JP4541955B2 - 熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末及びこの粉末を含有するシリコーンシーラント - Google Patents
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Description
− BET表面積150±15m2/gを有し、該凝集体が
− 平均表面積12000〜20000nm2、
− 平均等価円直径(ECD=等価円直径)90〜120nm、及び
− 平均周囲長1150〜1700nm
を有する二酸化ケイ素粉末である。
− 平均表面積12500〜14500nm2、
− 平均等価円直径95〜110nm、及び
− 平均周囲長1250〜1450nm
を有する二酸化ケイ素粉末が有利なことがある。
− ケイ素化合物の混合物を、別個に又は一緒に蒸発させ、その蒸気をキャリヤガスにより混合室に移送し、その際、
− 第一成分としてのSiCl4は混合物に対して60〜95質量%の割合であり、
− H3SiCl、H2SiCl2、HSiCl3、CH3SiCl3、(CH3)2SiCl2、(CH3)3SiCl、(n−C3H7)SiCl3を含む群から選択される第二成分は混合物に対して5〜40質量%であり、
− 前記のものとは別個に、燃焼ガス、場合により酸素富化されかつ/又は予熱されていてよい一次空気を混合室に移送し、
− 塩化ケイ素の蒸気、燃焼ガス及び一次空気よりなる混合物を燃焼器中で着火させ、そしてその火炎を反応室で燃焼に用い、
− その火炎を取り囲む二次空気を反応室に取り込み、その際、二次空気/一次空気の比率は0.05〜3、有利には0.15〜2であり、
− 引き続き固体を気体状物質から分離し、そして次いでその固体を250℃〜750℃で水蒸気により処理し、その際、
− 酸素全量は、燃焼ガス及びケイ素化合物の完全な燃焼のために少なくとも十分であり、かつ
− ケイ素化合物、燃焼ガス、一次空気及び二次空気からなる出発物質の量は、1670〜1730℃の断熱火炎温度Tadが得られるように選択され、その際、
Tadは、出発物質温度+部分反応の反応エンタルピーの合計/反応室から排出される、二酸化ケイ素、水、塩化水素、二酸化炭素、酸素、窒素及びキャリヤガス(これが空気又は窒素でない場合)を含む物質の熱容量であり、その際、前記物質の1000℃での比熱を基礎とする
ことよりなる方法である。
参考例1:
100kg/時間の四塩化ケイ素及び5kg/時間のトリクロロシラン及び35kg/時間のメチルトリクロロシランを蒸発させ、そして窒素を用いて燃焼器の混合室に移送する。同時に35Nm3/時間の水素及び155Nm3/時間の一次空気を混合室に添加する。該混合物は90℃の温度を有する。該混合物を着火させ、そしてその火炎を反応室で燃焼に用いる。更にその火炎を取り囲む25Nm3/時間の二次空気を反応室に取り込む。
装置:遊星型溶解機は以下の要求を満たす:撹拌容器には約2リットル入り、そして冷却水接続部を有する外装を備えている。遊星駆動と溶解機駆動とは独立している。1つの真空ポンプが存在する。付加的な樽型プレスは詰め替えを容易にする。
62.4質量%のシリコーンポリマー(Silopren E 50)、
24.6質量%のシリコーン油(Siliconoel M 1000)、
4.0質量%のアセテート架橋剤(Vernetzer AC 3034)、
1.0質量%の定着剤(AC3001)、
0.01質量%の触媒 ジブチルスズジアセテート、
全てはGE バイエル・シリコン社製
8.0質量%の二酸化ケイ素粉末。
比較例8〜9では、ケイ素化合物の組成が特許請求の範囲外である。第4表から読み取れるように、平均凝集体面積、平均ECD、平均凝集体周囲長、平均の最大凝集体径及び平均の最小凝集体径が本発明による二酸化ケイ素粉末のものより大きい粉末が得られる。
Claims (10)
- 一次粒子の凝集体の形の熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末であって、一次粒子が
− BET表面積150±15m2/gを有し、かつ該凝集体が
− 平均面積12500〜14500nm 2 、
− 平均等価円直径(ECD=等価円直径)95〜110nm、及び
− 平均周囲長1250〜1450nm
を有することを特徴とする二酸化ケイ素粉末。 - 最大凝集体径が170〜240nmであり、かつ最小凝集体径が100〜160nmである、請求項1記載の熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末。
- 塩化物含量が250ppm未満である、請求項1又は2記載の熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末。
- 炭素含量が100ppm未満である、請求項1から3までのいずれか1項記載の熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末。
- 請求項1から4までのいずれか1項記載の二酸化ケイ素粉末の製造方法であって、
− ケイ素化合物の混合物を、別個に又は一緒に蒸発させ、その蒸気をキャリヤガスにより混合室に移送し、その際、
− 第一成分としてのSiCl4は混合物に対して60〜95質量%の割合であり、
− H3SiCl、H2SiCl2、HSiCl3、CH3SiCl3、(CH3)2SiCl2、(CH3)3SiCl、(n−C3H7)SiCl3を含む群から選択される第二成分は混合物に対して5〜40質量%であり、
− 前記のものとは別個に、燃焼ガス、場合により酸素富化されかつ/又は予熱されていてよい一次空気を混合室に移送し、
− 塩化ケイ素の蒸気、燃焼ガス及び一次空気よりなる混合物を燃焼器中で着火させ、そしてその火炎を反応室で燃焼に用い、
− その火炎を取り囲む二次空気を反応室に取り込み、その際、二次空気/一次空気の比率は0.05〜3であり、
− 引き続き固体を気体状物質から分離し、そして次いでその固体を250℃〜750℃で水蒸気により処理し、その際、
− 酸素全量は、燃焼ガス及びケイ素化合物の完全な燃焼のために少なくとも十分であり、かつ
− ケイ素化合物、燃焼ガス、一次空気及び二次空気からなる出発物質の量は、1670〜1730℃の断熱火炎温度Tadが得られるように選択され、その際、
Tadは、出発物質温度+部分反応の反応エンタルピーの合計/反応室から排出される、二酸化ケイ素、水、塩化水素、二酸化炭素、酸素、窒素及び場合によりキャリヤガス(これが空気又は窒素でない場合)を含む物質の熱容量であり、その際、前記物質の1000℃での比熱を基礎とする
ことを特徴とする方法。 - 出発物質の温度が90℃±40℃である、請求項5記載の方法。
- 混合室から反応室への反応混合物の排出速度が10〜80m/秒である、請求項5又は6記載の方法。
- ゴム及びプラスチック中での充填剤としての、染料及び塗料におけるレオロジー調節のための、触媒用担体としての及び分散液の製造のための、請求項1から4までのいずれか1項記載の熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末の使用。
- 請求項1から4までのいずれか1項記載の熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末を含有するシリコーンシーラント。
- 請求項1から4までのいずれか1項記載の二酸化ケイ素粉末8質量%を有するシリコーンシーラントの粘度が少なくとも120Pasである、請求項9記載のシリコーンシーラント。
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