JP2006176810A - 磁気記録膜形成用CoCrPt−SiO2スパッタリングターゲットの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ハードディスクの高密度磁気記録媒体に適用される磁気記録膜、特に垂直磁気記録媒体に適用されるCoCrPt−SiO2グラニュラ磁気記録膜を形成するための微細な組織を有するCoCrPt−SiO2スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】Pt粉末およびSiO2粉末を配合した混合してPt−SiO2混合粉末を作製し、このPt−SiO2混合粉末にさらにCr粉末およびCo粉末を添加して混合して目標成分組成を有する混合粉末を作製し、この目標成分組成を有する混合粉末を加圧焼結することを特徴とする磁気記録膜形成用CoCrPt−SiO2スパッタリングターゲットの製造方法。
【選択図】 図1
【解決手段】Pt粉末およびSiO2粉末を配合した混合してPt−SiO2混合粉末を作製し、このPt−SiO2混合粉末にさらにCr粉末およびCo粉末を添加して混合して目標成分組成を有する混合粉末を作製し、この目標成分組成を有する混合粉末を加圧焼結することを特徴とする磁気記録膜形成用CoCrPt−SiO2スパッタリングターゲットの製造方法。
【選択図】 図1
Description
この発明は、ハードディスクの高密度磁気記録媒体に適用される磁気記録膜、特に垂直磁気記録媒体に適用されるCoCrPt−SiO2グラニュラ磁気記録膜を形成するための微細な組織を有するCoCrPt−SiO2スパッタリングターゲットの製造方法に関するものである
ハードディスク装置は一般にコンピュータやデジタル家電等の外部記録装置として用いられており、記録密度の一層の向上が求められている。そのため、近年、超高密度の記録を実現できる垂直磁気記録方式が注目されてきた。この垂直磁気記録方式は、高密度化するほど記録磁化が安定すると言われており、この垂直磁気記録方式を備えた磁気記録媒体には磁気記録膜が積層されており、この磁気記録膜は高性能な磁気記録膜であることが必要である。これに適用可能な磁気記録膜の一つとしてCoCrPt−SiO2グラニュラ磁気記録膜が提案されており、このCoCrPt−SiO2グラニュラ磁気記録膜はCrおよびPtを含むCo基焼結合金相とシリカ相の混合相を有する複合ターゲットを用いてRFマグネトロンスパッタ法により作製することができることが知られている(非特許文献1参照)。
この複合ターゲットは、通常は、SiO2粉末:4〜20原子%、Cr粉末:5〜20原子%、Pt粉末:5〜30原子%を含有し、残部:Co粉末からなる組成となるように配合し混合したのち、得られた混合体を加圧焼結することにより作製される。この場合、シリカ粉末の粒径が大きいと、スパッタリングしたときにパーティクルが発生し易いので、シリカ粉末の粒径を10μm以下とすることが好ましいとされている(特許文献1参照)。
「富士時報」Vol.75No.3 2002(169〜172ページ) 特開2001‐236643号公報
「富士時報」Vol.75No.3 2002(169〜172ページ)
しかし、粒径:10μm以下の微細なSiO2粉末を使用し、この微細なSiO2粉末を通常の粒径を有するCr粉末、Pt粉末、Co粉末などとともに目標成分組成となるように混合し、得られた混合粉末を加圧焼結することにより製造したターゲットは、加圧焼結中に粒成長して粗大な金属粒が生成し、それに伴って、微細なSiO2粉末は粗大な金属粒を取り囲むように粗大な金属粒の周囲に偏析し、この粗大な金属粒の周囲に偏析したSiO2相は集合して偏析しているために異常放電を起こし易く、異常放電が起きると、SiO2相は破壊されてパーティクルとなり、さらにSiO2相に囲まれた粗大金属粒が剥離、飛散して数十μレベルの巨大なパーティクルになりやすいという問題点があった。
そこで、本発明者らは、かかる課題を解決すべく研究を行なったところ、
(a)原料粉末であるCr粉末、Pt粉末、Co粉末などの金属粉末の内でもPt粉末は加圧焼結中に最も凝集しやすく、そのためにPt粉末は加圧焼結中に凝集して粗大なPt粉末に成長し、粗大なPt粒になりやすいこと、
(b)このPt粉末が加圧焼結中に凝集し粗大化するのを阻止することにより焼結体素地の金属粒の粗大化を阻止することができ、それに伴って、SiO2相が金属粒界に集合して偏析することを阻止することができ、かかる阻止を行うことにより微細な金属粒および偏析の少ない微細なSiO2相が均一分散した組織を有するターゲットを作製することができること、
(c)Pt粉末の加圧焼結工程における凝集および粗大化を阻止するには、予めPt粉末と微細なSiO2粉末を配合し混合することによりPt粉末の周囲に微細なSiO2粉末をコーティングし、このPt粉末の周囲に微細なSiO2粉末をコーティングした混合粉末(以下、Pt−SiO2混合粉末という)にさらにCr粉末およびCo粉末を目標成分組成となるように添加し混合して得られた混合粉末を加圧焼結すると、Pt−SiO2混合粉末のPt粉末はSiO2粉末のコーティングされていることにより加圧焼結中にPt粉末が凝集して粗大化するのを防止することができ、そして偏析の少ない微細なSiO2相が均一分散した組織を有する焼結体を得ることができること、などの研究結果が得られたのである。
(a)原料粉末であるCr粉末、Pt粉末、Co粉末などの金属粉末の内でもPt粉末は加圧焼結中に最も凝集しやすく、そのためにPt粉末は加圧焼結中に凝集して粗大なPt粉末に成長し、粗大なPt粒になりやすいこと、
(b)このPt粉末が加圧焼結中に凝集し粗大化するのを阻止することにより焼結体素地の金属粒の粗大化を阻止することができ、それに伴って、SiO2相が金属粒界に集合して偏析することを阻止することができ、かかる阻止を行うことにより微細な金属粒および偏析の少ない微細なSiO2相が均一分散した組織を有するターゲットを作製することができること、
(c)Pt粉末の加圧焼結工程における凝集および粗大化を阻止するには、予めPt粉末と微細なSiO2粉末を配合し混合することによりPt粉末の周囲に微細なSiO2粉末をコーティングし、このPt粉末の周囲に微細なSiO2粉末をコーティングした混合粉末(以下、Pt−SiO2混合粉末という)にさらにCr粉末およびCo粉末を目標成分組成となるように添加し混合して得られた混合粉末を加圧焼結すると、Pt−SiO2混合粉末のPt粉末はSiO2粉末のコーティングされていることにより加圧焼結中にPt粉末が凝集して粗大化するのを防止することができ、そして偏析の少ない微細なSiO2相が均一分散した組織を有する焼結体を得ることができること、などの研究結果が得られたのである。
この発明は、かかる研究結果に基づいてなされたものであって、
(1)Pt粉末およびSiO2粉末を配合し混合してPt−SiO2混合粉末を作製し、このPt−SiO2粉末の混合粉末にさらにCr粉末およびCo粉末を添加して混合して目標成分組成を有する混合粉末を作製し、この目標成分組成を有する混合粉末を加圧焼結する磁気記録膜形成用CoCrPt−SiO2スパッタリングターゲットの製造方法、に特徴を有するものである。
(1)Pt粉末およびSiO2粉末を配合し混合してPt−SiO2混合粉末を作製し、このPt−SiO2粉末の混合粉末にさらにCr粉末およびCo粉末を添加して混合して目標成分組成を有する混合粉末を作製し、この目標成分組成を有する混合粉末を加圧焼結する磁気記録膜形成用CoCrPt−SiO2スパッタリングターゲットの製造方法、に特徴を有するものである。
前記Pt粉末およびSiO2粉末は、Pt粉末を目標配合量の80質量%以上、SiO2粉末を目標配合量の20質量%以上を含み、なおかつCr粉末およびCo粉末の合計量が目標配合量の50質量%以下を含む目標配合組成より少なく配合した配合粉末を混合して混合粉末(以下、Pt−SiO2主体混合粉末という)を作製し、このPt−SiO2主体混合粉末にCr粉末、Co粉末、Pt粉末およびSiO2粉末を添加して目標成分組成を有する混合粉末を作製し、この混合粉末を加圧焼結することによりPt粉末が凝集して粗大化するのを防止することができるとともに偏析の少ない微細なSiO2相が均一分散した組織を有する焼結体を得ることができる。
したがって、この発明は、
(2)Pt粉末を目標配合量の80質量%以上、SiO2粉末を目標配合量の20質量%以上を含み、なおかつCr粉末およびCo粉末の合計量が目標配合量の50質量%以下を含む配合粉末を混合してPt−SiO2主体混合粉末を作製し、このPt−SiO2主体混合粉末にCr粉末、Co粉末、Pt粉末およびSiO2粉末を添加し混合して目標成分組成を有する混合粉末を作製し、この混合粉末を加圧焼結する磁気記録膜形成用CoCrPt−SiO2スパッタリングターゲットの製造方法、に特徴を有するものである。
(2)Pt粉末を目標配合量の80質量%以上、SiO2粉末を目標配合量の20質量%以上を含み、なおかつCr粉末およびCo粉末の合計量が目標配合量の50質量%以下を含む配合粉末を混合してPt−SiO2主体混合粉末を作製し、このPt−SiO2主体混合粉末にCr粉末、Co粉末、Pt粉末およびSiO2粉末を添加し混合して目標成分組成を有する混合粉末を作製し、この混合粉末を加圧焼結する磁気記録膜形成用CoCrPt−SiO2スパッタリングターゲットの製造方法、に特徴を有するものである。
この発明の前記(1)または(2)記載の磁気記録膜形成用CoCrPt−SiO2スパッタリングターゲットの製造方法において使用する原料粉末は、Co粉末、Cr粉末およびPt粉末の平均粒径(ただし、平均粒径とは累積50%の中心粒径を意味する。以下同じ)がいずれも50μm以下であり、SiO2粉末の平均粒径が10μm以下であり、かつSiO2粉末の平均粒径はPt粉末の平均粒径よりも小さく、SiO2粉末とPt粉末の平均粒径比が1/200〜1/5の範囲内にあることが一層好ましい。Co粉末、Cr粉末およびPt粉末の平均粒径がいずれかが50μmを越えると、微細な組織が得られず、またSiO2粉末の平均粒径が10μmを越えると異常放電が発生し易くなるためにパーティクルの発生が多くなるからである。また、SiO2粉末とPt粉末の平均粒径比が1/200よりも小さい場合、SiO2粉末の平均粒径が0.1μmよりも小さくなって超微粒となり、かかる超微粒は混合時に凝集を起こしやすく、焼結をするとかえって巨大なSiO2の塊となってしまうので実用上適切ではない。一方、SiO2粉末とPt粉末の平均粒径比が1/5よりも大きいと、Pt粉末表面が十分にSiO2粉末で覆われないため、加圧焼結時におけるPt粉末の凝集を阻止することができず、したがって、金属粒が粗大化し、微細なSiO2粉末が均一分散した組織が得られなくなるので好ましくないからである。
したがって、この発明は、
(3)原料粉末は、Co粉末、Cr粉末およびPt粉末の平均粒径がいずれも50μm以下であり、SiO2粉末の平均粒径が10μm以下であり、かつSiO2粉末の平均粒径はPt粉末の平均粒径よりも小さく、SiO2粉末とPt粉末の平均粒径比が1/200〜1/5の範囲内にある前記(1)または(2)記載の磁気記録膜形成用CoCrPt−SiO2スパッタリングターゲットの製造方法、に特徴を有するものである。
(3)原料粉末は、Co粉末、Cr粉末およびPt粉末の平均粒径がいずれも50μm以下であり、SiO2粉末の平均粒径が10μm以下であり、かつSiO2粉末の平均粒径はPt粉末の平均粒径よりも小さく、SiO2粉末とPt粉末の平均粒径比が1/200〜1/5の範囲内にある前記(1)または(2)記載の磁気記録膜形成用CoCrPt−SiO2スパッタリングターゲットの製造方法、に特徴を有するものである。
この発明の磁気記録膜形成用CoCrPt−SiO2スパッタリングターゲットの製造方法において、Pt−SiO2主体混合粉末に含まれるPt粉末を目標配合量の80質量%以上、SiO2粉末を目標配合量の20質量%以上とした理由は、Pt粉末が目標配合量の80質量%未満ではSiO2粉末がコーティングされないPt粉末の量が多くなり、このSiO2粉末がコーティングされないPt粉末の量の多い粉末を加圧焼結すると、粗大粒が多く生成する原因になるので好ましくないからである。一方、SiO2粉末の目標配合量を20質量%未満にすると、SiO2粉末の量が少なすぎてPt粉末全量の表面を覆うに十分でなく、仮焼処理してもSiO2粉末がコーティングされていないPt粉末が多く存在することになり、粗大粒発生の原因になるので好ましくないからである。
さらに、この発明の磁気記録膜形成用CoCrPt−SiO2スパッタリングターゲットの製造方法において、Pt−SiO2主体混合粉末に含まれるCr粉末およびCo粉末の合計量を目標配合量の50質量%以下としたのは、Cr粉末およびCo粉末の合計量が目標配合量の50質量%を越えて含まれるとSiO2粉末がCr粉末およびCo粉末の表面をコーティングするのに消費されてしまい、Pt粉末の表面がSiO2粉末により十分に厚くコーティングされなくなるため、加圧焼結中にPt粉末の凝集および粗大化が生じるので好ましくないからである。
この発明の磁気記録膜形成用CoCrPt−SiO2スパッタリングターゲットの製造方法において、Pt−SiO2混合粉末およびPt−SiO2主体混合粉末を作製するために要する混合時間は0.5時間以上必要である。0.5時間未満ではPt粉末の表面に十分な厚さのSiO2粉末がコーティングされないからである。混合方法としてはボールミル法が好ましい。また、この発明の磁気記録膜形成用CoCrPt−SiO2スパッタリングターゲットの製造方法における加圧焼結は、1000〜1250℃の範囲内の温度で実施することが好ましい。1000℃未満では焼結体の密度が低く空孔を多く含むようになり、この焼結体を用いて作製したターゲットは異常放電やパーティクルが発生しやすいからである。一方、1250℃を越えて加圧焼結すると、CoCrPtが溶融してしまう恐れがあるからである。
この発明は、パーティクル発生の少ないCoCrPt−SiO2グラニュラ磁気記録膜を形成するためのCoCrPt−SiO2スパッタリングターゲットを簡単に製造することができ、コンピューター並びにデジタル家電等の産業の発展に大いに貢献し得るものである。
原料粉末として、平均粒径:12μmを有する市販のCo粉末、平均粒径:35μmを有する市販のCr粉末、平均粒径:35μmを有する市販のPt粉末を用意した。さらに原料粉末として平均粒径:3μmを有するSiO2粉末を用意した。
実施例1
先に用意したCo粉末、Cr粉末、Pt粉末およびSiO2粉末を、Cr粉末:7.2原子%、Pt粉末:18原子%、SiO2粉末:10原子%、残部:Co粉末となるように秤量し、このうちPt粉末およびSiO2粉末のみを配合し、大気中、ジルコニアボールによる乾式ボールミルで8時間乾式混合することによりPt−SiO2混合粉末を作製した。その後、このPt−SiO2混合粉末に残部となるCo粉末およびCr粉末を添加したのちAr雰囲気中、ジルコニアボールによる乾式ボールミルで8時間乾式混合することにより混合粉末を作製し、この混合粉末を直径:165mmのカーボンモールドに充填し、真空雰囲気中、温度:1200℃、圧力:20MPa、3時間保持の条件でホットプレスすることによりホットプレス体を作製した。このホットプレス体を機械加工することにより直径:152.4mm、厚さ:2mmの寸法を有するターゲットを作製することにより本発明法1を実施した。
先に用意したCo粉末、Cr粉末、Pt粉末およびSiO2粉末を、Cr粉末:7.2原子%、Pt粉末:18原子%、SiO2粉末:10原子%、残部:Co粉末となるように秤量し、このうちPt粉末およびSiO2粉末のみを配合し、大気中、ジルコニアボールによる乾式ボールミルで8時間乾式混合することによりPt−SiO2混合粉末を作製した。その後、このPt−SiO2混合粉末に残部となるCo粉末およびCr粉末を添加したのちAr雰囲気中、ジルコニアボールによる乾式ボールミルで8時間乾式混合することにより混合粉末を作製し、この混合粉末を直径:165mmのカーボンモールドに充填し、真空雰囲気中、温度:1200℃、圧力:20MPa、3時間保持の条件でホットプレスすることによりホットプレス体を作製した。このホットプレス体を機械加工することにより直径:152.4mm、厚さ:2mmの寸法を有するターゲットを作製することにより本発明法1を実施した。
実施例2
先に用意したCo粉末、Cr粉末、Pt粉末およびSiO2粉末を、Cr粉末:7.2原子%、Pt粉末:18原子%、SiO2粉末:10原子%、残部:Co粉末となるように秤量した。この秤量した原料粉末のうちPt粉末を目標配合量の90質量%、SiO2粉末を目標配合量の60質量%、Cr粉末およびCo粉末の合計が目標配合量の30質量%となるようにそれぞれ取出して配合し、Ar雰囲気中、ジルコニアボールによる乾式ボールミルで8時間乾式混合することによりPt−SiO2主体混合粉末を作製し、このPt−SiO2主体混合粉末に残りのCr粉末、Co粉末、Pt粉末およびSiO2粉末を添加してAr雰囲気中、ジルコニアボールによる乾式ボールミルで8時間乾式混合することにより混合粉末を作製し、この混合粉末を直径:165mmのカーボンモールドに充填し、真空雰囲気中、温度:1200℃、圧力:20MPa、3時間保持の条件でホットプレスすることによりホットプレス体を作製した。このホットプレス体を機械加工することにより直径:152.4mm、厚さ:2mmの寸法を有するターゲットを作製することにより本発明法2を実施した。
先に用意したCo粉末、Cr粉末、Pt粉末およびSiO2粉末を、Cr粉末:7.2原子%、Pt粉末:18原子%、SiO2粉末:10原子%、残部:Co粉末となるように秤量した。この秤量した原料粉末のうちPt粉末を目標配合量の90質量%、SiO2粉末を目標配合量の60質量%、Cr粉末およびCo粉末の合計が目標配合量の30質量%となるようにそれぞれ取出して配合し、Ar雰囲気中、ジルコニアボールによる乾式ボールミルで8時間乾式混合することによりPt−SiO2主体混合粉末を作製し、このPt−SiO2主体混合粉末に残りのCr粉末、Co粉末、Pt粉末およびSiO2粉末を添加してAr雰囲気中、ジルコニアボールによる乾式ボールミルで8時間乾式混合することにより混合粉末を作製し、この混合粉末を直径:165mmのカーボンモールドに充填し、真空雰囲気中、温度:1200℃、圧力:20MPa、3時間保持の条件でホットプレスすることによりホットプレス体を作製した。このホットプレス体を機械加工することにより直径:152.4mm、厚さ:2mmの寸法を有するターゲットを作製することにより本発明法2を実施した。
従来例1
先に用意したCo粉末、Cr粉末、Pt粉末およびSiO2粉末を、Cr粉末:7.2原子%、Pt粉末:18原子%、SiO2粉末:10原子%、残部:Co粉末となるように秤量して配合し、ジルコニアボールによる乾式ボールミルで8時間乾式混合し、得られた混合粉末を直径:165mmのカーボンモールドに充填し、真空雰囲気中、温度:1200℃、圧力:20MPa、3時間保持の条件でホットプレスすることによりホットプレス体を作製した。このホットプレス体を機械加工することにより直径:152.4mm、厚さ:2mmの寸法を有するターゲットを作製することにより従来法1を実施した。
先に用意したCo粉末、Cr粉末、Pt粉末およびSiO2粉末を、Cr粉末:7.2原子%、Pt粉末:18原子%、SiO2粉末:10原子%、残部:Co粉末となるように秤量して配合し、ジルコニアボールによる乾式ボールミルで8時間乾式混合し、得られた混合粉末を直径:165mmのカーボンモールドに充填し、真空雰囲気中、温度:1200℃、圧力:20MPa、3時間保持の条件でホットプレスすることによりホットプレス体を作製した。このホットプレス体を機械加工することにより直径:152.4mm、厚さ:2mmの寸法を有するターゲットを作製することにより従来法1を実施した。
さらに実施例1〜2の本発明法1〜2を実施することにより得られたターゲットおよび従来例1の従来法1を実施することにより得られたターゲットをそれぞれバッキングプレートにろう付けし、これを市販のスパッタ装置に装着し、
到達真空度:<5×10−5Pa、
基板加熱:無し、
ターゲット−基板間距離:60mm、
Arガス圧:2.0Pa、
放電電力:RF650w、
の条件で30分間のプレスパッタ後、市販の直径:6インチ、Siウエハ上にCoCrPt−SiO2グラニュラ磁気記録膜を厚さ:100nmになるように25枚の基板に成膜した。得られた基板について、市販の異物検査装置により基板上の異物数を計数し、25枚の平均値を求め、その結果を表1に示した。なお、この成膜は、前もって成膜と同じ条件で3時間のプレスパッタを行い、ターゲット表層の機械加工跡を除去し、一端装置を大気開放してチャンバーを十分クリーニングしてから行った。
到達真空度:<5×10−5Pa、
基板加熱:無し、
ターゲット−基板間距離:60mm、
Arガス圧:2.0Pa、
放電電力:RF650w、
の条件で30分間のプレスパッタ後、市販の直径:6インチ、Siウエハ上にCoCrPt−SiO2グラニュラ磁気記録膜を厚さ:100nmになるように25枚の基板に成膜した。得られた基板について、市販の異物検査装置により基板上の異物数を計数し、25枚の平均値を求め、その結果を表1に示した。なお、この成膜は、前もって成膜と同じ条件で3時間のプレスパッタを行い、ターゲット表層の機械加工跡を除去し、一端装置を大気開放してチャンバーを十分クリーニングしてから行った。
表1に示される結果から、本発明法1〜2を実施することにより得られたターゲットは、従来法1を実施することにより得られたターゲットに比べて、スパッタリング時に発生するパーティクルの数が格段に少ないことが分かる。
さらに、スパッタによる成膜後、バッキングプレートからターゲットを剥がし、そこから組織観察用のサンプルを切り出し、樹脂に埋めこみ、研磨したのち500倍の光学顕微鏡で断面組織を観察し、その組織写真を撮影し、前記実施例1〜2および従来例1で作製したターゲットの組織写真を図1〜3に示した。
図1〜3から明らかなように、実施例1〜2の本発明法1〜2を実施することにより得られたターゲットは金属粒(白色部)が微細であり、さらのSiO2相(黒色部)が微細に均一分散しているに対し、従来例1の従来法1を実施することにより得られたターゲットは金属粒(白色部)が粗大であり、さらのSiO2相(黒色部)が粗大な金属粒の周囲を囲むように集合して偏析していることがわかる。
図1〜3から明らかなように、実施例1〜2の本発明法1〜2を実施することにより得られたターゲットは金属粒(白色部)が微細であり、さらのSiO2相(黒色部)が微細に均一分散しているに対し、従来例1の従来法1を実施することにより得られたターゲットは金属粒(白色部)が粗大であり、さらのSiO2相(黒色部)が粗大な金属粒の周囲を囲むように集合して偏析していることがわかる。
Claims (3)
- Pt粉末およびSiO2粉末を配合し混合してPt−SiO2混合粉末を作製し、このPt−SiO2混合粉末にさらにCr粉末およびCo粉末を添加して混合して目標成分組成を有する混合粉末を作製し、この目標成分組成を有する混合粉末を加圧焼結することを特徴とする磁気記録膜形成用CoCrPt−SiO2スパッタリングターゲットの製造方法。
- Pt粉末を目標配合量の80質量%以上、SiO2粉末を目標配合量の20質量%以上を含み、なおかつCr粉末およびCo粉末の合計量が目標配合量の50質量%以下を含む配合粉末を混合して混合粉末(以下、Pt−SiO2主体混合粉末という)を作製し、このPt−SiO2主体混合粉末にCr粉末、Co粉末、Pt粉末およびSiO2粉末を添加して目標成分組成を有する混合粉末を作製し、この混合粉末を加圧焼結することを特徴とする磁気記録膜形成用CoCrPt−SiO2スパッタリングターゲットの製造方法。
- 前記Co粉末、Cr粉末およびPt粉末の平均粒径(ただし、平均粒径とは累積50%の中心粒径を意味する。以下同じ)がいずれも50μm以下であり、SiO2粉末の平均粒径が10μm以下であり、かつSiO2粉末の平均粒径はPt粉末の平均粒径よりも小さく、SiO2粉末とPt粉末の平均粒径比が1/200〜1/5の範囲内にあることを特徴とする請求項1または2記載の磁気記録膜形成用CoCrPt−SiO2スパッタリングターゲットの製造方法。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008081841A1 (ja) * | 2007-01-04 | 2008-07-10 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | CoCrPt系スパッタリングターゲットおよびその製造方法 |
JP2008223072A (ja) * | 2007-03-12 | 2008-09-25 | Mitsubishi Materials Corp | パーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Co基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法 |
WO2010024150A1 (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-04 | 日鉱金属株式会社 | 貴金属粉末と酸化物粉末からなる混合粉末の製造方法及び貴金属粉末と酸化物粉末からなる混合粉末 |
US20110241253A1 (en) * | 2010-03-30 | 2011-10-06 | China Steel Corporation | Method for manufacturing cobalt alloy-based ceramic composite sputtering target |
JP2012033247A (ja) * | 2010-08-03 | 2012-02-16 | Showa Denko Kk | ターゲット、ターゲットの製造方法、磁気記録媒体の製造方法 |
JP4975647B2 (ja) * | 2006-01-13 | 2012-07-11 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 非磁性材粒子分散型強磁性材スパッタリングターゲット |
WO2024014156A1 (ja) * | 2022-07-12 | 2024-01-18 | 田中貴金属工業株式会社 | Co-Cr-Pt-酸化物系スパッタリングターゲット |
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- 2004-12-21 JP JP2004369451A patent/JP2006176810A/ja not_active Withdrawn
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4975647B2 (ja) * | 2006-01-13 | 2012-07-11 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 非磁性材粒子分散型強磁性材スパッタリングターゲット |
US9034153B2 (en) | 2006-01-13 | 2015-05-19 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Nonmagnetic material particle dispersed ferromagnetic material sputtering target |
JP2008163438A (ja) * | 2007-01-04 | 2008-07-17 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | CoCrPt系スパッタリングターゲットおよびその製造方法 |
WO2008081841A1 (ja) * | 2007-01-04 | 2008-07-10 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | CoCrPt系スパッタリングターゲットおよびその製造方法 |
JP2008223072A (ja) * | 2007-03-12 | 2008-09-25 | Mitsubishi Materials Corp | パーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Co基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法 |
WO2010024150A1 (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-04 | 日鉱金属株式会社 | 貴金属粉末と酸化物粉末からなる混合粉末の製造方法及び貴金属粉末と酸化物粉末からなる混合粉末 |
US8758476B2 (en) | 2008-08-28 | 2014-06-24 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Method of producing mixed powder comprising noble metal powder and oxide powder, and mixed powder comprising noble metal powder and oxide powder |
JP5547077B2 (ja) * | 2008-08-28 | 2014-07-09 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 貴金属粉末と酸化物粉末からなる混合粉末の製造方法及び貴金属粉末と酸化物粉末からなる混合粉末 |
JP2014159638A (ja) * | 2008-08-28 | 2014-09-04 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | 貴金属粉末と酸化物粉末からなる混合粉末の製造方法及び貴金属粉末と酸化物粉末からなる混合粉末 |
US8366994B2 (en) * | 2010-03-30 | 2013-02-05 | China Steel Corporation | Method for manufacturing cobalt alloy-based ceramic composite sputtering target |
US20110241253A1 (en) * | 2010-03-30 | 2011-10-06 | China Steel Corporation | Method for manufacturing cobalt alloy-based ceramic composite sputtering target |
JP2012033247A (ja) * | 2010-08-03 | 2012-02-16 | Showa Denko Kk | ターゲット、ターゲットの製造方法、磁気記録媒体の製造方法 |
WO2024014156A1 (ja) * | 2022-07-12 | 2024-01-18 | 田中貴金属工業株式会社 | Co-Cr-Pt-酸化物系スパッタリングターゲット |
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