また、この両面同時研磨工程16では、上定盤52と下定盤53の回転数をそれぞれ制御しながらシリコンウェーハの表裏面を同時に研磨することで、ウェーハの表裏面を目視により識別可能な片面鏡面ウェーハを得ることができる。このように本発明のシリコンウェーハの製造方法を行うことによってウェーハ製造における生産性が大幅に改善される。
<実施例1〜4>
先ず、φ200mmシリコンウェーハを複数枚用意し、平坦化工程として、図4に示すラッピング装置を用いてシリコンウェーハ表裏面にラッピングを施した。ラッピング工程における研磨剤は、番手が#1500のAl2O3を含む研磨剤を使用し、供給する研磨剤流量を2.0L/min、上定盤の荷重を70g/cm2、上定盤回転数を10rpm及び下定盤回転数を40rpmにそれぞれ制御しながらシリコンウェーハの平坦化を行った。次に、エッチング工程として、図5に示すエッチング装置を用いて平坦化を終えたシリコンウェーハにエッチングを施した。エッチング液には51重量%水酸化ナトリウムに平均粒子径が2〜5μmのシリカ粉末を水酸化ナトリウムに対して1g/L、5g/L、10g/L及び100g/Lとなるように混合して調製された4種類のエッチング液を用いた。このエッチング工程では、シリコンウェーハをエッチング液中に15分間浸漬させてエッチングを行った。このエッチングにおけるエッチング取り代はウェーハ片面で10μm、ウェーハ両面で20μmであった。
エッチング工程におけるエッチング液に使用するアルカリ水溶液を48重量%水酸化ナトリウム水溶液に代えた以外は実施例1〜4と同様にして平坦化工程及びエッチング工程を施した。
アルカリ水溶液として51重量%水酸化ナトリウム水溶液のみからなる薬液を3種類用意し、この薬液をそのままエッチング工程におけるエッチング液として用いた以外は実施例1と同様にして平坦化工程及びエッチング工程を施した。即ち、エッチング液にシリカ粉末を添加しなかった。
<比較例4〜6>
アルカリ水溶液として48重量%水酸化ナトリウム水溶液のみからなる薬液を3種類用意し、この薬液をそのままエッチング工程におけるエッチング液として用いた以外は実施例1と同様にして平坦化工程及びエッチング工程を施した。即ち、エッチング液にシリカ粉末を添加しなかった。
ラッピング工程におけるラッピング装置の上定盤荷重を100g/cm2に制御してシリコンウェーハの平坦化を行った以外は実施例1〜8と同様にして平坦化工程及びエッチング工程を施した。
ラッピング工程におけるラッピング装置の上定盤荷重を100g/cm2に制御してシリコンウェーハの平坦化を行った以外は比較例1〜6と同様にして平坦化工程及びエッチング工程を施した。
ラッピング工程における研磨剤として番手が#1000のAl2O3を含む研磨剤を使用し、ラッピング装置の上定盤荷重を100g/cm2に制御してシリコンウェーハの平坦化を行った以外は実施例1〜8と同様にして平坦化工程及びエッチング工程を施した。
ラッピング工程における研磨剤として番手が#1000のAl2O3を含む研磨剤を使用し、ラッピング装置の上定盤荷重を100g/cm2に制御してシリコンウェーハの平坦化を行った以外は比較例1〜6と同様にして平坦化工程及びエッチング工程を施した。
ラッピング工程におけるラッピング装置の上定盤荷重を100g/cm2に制御してシリコンウェーハの平坦化を行い、エッチング工程におけるエッチング液に使用するアルカリ水溶液を48重量%水酸化カリウム水溶液に代えた以外は実施例1〜4と同様にして平坦化工程及びエッチング工程を施した。
<実施例29〜32>
ラッピング工程における研磨剤として番手が#1000のAl2O3を含む研磨剤を使用し、ラッピング装置の上定盤荷重を100g/cm2に制御してシリコンウェーハの平坦化を行い、エッチング工程におけるエッチング液に使用するアルカリ水溶液を48重量%水酸化カリウム水溶液に代えた以外は実施例1〜4と同様にして平坦化工程及びエッチング工程を施した。
ラッピング工程におけるラッピング装置の上定盤荷重を100g/cm2に制御してシリコンウェーハの平坦化を行い、エッチング工程におけるエッチング液に使用するアルカリ水溶液を48重量%水酸化カリウム水溶液に代えた以外は比較例1〜3と同様にして平坦化工程及びエッチング工程を施した。
<比較例22〜24>
ラッピング工程における研磨剤として番手が#1000のAl2O3を含む研磨剤を使用し、ラッピング装置の上定盤荷重を100g/cm2に制御してシリコンウェーハの平坦化を行い、エッチング工程におけるエッチング液に使用するアルカリ水溶液を48重量%濃度の水酸化カリウム水溶液に代えた以外は比較例1〜3と同様にして平坦化工程及びエッチング工程を施した。
実施例1〜32及び比較例1〜24でそれぞれ得られたシリコンウェーハに対し、非接触表面粗さ計(チャップマン社製)を用いてそのウェーハ表面粗さを測定し、ウェーハ表面性状の基本パラメータであるRa及びRmaxをそれぞれ求めた。高さ方向の振幅平均パラメータである算術平均粗さRaは、図7に示すウェーハ表面において、基準長さをlrとしたとき、次の数式(1)に示すように、この基準長さにおけるZ(x)の絶対値の平均で表される。
先ず、φ200mmシリコンウェーハを複数枚用意し、平坦化工程として、実施例1と同様にしてシリコンウェーハ表裏面にラッピングを施した。次いで、ラッピング上がりのウェーハに対して、図2及び図3に示す研削装置を用いてシリコンウェーハ表面に仕上げ研削を施した。研削条件は、砥石の研削番手を#2000、ダイヤ分布中心粒径を3〜4μm、スピンドル(ホイール)回転数を4800rpm、送り速度を0.3μm/sec、ウェーハ(ウェーハチャック)回転数を20rpm、加工取り代を10μm以下とした。次に、エッチング工程として、図5に示すエッチング装置を用いて平坦化を終えたシリコンウェーハにエッチングを施した。エッチング液には48重量%水酸化ナトリウムに平均粒子径が2〜5μmのシリカ粉末を水酸化ナトリウムに対して1g/L、10g/L及び100g/Lとなるように混合して調製された3種類のエッチング液を用いた。このエッチング工程では、シリコンウェーハをエッチング液中に15分間浸漬させてエッチングを行った。このエッチングにおけるエッチング取り代はウェーハ片面で2.5μm、ウェーハ両面で5μmであった。
アルカリ水溶液として48重量%水酸化ナトリウム水溶液のみからなる薬液を3種類用意し、この薬液をそのままエッチング工程におけるエッチング液として用いた以外は実施例33と同様にして平坦化工程及びエッチング工程を施した。即ち、エッチング液にシリカ粉末を添加しなかった。
実施例33〜35及び比較例25〜27でそれぞれ得られたシリコンウェーハに対し、上記比較試験1と同様にして非接触表面粗さ計(チャップマン社製)を用いてそのウェーハ表面粗さを測定し、ウェーハ表面性状の基本パラメータであるRa及びRmaxをそれぞれ求めた。実施例33〜35及び比較例25〜27でそれぞれ得られたシリコンウェーハにおけるRa及びRmaxの結果を表5にそれぞれ示す。
14 エッチング工程
16 両面同時研磨工程
Claims (5)
- アルカリ水溶液にシリカ粉末が均一に分散してなることを特徴とするシリコンウェーハ表面形状制御用エッチング液。
- アルカリ水溶液が40〜50重量%水酸化ナトリウム水溶液であり、
前記アルカリ水溶液に添加されるシリカ粉末の添加割合が水酸化ナトリウムに対して1〜100g/Lである請求項1記載のエッチング液。 - シリカ粉末の平均粒子径が50〜5000nmである請求項1又は2記載のエッチング液。
- シリコン単結晶インゴットをスライスして得られた薄円板状のシリコンウェーハの表裏面を研削又はラッピングする平面化工程と、
請求項1ないし3いずれか1項に記載のエッチング液にシリコンウェーハを浸漬して前記シリコンウェーハの表裏面をエッチングするエッチング工程と、
前記エッチングしたシリコンウェーハの表裏面を同時に研磨する両面同時研磨工程と
をこの順に含むことを特徴とするシリコンウェーハの製造方法。 - シリコン単結晶インゴットをスライスして得られた薄円板状のシリコンウェーハの表裏面を研削又はラッピングする平面化工程と、
請求項1ないし3いずれか1項に記載のエッチング液にシリコンウェーハを浸漬して前記シリコンウェーハの表裏面をエッチングするエッチング工程と、
前記エッチングしたシリコンウェーハの表裏面を片面ずつ研磨する片面研磨工程と
をこの順に含むことを特徴とするシリコンウェーハの製造方法。
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