JP2006130840A - 発熱抵抗体膜、記録ヘッド、および記録装置 - Google Patents
発熱抵抗体膜、記録ヘッド、および記録装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006130840A JP2006130840A JP2004324087A JP2004324087A JP2006130840A JP 2006130840 A JP2006130840 A JP 2006130840A JP 2004324087 A JP2004324087 A JP 2004324087A JP 2004324087 A JP2004324087 A JP 2004324087A JP 2006130840 A JP2006130840 A JP 2006130840A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating resistor
- film
- resistor film
- recording head
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Abstract
【解決手段】記録ヘッド用基体のヒーター部17に、配線14を介して通電されることによって熱エネルギーを発生させる発熱抵抗体膜13が形成されている。発熱抵抗体膜13は、非晶質窒化珪素タンタルを主成分とし、その表面に形成された酸化膜13aの膜厚が2.5nm以下となっている。
【選択図】図1
Description
こうして得られた回路基板の上に吐出口を形成することにより、液体吐出ヘッドを製造することができる。具体的には、ノズル壁や天板等を回路基板上に設けて、吐出口及びインク流路を備えた吐出部を作ればよい。
ターゲット:Ta/Si=60/40のTaSiターゲット、圧力:0.5Pa、電極の直径:約200mm、投入電力:1KW、アルゴン流量:63sccm、窒素流量:19sccm
形成された非晶質窒化珪素タンタル(TaSiN)の組成はTaが35.0原子%、Siが23.0原子%、Nが40.0原子%、酸素が1.5原子%(残部は分析せず)であり、シート抵抗は約200Ω/□であった。その後、非晶質TaSiN膜のヒーター部として作用する部分以外をスパッタエッチングにより除去した。このパターニングに使用したレジストを除去した後に発熱抵抗体膜の表面および側面に形成された酸化膜を、フッ素系ガスを酸素で希釈したガスでエッチングして除去した。
13a 酸化膜
Claims (11)
- 金属珪化窒化物を主成分とする発熱抵抗体膜において、
表面の酸化膜の膜厚が2.5nm以下であることを特徴とする発熱抵抗体膜。 - 前記金属珪化窒化物が非晶質窒化珪素タンタルを主成分とする、請求項1に記載の発熱抵抗体膜。
- 請求項1または2に記載の発熱抵抗体膜と、該発熱抵抗体膜に通電するための配線とが基板上に形成されている記録ヘッド用基体。
- 請求項3に記載の記録ヘッド用基体を有し、前記発熱抵抗体膜に前記配線を介してパルス電流を通電することによって発生する熱エネルギーを画像記録に利用する記録ヘッド。
- 前記発熱抵抗体膜上に液体を流通させる液体流路と、該液体流路に連通し、前記発熱抵抗体膜の発生する熱エネルギーにより前記液体流路中の液体が膜沸騰するのに伴って発生する圧力によって液体が吐出される吐出口とが形成された、前記記録ヘッド用基体上に配置された部材をさらに有する、請求項4に記載の記録ヘッド。
- 請求項4または5に記載の記録ヘッドと、被記録部材を、前記記録ヘッドに対面する位置を通して搬送する手段とを有する記録装置。
- 金属珪化窒化物を主成分とする発熱抵抗体膜の製造方法において、
前記発熱抵抗体膜を形成した後、該発熱抵抗体膜の表面の酸化膜の少なくとも一部を除去することを特徴とする、発熱抵抗体膜の製造方法。 - 前記酸化膜を除去する工程は、フッ素を含むガスを用いたエッチング処理である、請求項7に記載の発熱抵抗体膜の製造方法。
- 前記発熱抵抗体膜を、非晶質窒化珪素タンタルを主成分として形成する、請求項7に記載の、発熱抵抗体膜の製造方法。
- 基板上に発熱抵抗体膜と、該発熱抵抗体膜に電流を流すための配線が形成された、記録ヘッド用基体の製造方法であって、
前記基板上に前記配線を形成するための導電膜を形成する工程と、該導電膜をパターニングして発熱部を形成する工程と、該導電膜上に前記発熱抵抗体膜を形成する工程と、前記発熱抵抗体膜を画素ごとに分離するためのレジストマスクを形成する工程と、前記導電膜と発熱抵抗体膜をエッチングして画素ごとに分離する工程と、前記レジストマスクを除去する工程と、前記発熱抵抗体膜上に形成された酸化膜の一部を除去する工程と、を含むことを特徴とする記録ヘッド用基体の製造方法。 - 前記酸化膜を除去する工程がフッ素を含むガスによるエッチングである、請求項10に記載の記録ヘッド用基体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004324087A JP4605760B2 (ja) | 2004-11-08 | 2004-11-08 | 発熱抵抗体膜の製造方法、記録ヘッド用基体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004324087A JP4605760B2 (ja) | 2004-11-08 | 2004-11-08 | 発熱抵抗体膜の製造方法、記録ヘッド用基体の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006130840A true JP2006130840A (ja) | 2006-05-25 |
JP2006130840A5 JP2006130840A5 (ja) | 2007-12-20 |
JP4605760B2 JP4605760B2 (ja) | 2011-01-05 |
Family
ID=36724800
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004324087A Expired - Fee Related JP4605760B2 (ja) | 2004-11-08 | 2004-11-08 | 発熱抵抗体膜の製造方法、記録ヘッド用基体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4605760B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014162056A (ja) * | 2013-02-22 | 2014-09-08 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド用基板、液体吐出ヘッド、及び液体吐出ヘッド用基板の製造方法 |
JP2016112812A (ja) * | 2014-12-16 | 2016-06-23 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド用基板、液体吐出ヘッド、および液体吐出ヘッド用基板の製造方法 |
Citations (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6255155A (ja) * | 1985-07-29 | 1987-03-10 | ゼロツクス コ−ポレ−シヨン | インキジェットプリントヘッド及びその製造方法 |
JPS6487263A (en) * | 1987-09-30 | 1989-03-31 | Fuji Xerox Co Ltd | Ink jet recording device |
JPH02265754A (ja) * | 1989-02-02 | 1990-10-30 | Xerox Corp | サーマルインクジェット印字ヘッド |
JPH04310750A (ja) * | 1991-04-10 | 1992-11-02 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘッド、その製造方法、及び液体噴射記録ヘッドを備えた記録装置 |
JPH05269991A (ja) * | 1992-01-31 | 1993-10-19 | Inkjet Syst Gmbh & Co Kg | インクジェットプリンタヘッドの運用信頼度を保証するための方法及び装置 |
JPH0691884A (ja) * | 1992-09-10 | 1994-04-05 | Canon Inc | 記録ヘッド用基板の製造方法、及びポジ型感光性レジストの膜厚修正方法 |
JPH07202124A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-04 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPH10296977A (ja) * | 1997-04-24 | 1998-11-10 | Fuji Xerox Co Ltd | インクジェットヘッドおよびその作製方法 |
JP2001105596A (ja) * | 1999-10-04 | 2001-04-17 | Canon Inc | インクジェットヘッド用基体、インクジェットヘッド及びインクジェット装置 |
JP2001130003A (ja) * | 1999-08-24 | 2001-05-15 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド用基板ユニットおよびその製造方法ならびに液体吐出ヘッド,カートリッジおよび画像形成装置 |
JP2001287364A (ja) * | 2000-04-05 | 2001-10-16 | Canon Inc | インクジェットヘッド用基体、インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置 |
JP2003092356A (ja) * | 2001-09-17 | 2003-03-28 | Sony Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2003127375A (ja) * | 2001-10-22 | 2003-05-08 | Canon Inc | 発熱抵抗体膜、記録ヘッド用基体、記録ヘッド及び記録装置 |
JP2003136738A (ja) * | 2001-11-06 | 2003-05-14 | Canon Inc | 回路基板及び液体吐出ヘッド、並びにそれらの製造方法 |
JP2003226972A (ja) * | 2002-02-06 | 2003-08-15 | Tokyo Electron Ltd | 成膜方法および成膜装置、導体膜、半導体装置の製造方法 |
JP2004014769A (ja) * | 2002-06-06 | 2004-01-15 | Alps Electric Co Ltd | 抵抗素子およびその製造方法 |
JP2004195688A (ja) * | 2002-12-16 | 2004-07-15 | Fuji Xerox Co Ltd | インクジェット用記録ヘッド及びその製造方法 |
JP2004284041A (ja) * | 2003-03-19 | 2004-10-14 | Fuji Xerox Co Ltd | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法、並びに、インクジェット記録装置 |
-
2004
- 2004-11-08 JP JP2004324087A patent/JP4605760B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6255155A (ja) * | 1985-07-29 | 1987-03-10 | ゼロツクス コ−ポレ−シヨン | インキジェットプリントヘッド及びその製造方法 |
JPS6487263A (en) * | 1987-09-30 | 1989-03-31 | Fuji Xerox Co Ltd | Ink jet recording device |
JPH02265754A (ja) * | 1989-02-02 | 1990-10-30 | Xerox Corp | サーマルインクジェット印字ヘッド |
JPH04310750A (ja) * | 1991-04-10 | 1992-11-02 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘッド、その製造方法、及び液体噴射記録ヘッドを備えた記録装置 |
JPH05269991A (ja) * | 1992-01-31 | 1993-10-19 | Inkjet Syst Gmbh & Co Kg | インクジェットプリンタヘッドの運用信頼度を保証するための方法及び装置 |
JPH0691884A (ja) * | 1992-09-10 | 1994-04-05 | Canon Inc | 記録ヘッド用基板の製造方法、及びポジ型感光性レジストの膜厚修正方法 |
JPH07202124A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-04 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPH10296977A (ja) * | 1997-04-24 | 1998-11-10 | Fuji Xerox Co Ltd | インクジェットヘッドおよびその作製方法 |
JP2001130003A (ja) * | 1999-08-24 | 2001-05-15 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド用基板ユニットおよびその製造方法ならびに液体吐出ヘッド,カートリッジおよび画像形成装置 |
JP2001105596A (ja) * | 1999-10-04 | 2001-04-17 | Canon Inc | インクジェットヘッド用基体、インクジェットヘッド及びインクジェット装置 |
JP2001287364A (ja) * | 2000-04-05 | 2001-10-16 | Canon Inc | インクジェットヘッド用基体、インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置 |
JP2003092356A (ja) * | 2001-09-17 | 2003-03-28 | Sony Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2003127375A (ja) * | 2001-10-22 | 2003-05-08 | Canon Inc | 発熱抵抗体膜、記録ヘッド用基体、記録ヘッド及び記録装置 |
JP2003136738A (ja) * | 2001-11-06 | 2003-05-14 | Canon Inc | 回路基板及び液体吐出ヘッド、並びにそれらの製造方法 |
JP2003226972A (ja) * | 2002-02-06 | 2003-08-15 | Tokyo Electron Ltd | 成膜方法および成膜装置、導体膜、半導体装置の製造方法 |
JP2004014769A (ja) * | 2002-06-06 | 2004-01-15 | Alps Electric Co Ltd | 抵抗素子およびその製造方法 |
JP2004195688A (ja) * | 2002-12-16 | 2004-07-15 | Fuji Xerox Co Ltd | インクジェット用記録ヘッド及びその製造方法 |
JP2004284041A (ja) * | 2003-03-19 | 2004-10-14 | Fuji Xerox Co Ltd | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法、並びに、インクジェット記録装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014162056A (ja) * | 2013-02-22 | 2014-09-08 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド用基板、液体吐出ヘッド、及び液体吐出ヘッド用基板の製造方法 |
JP2016112812A (ja) * | 2014-12-16 | 2016-06-23 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド用基板、液体吐出ヘッド、および液体吐出ヘッド用基板の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4605760B2 (ja) | 2011-01-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100229123B1 (ko) | 잉크 제트 헤드 기판, 잉크 제트 헤드, 잉크 제트 장치 및 잉크제트 기록 헤드 제조 방법 | |
JP2001105596A (ja) | インクジェットヘッド用基体、インクジェットヘッド及びインクジェット装置 | |
JP2010287899A (ja) | 回路基板の製造方法および回路基板、液体吐出装置 | |
JP3697196B2 (ja) | 記録ヘッド用基体、記録ヘッド及び記録装置 | |
JP4646602B2 (ja) | インクジェット記録ヘッド用基板の製造方法 | |
JP5311975B2 (ja) | 液体吐出ヘッド用基体及びこれを用いる液体吐出ヘッド | |
JP4605760B2 (ja) | 発熱抵抗体膜の製造方法、記録ヘッド用基体の製造方法 | |
JP2004216876A (ja) | インクジェットヘッド用基体およびこれを用いるインクジェットヘッドとその製造方法 | |
JP2933429B2 (ja) | 液体噴射記録ヘッド用基板、液体噴射記録ヘッドおよび液体噴射記録装置 | |
JP2004216875A (ja) | インクジェットヘッド用基体およびこれを用いるインクジェットヘッドとその製造方法 | |
JP3554148B2 (ja) | インクジェット記録ヘッド用基体、インクジェット記録ヘッド及びインクジェット記録装置 | |
KR20070087767A (ko) | 잉크젯 프린트헤드용 히터 및 이 히터를 구비하는 잉크젯프린트헤드 | |
JP2007230127A (ja) | インクジェット記録ヘッド用基体の製造方法 | |
JP2002046278A (ja) | インクジェットヘッド用基体、インクジェットヘッド、およびインクジェット記録装置 | |
US7055937B2 (en) | Heat generating resistant element film, substrate for ink jet head utilizing the same, ink jet head and ink jet apparatus | |
JP2002011886A (ja) | インクジェット記録ヘッド用基板、インクジェット記録ヘッド、および該ヘッド用基板の作成方法 | |
JPH07125218A (ja) | 発熱抵抗体、該発熱抵抗体を備えた液体吐出ヘッド用基体、該基体を備えた液体吐出ヘッド、及び該液体吐出ヘッドを備えた液体吐出装置 | |
JP4587443B2 (ja) | 回路基板の製造方法 | |
JP3192757B2 (ja) | 記録ヘッド用基体、インクジェット記録ヘッド用基体、インクジェット記録ヘッド、インクジェット記録装置およびインクジェット記録ヘッド用基体の製造方法 | |
JP4497869B2 (ja) | 回路基板の製造方法 | |
JP2763412B2 (ja) | 液体噴射記録ヘッド、液体噴射記録ヘッド用基体及び液体噴射記録装置 | |
JP2004209751A (ja) | 発熱抵抗体薄膜、それを用いたインクジェットヘッド及びインクジェット装置、ならびにこれらの製造方法 | |
JPH10114072A (ja) | インクジェット記録ヘッド用基体、該基体の製造方法、前記基体を有するインクジェット記録ヘッド及び該ヘッドの製造方法 | |
JP2006168170A (ja) | 発熱抵抗体膜、その製造方法、それを用いたインクジェットヘッドおよびその製造方法 | |
JP2007245402A (ja) | インクジェットヘッド及びインクジェットヘッド製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071102 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071102 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100623 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100630 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100830 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100929 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101004 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131015 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |