KR100644314B1 - 열 제조된 이산화규소 분말 및 그의 분산액 - Google Patents
열 제조된 이산화규소 분말 및 그의 분산액 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100644314B1 KR100644314B1 KR1020050015270A KR20050015270A KR100644314B1 KR 100644314 B1 KR100644314 B1 KR 100644314B1 KR 1020050015270 A KR1020050015270 A KR 1020050015270A KR 20050015270 A KR20050015270 A KR 20050015270A KR 100644314 B1 KR100644314 B1 KR 100644314B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- silicon dioxide
- dioxide powder
- sicl
- average
- powder according
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
- C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
- C09K3/1463—Aqueous liquid suspensions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/141—Preparation of hydrosols or aqueous dispersions
- C01B33/1415—Preparation of hydrosols or aqueous dispersions by suspending finely divided silica in water
- C01B33/1417—Preparation of hydrosols or aqueous dispersions by suspending finely divided silica in water an aqueous dispersion being obtained
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
- C01B33/181—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process
- C01B33/183—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process by oxidation or hydrolysis in the vapour phase of silicon compounds such as halides, trichlorosilane, monosilane
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
- Y10T428/2991—Coated
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
- Y10T428/2991—Coated
- Y10T428/2993—Silicic or refractory material containing [e.g., tungsten oxide, glass, cement, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
- Y10T428/2991—Coated
- Y10T428/2998—Coated including synthetic resin or polymer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Dental Preparations (AREA)
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
Abstract
Description
- 하기 규소 화합물의 혼합물이 별도로 혹은 함께 기화되며, 그 증기가 운반 가스에 의해 혼합 챔버로 전달되고:
- 규소 화합물의 혼합물에 대해 60 내지 95 중량% 비율의 SiCl4 제1 성 분 및
반응 엔탈피 | |
KJ/mol | |
H2 | -241.8 |
SiCl4 | -620.1 |
SiHCl3 | -659.4 |
SiH2Cl2 | -712.3 |
C3H7SiCl3 | -2700.2 |
CH3SiCl3 | -928.3 |
(CH3)3SiCl | -2733.8 |
분산액에 대한물리-화학적 데이터 | |||
실시예 | 농도 | pH | 점도 * (10 s -1 ) |
[중량%] | [mPas] | ||
14 | 15 | 3.7 | 8.8 |
15 | 15 | 10.4 | 6.9 |
16 | 50 | 10.3 | 245 |
*점도계: 피지카(Physika) |
Claims (19)
- 90 ± 15 m2/g의 BET 표면적을 가지며, 1차 입자의 응집체가- 10000 내지 20000 nm2의 평균 표면적,- 90 내지 130 nm의 평균 등가 원 직경 (ECD) 및- 1000 내지 1400 nm의 평균 원주를 나타내는 것을 특징으로 하는,1차 입자의 응집체 형태의 열 제조된 이산화규소 분말.
- 제1항에 있어서, 상기 응집체가- 12000 내지 18000 nm2의 평균 표면적,- 100 내지 125 nm의 평균 등가 원 직경 및- 1100 내지 1300 nm의 평균 원주를 나타내는 것을 특징으로 하는,열 제조된 이산화규소 분말.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 최대 응집체 직경이 200 내지 250 nm이고 최소 응집체 직경이 100 내지 155 nm인 것을 특징으로 하는 열 제조된 이산화규소 분말.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 클로라이드 함유량이 250 ppm 미만인 것을 특징으로 하는 열 제조된 이산화규소 분말.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 탄소 함유량이 100 ppm 미만인 것을 특징으로 하는 열 제조된 이산화규소 분말.
- - 하기 규소 화합물의 혼합물이 별도로 혹은 함께 기화되며, 그 증기가 운반 가스에 의해 혼합 챔버로 전달되고:- 규소 화합물의 혼합물에 대해 60 내지 95 중량% 비율의 SiCl4 제1 성 분 및- 규소 화합물의 혼합물에 대해 5 내지 40 중량% 비율의 H3SiCl, H2SiCl2, HSiCl3, CH3SiCl3, (CH3)2SiCl2, (CH3)3SiCl, (n-C3H7)SiCl3를 포 함하는 군으로부터 선택된 제2 성분,- 연소 가스 및 1차 공기가 별도로 혼합 챔버로 전달되고,- 염화규소 증기, 연소 가스 및 1차 공기를 포함하는 혼합물이 버너에서 점화되어 화염이 반응 챔버 내로 연소되고,- 화염 주위를 둘러싸는 2차 공기가 반응 챔버 내로 도입되며, 2차 공기 대 1차 공기의 비율이 0.1 대 3의 범위이고,- 그 다음, 고체가 가스 성분들로부터 분리되어 증기 처리되고,여기서,- 산소의 총량은 연소 가스 및 규소 화합물의 연소를 완료하기에 충분한 양이상이고,- 규소 화합물, 연소 가스, 1차 공기 및 2차 공기로 구성된 공급 물질의 양은 1800 내지 1880℃의 단열 화염 온도 Tad가 얻어지도록 선택되며, 여기서Tad = 공급 물질의 온도 + 부분 반응의 반응 엔탈피 합/이산화규소, 물, 염화수소, 이산화탄소, 산소, 질소 및 운반 가스(이것이 공기 또는 질소가 아닌 경우)를 포함하는, 반응 챔버를 떠나는 성분들의 열용량(1000℃에서 상기 성분들의 비 열용량을 기준으로 함)임을 특징으로 하는,제1항 또는 제2항에 따른 이산화규소 분말의 제조 방법.
- 제6항에 있어서, 공급 물질의 온도가 90℃ ± 40℃임을 특징으로 하는 방법.
- 제6항에 있어서, 혼합 챔버에서 반응 공간으로의 반응 혼합물의 배출 속도가 10 내지 80 m/s임을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 따른 열 제조된 이산화규소 분말을 포함하는, 고무, 실리콘 고무 및 플라스틱용 충전제.
- 제1항 또는 제2항에 따른 열 제조된 이산화규소 분말을 함유하는 수성 분산액.
- 제10항에 있어서, 이산화규소의 함유량이 5 내지 60 중량%임을 특징으로 하는 수성 분산액.
- 제10항에 있어서, pH가 3 내지 12임을 특징으로 하는 수성 분산액.
- 제10항에 있어서, 분산액 중의 평균 응집체 직경이 200 nm 미만임을 특징으로 하는 수성 분산액.
- 제10항에 있어서, 첨가제를 함유하는 것을 특징으로 하는 수성 분산액.
- 제10항에 따른 분산액을 포함하는, 표면의 화학적-기계적 연마를 위한 연마제.
- 제1항 또는 제2항에 따른 열 제조된 이산화규소 분말을 포함하는, 페인트 및 코팅용 레올로지 조절제.
- 제1항 또는 제2항에 따른 열 제조된 이산화규소 분말을 포함하는, 촉매에 대한 지지체.
- 제6항에 있어서, 1차 공기가 산소로 강화되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제6항에 있어서, 1차 공기가 예열되는 것을 특징으로 하는 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102005001410.0 | 2005-01-12 | ||
DE102005001410A DE102005001410A1 (de) | 2005-01-12 | 2005-01-12 | Pyrogen hergestelltes Siliciumdioxidpulver und Dispersion hiervon |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20060082377A KR20060082377A (ko) | 2006-07-18 |
KR100644314B1 true KR100644314B1 (ko) | 2006-11-10 |
Family
ID=36177742
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050015270A KR100644314B1 (ko) | 2005-01-12 | 2005-02-24 | 열 제조된 이산화규소 분말 및 그의 분산액 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7537833B2 (ko) |
EP (1) | EP1681265B1 (ko) |
JP (1) | JP4280719B2 (ko) |
KR (1) | KR100644314B1 (ko) |
CN (1) | CN1803606B (ko) |
AT (1) | ATE485239T1 (ko) |
DE (2) | DE102005001410A1 (ko) |
ES (1) | ES2353505T3 (ko) |
UA (1) | UA84153C2 (ko) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10258858A1 (de) * | 2002-12-17 | 2004-08-05 | Degussa Ag | Pyrogen hergestelltes Siliciumdioxid |
DE102005001409A1 (de) * | 2005-01-12 | 2006-07-20 | Degussa Ag | Pyrogen hergestelltes Siliciumdioxidpulver und dieses Pulver enthaltene Silikondichtmasse |
WO2007101203A2 (en) * | 2006-02-28 | 2007-09-07 | Evonik Degussa Corporation | Colored paper and substrates coated for enhanced printing performance |
EP2066840A1 (en) * | 2006-09-26 | 2009-06-10 | Evonik Degussa Corporation | Multi-functional paper for enhanced printing performance |
CN101626854B (zh) | 2007-01-29 | 2012-07-04 | 赢创德固赛有限责任公司 | 用于熔模铸造的热解金属氧化物 |
DE102007035956A1 (de) * | 2007-07-30 | 2009-02-05 | Evonik Degussa Gmbh | Oberflächenmodifizierte, pyrogen hergestellte Kieselsäuren |
DE102007049742A1 (de) * | 2007-10-16 | 2009-04-23 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer Titan-Silicium-Mischoxid enthaltenden Dispersion |
US8038971B2 (en) * | 2008-09-05 | 2011-10-18 | Cabot Corporation | Fumed silica of controlled aggregate size and processes for manufacturing the same |
US8729158B2 (en) * | 2008-09-05 | 2014-05-20 | Cabot Corporation | Fumed silica of controlled aggregate size and processes for manufacturing the same |
JP5038449B2 (ja) * | 2010-03-09 | 2012-10-03 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置 |
CN103732536B (zh) * | 2011-07-29 | 2016-08-24 | 电气化学工业株式会社 | 球形硅石微粉末以及使用球形硅石微粉末的静电图像显影用调色剂外部添加剂 |
WO2015012118A1 (ja) * | 2013-07-24 | 2015-01-29 | 株式会社トクヤマ | Cmp用シリカ、水性分散液およびcmp用シリカの製造方法 |
CN105384177B (zh) * | 2015-11-27 | 2018-04-13 | 江苏联瑞新材料股份有限公司 | 亚微米级球形二氧化硅微粉的制备方法 |
CN105803455A (zh) * | 2015-12-28 | 2016-07-27 | 河北师范大学 | 一种无金属辅助SiO2微球模板法制备有序多孔硅的方法 |
JP7479849B2 (ja) * | 2017-07-13 | 2024-05-09 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 高分散二酸化ケイ素を製造する方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19756840A1 (de) * | 1997-01-23 | 1998-07-30 | Degussa | Pyrogene Oxide und Verfahren zu ihrer Herstellung |
CN1223231A (zh) * | 1997-11-13 | 1999-07-21 | 德古萨股份公司 | 基于热解二氧化硅的模制品 |
DE50114065D1 (de) * | 2001-03-24 | 2008-08-14 | Evonik Degussa Gmbh | Mit einer Hülle umgebene, dotierte Oxidpartikeln |
ATE280203T1 (de) * | 2001-08-08 | 2004-11-15 | Degussa | Mit siliziumdioxid umhüllte metalloxidpartikel |
DE10204471C1 (de) * | 2002-02-05 | 2003-07-03 | Degussa | Wässerige Dispersion enthaltend mit Ceroxid umhülltes Siliciumdioxidpulver, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung |
DE10258858A1 (de) | 2002-12-17 | 2004-08-05 | Degussa Ag | Pyrogen hergestelltes Siliciumdioxid |
DE10258857A1 (de) | 2002-12-17 | 2004-07-08 | Degussa Ag | Pyrogen hergestelltes Siliciumdioxid und Dispersion hiervon |
DE10326049A1 (de) | 2003-06-10 | 2004-12-30 | Degussa Ag | Flammenhydrolytisch hergestelltes Siliciumdioxid, Verfahren zu seiner Herstellung und Verwendung |
DE10357047A1 (de) | 2003-12-04 | 2005-07-07 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung zum Anzeigen von Informationen auf einem transparenten Substrat |
DE102004010755A1 (de) * | 2004-03-05 | 2005-09-22 | Degussa Ag | Silikonkautschuk |
GB0407463D0 (en) | 2004-04-01 | 2004-05-05 | Nova Chem Int Sa | Extruded foam structure with an inorganic blowing agent |
-
2005
- 2005-01-12 DE DE102005001410A patent/DE102005001410A1/de not_active Withdrawn
- 2005-02-10 JP JP2005035119A patent/JP4280719B2/ja active Active
- 2005-02-11 US US11/055,605 patent/US7537833B2/en active Active
- 2005-02-24 KR KR1020050015270A patent/KR100644314B1/ko active IP Right Grant
- 2005-02-28 CN CN2005100676496A patent/CN1803606B/zh active Active
- 2005-03-18 ES ES05005929T patent/ES2353505T3/es active Active
- 2005-03-18 AT AT05005929T patent/ATE485239T1/de active
- 2005-03-18 EP EP05005929A patent/EP1681265B1/de active Active
- 2005-03-18 DE DE502005010410T patent/DE502005010410D1/de active Active
- 2005-12-29 UA UAA200512749A patent/UA84153C2/uk unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060154994A1 (en) | 2006-07-13 |
CN1803606A (zh) | 2006-07-19 |
DE102005001410A1 (de) | 2006-07-20 |
CN1803606B (zh) | 2011-06-15 |
DE502005010410D1 (de) | 2010-12-02 |
JP4280719B2 (ja) | 2009-06-17 |
US7537833B2 (en) | 2009-05-26 |
EP1681265A3 (de) | 2006-09-13 |
EP1681265B1 (de) | 2010-10-20 |
UA84153C2 (uk) | 2008-09-25 |
EP1681265A2 (de) | 2006-07-19 |
JP2006193401A (ja) | 2006-07-27 |
KR20060082377A (ko) | 2006-07-18 |
ES2353505T3 (es) | 2011-03-02 |
ATE485239T1 (de) | 2010-11-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100644314B1 (ko) | 열 제조된 이산화규소 분말 및 그의 분산액 | |
US7491375B2 (en) | Pyrogenically produced silicon dioxide powder | |
JP4280712B2 (ja) | 熱分解法二酸化ケイ素及びその分散液 | |
US7351388B2 (en) | Pyrogenically produced silicon dioxide powder | |
JP5340270B2 (ja) | 低い増粘効果を有する熱分解的に製造された二酸化ケイ素 | |
JP4550804B2 (ja) | 熱分解法二酸化ケイ素粉末およびその分散液 | |
US7439298B2 (en) | Pyrogenically produced silicon dioxide powder and silicone sealing compound containing this powder |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121025 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131025 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141023 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20151022 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20161020 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171020 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20191024 Year of fee payment: 14 |