JP2006193401A - 熱分解法により製造された二酸化ケイ素、その製法、その使用、および該二酸化ケイ素を含有する水性分散液 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】BET表面積90±15m2/gを有する一次粒子の凝集体の形の、熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末であって、凝集体が、平均表面積10000〜20000nm2、平均相当円周直径90〜130nmおよび平均円周1000〜1400nmを有する熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末。
SiCl4およびH3SiCl、H2SiCl2、HSiCl3、CH3SiCl3、(CH3)2SiCl2、(CH3)3SiCl、(n−C3H7)SiCl3からなる群から選択された第2の成分を一次空気および燃焼ガスと混合し、反応室の中に燃焼させ、この際燃焼室中に更に二次空気を供給し、かつ供給物質を断熱火炎温度Tadが1810〜1890℃になるように選択する。
該熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末を含有する分散液。
【選択図】なし
Description
− BET表面積90±15m2/gを有し、かつ凝集体が、
− 平均表面積10000〜20000nm2、
− 平均相当円周直径(ECD=Equivalent Circle Diameter)90〜130nmおよび
− 平均円周1000〜1400nmを有する、
熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末である。
− 平均表面積12000〜18000nm2、
− 平均相当円周直径(ECD)100〜125nmおよび
− 平均円周1100〜1300nmを有する
際に、有利である。
− ケイ素化合物の混合物、これは
− 第1の成分として、SiCl4を混合物に対して60〜95質量%、および
− H3SiCl、H2SiCl2、HSiCl3、CH3SiCl3、(CH3)2SiCl2、(CH3)3SiCl、(n−C3H7)SiCl3からなる群から選択された第2の成分を混合物に対して5〜40質量%を含有する、を別々にまたは一緒に、蒸発させ、この蒸気をキャリヤーガスにより混合室中に移送し、
− これとは別に燃焼ガスおよび一次空気、これは場合により酸素富化されていてもかつ/または前加熱されていてもよい、を混合室中に導入し、
− 塩化ケイ素の蒸気、燃焼ガスおよび一次空気からなる混合物をバーナー中で点火し、この火炎を反応室の中に燃焼させ、
− この火炎の周囲を囲む二次空気を反応室中に供給し、この際一次空気に対する二次空気の比は0.1〜3、有利に0.25〜2であり、
− 次いで、固体をガス状物質から分離し、次いで固体を水蒸気処理し、
その際、
− 酸素の総量は少なくとも燃焼ガスおよびケイ素化合物の完全な燃焼のために十分であり、かつ
− ケイ素化合物、燃焼ガス、一次空気および二次空気からなる供給物質の量は、断熱火炎温度Tadが1800〜1880℃になるように選択し、その際
Tad=供給物質の温度+部分反応の反応エンタルピーの合計/二酸化ケイ素、水、塩化水素、二酸化炭素、酸素、窒素および、キャリヤーガスが空気または窒素でない場合には、場合によりキャリヤーガスを包含する反応室から排出される物質の熱容量であり、この際これらの物質の1000℃での比熱容量をベースとしている。
四塩化ケイ素95kg/hおよびトリクロロシラン(TCS)5kg/hを蒸発させて、バーナーの混合室中に窒素により供給する。同時に、水素34Nm3/h(1.5キロモル/h)および一次空気70Nm3/h(3.1キロモル/h)を混合室中に供給する。この混合物は温度90℃を有する。点火し、反応室中に火炎の形で燃焼する。バーナーからの混合物の流出速度は25.8m/秒である。更に、火炎の周囲を取り囲む二次空気24Nm3/h(1.1キロモル/h)を反応室中に供給する。一次空気に対する二次空気の比は0.34である。
第2表は、例1〜11の供給物質およびその量を示す。
第3表は、反応エンタルピー、熱容量および断熱火炎温度に関する算出値を示す。
第4表は、製造した二酸化ケイ素粉末並びに2種の市販の熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末(例12および13)の分析データを示す。
例2においては3種のケイ素成分を使用する。
例3および4においては、第1のケイ素成分である四塩化ケイ素の高いもしくは低い割合を使用する。
例5においては、請求した範囲内で、一次空気に対する二次空気の高い比を調節する。
例8においては1種のケイ素化合物(SiCl4)のみを使用する。
例9においては四塩化ケイ素とその他のケイ素化合物との比は、請求する範囲を外れている。
例10においては、二次空気を供給しない。
例11においては、一次空気に対する二次空気の比は請求した範囲を外れている。
例8および9においては、ケイ素化合物の組成は請求した範囲を外れている。例10においては二次空気を供給しない。第4表から明らかなように、平均凝集体表面積、平均ECD、平均凝集体円周、平均最大凝集体直径および平均最小凝集体直径が本発明による二酸化ケイ素粉末のそれらより大きい。
ステンレススチール製のバッチ容器60l中に、脱塩水36kgを装入する。引き続き、例1からの二酸化ケイ素粉末6.4kgを剪断条件下にYstral Conti-TDS 3の吸引管を用いて引き込み、更に、引き込み工程の終了後に剪断を3000rpmで15分間継続する。
ステンレススチール製のバッチ容器60l中に、脱塩水35.5kgおよび30%濃度のKOH溶液52gを装入する。引き続き、例1からの二酸化ケイ素粉末6.4kgを剪断条件下にYstral Conti-TDS 3の吸引管を用いて引き込み、更に、引き込み工程の終了後に剪断を3000rpmで15分間継続する。この15分間の分散の間に、pH値を更なるKOH−溶液の添加により10.4に調整して保持する。この目的のためにKOH−溶液43gを更に使用し、15質量%の固体濃度を水0.4kgの添加により調節する。
ステンレススチール製のバッチ容器60l中の脱塩水35.5kgを水酸化テトラメチルアンモニウム溶液(25%)でpH11に調整する。引き続き、例1からの二酸化ケイ素粉末37kgを剪断条件下にYstral Conti-TDS 3の吸引管を用いて引き込み、更に、引き込み工程の終了後に剪断を3000rpmで15分間継続する。この15分間の分散の間に、pH値を更なる水酸化テトラメチルアンモニウム溶液の添加により10〜11に保持する。水の残りの必要量を添加して、固体濃度50質量%に調節する。この分散液は6ヶ月の貯蔵期間の後にも粘度上昇または沈殿を示さない。
Claims (15)
- 一次粒子の凝集体の形の、熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末において、
− 該粉末がBET表面積90±15m2/gを有し、かつ凝集体が、
− 平均表面積10000〜20000nm2、
− 平均相当円周直径(ECD)90〜130nmおよび
− 平均円周1000〜1400nmを有する
ことを特徴とする、熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末。 - 凝集体が、
− 平均表面積12000〜18000nm2、
− 平均相当円周直径(ECD)100〜125nmおよび
− 平均円周1100〜1300nmを有する
ことを特徴とする、請求項1記載の熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末。 - 最大凝集体直径が200〜250nmであり、最小凝集体直径が100〜155nmであることを特徴とする、請求項1または2記載の熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末。
- クロリド含量が250ppm未満であることを特徴とする、請求項1から3までのいずれか1項記載の熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末。
- 炭素含量が100ppm未満であることを特徴とする、請求項1から4までのいずれか1項記載の熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末。
- 請求項1から5までのいずれか1項記載の二酸化ケイ素粉末の製法において、
− ケイ素化合物の混合物、これは
− 第1の成分として、SiCl4を混合物に対して60〜95質量%、および
− H3SiCl、H2SiCl2、HSiCl3、CH3SiCl3、(CH3)2SiCl2、(CH3)3SiCl、(n−C3H7)SiCl3からなる群から選択された第2の成分を混合物に対して5〜40質量%を含有する、を別々にまたは一緒に、蒸発させ、この蒸気をキャリヤーガスにより混合室中に移送し、
− これとは別に燃焼ガスおよび一次空気、これは場合により酸素富化されていてもかつ/または前加熱されていてもよい、を混合室中に導入し、
− 塩化ケイ素の蒸気、燃焼ガスおよび一次空気からなる混合物をバーナー中で点火し、この火炎を反応室の中に燃焼させ、
− この火炎の周囲を囲む二次空気を反応室中に供給し、この際一次空気に対する二次空気の比は0.1〜3、有利に0.25〜2の範囲にあり、
− 次いで、固体をガス状物質から分離し、次いで固体を水蒸気処理し、
その際、
− 酸素の総量は少なくとも燃焼ガスおよびケイ素化合物の完全な燃焼のために十分であり、かつ
− ケイ素化合物、燃焼ガス、一次空気および二次空気からなる供給物質の量を、断熱火炎温度Tadが1800〜1880℃になるように選択し、その際
Tad=供給物質の温度+部分反応の反応エンタルピーの合計/二酸化ケイ素、水、塩化水素、二酸化炭素、酸素、窒素および、キャリヤーガスが空気または窒素でない場合には、場合によりキャリヤーガスを包含する反応室から排出される物質の熱容量であり、この際これらの物質の1000℃での比熱容量をベースとしている、
ことを特徴とする、二酸化ケイ素の製法。 - 供給物質の温度が90℃±40℃であることを特徴とする、請求項6記載の製法。
- 反応混合物の混合室から反応室への流出速度が10〜80m/秒であることを特徴とする、請求項6または7記載の製法。
- ゴム、シリコンゴムおよびプラスチック中の充填剤としての、塗料およびコーティング中のレオロジーを調整するための、触媒のための支持体としての、請求項1から5までのいずれか1項記載の熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末の使用。
- 請求項1から5までのいずれか1項記載の熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末を含有する水性分散液。
- 二酸化ケイ素の含量が5〜60質量%であることを特徴とする、請求項10記載の水性分散液。
- pH値が3〜12であることを特徴とする、請求項10または11記載の水性分散液。
- 分散液中の平均凝集体直径が200nm未満であることを特徴とする、請求項10から12までのいずれか1項記載の水性分散液。
- 添加物を含有することを特徴とする、請求項10から13までのいずれか1項記載の水性分散液。
- 表面の化学的−機械的研磨のための請求項10から14までのいずれか1項記載の分散液の使用。
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