JP5311975B2 - 液体吐出ヘッド用基体及びこれを用いる液体吐出ヘッド - Google Patents
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Description
まず、単結晶シリコンウエハ上に熱酸化膜を形成し、このシリコンウエハ(基板4004)を図4の装置の成膜室4009内の基板ホルダー4003にセットした。次いで、排気ポンプ4007により成膜室4009内を8×10−6Paまで排気した。その後、Arガスをガス導入口4010から成膜室4009に導入し、成膜室4009内の条件を以下のようにした。
基板温度:150℃
成膜室内ガス雰囲気温度:150℃
成膜室内混合ガス圧力:0.6Pa
次いで、各種TaSiターゲットを用いて、スパッタリング法により、シリコンウエハの熱酸化膜上に200nmの膜厚でTa100−XSiX膜を形成し、試料1〜3を得た。
得られた上記試料1〜3、および4〜12についてRBS(ラザフォード後方散乱)分析を行い、各試料の組成分析を行った。その結果を表1および表2に示す。
次に、各試料の膜応力について、成膜の前後における基板変形量により測定した。試料1〜12において、膜応力は0より大きく、1.0×1010dyn/cm2以下の圧縮応力にすることにより、強い膜密着力を得ることができた。膜応力が0より大きい圧縮応力であると膜が緻密になり、1.0×1010dyn/cm2以上であると応力が大きいため、ウエハのそりや膜割れの可能性が大きくなる。
(実施例1)
本実施例のTa78Si22膜107(組成比が、Ta:78at.%、Si:22at.%の膜を表す。以下、同様。)と密着層(ポリエーテルアミド樹脂)307との密着性を簡易的に評価するために、テープ引き剥がし試験をPCT(Pressure Cooker Test)後に行った。
実施例1と同様の方法を用いて、Ta膜と密着層(ポリエーテルアミド樹脂)307との密着性について、PCT後の密着性の評価を行った。その結果を表3に示す。
実施例1と同様の方法を用いて、組成の異なるTa100−XSiX膜について、PCT後の密着性の評価を行った。その結果を表3に示す。
上部保護層107としてTa65Si35の単層膜を用いて液体吐出ヘッドを完成し、実際にインクを吐出させて、その吐出評価を行なった。
図6は、本発明の実施例に係る液体吐出ヘッド用基体を形成する更に他の方法を説明する模式図である。
ここで説明する実施例は、上部保護層107として、TaSiの傾斜組成膜を用いた場合を示す。詳細には、上部保護層107は、発熱抵抗層104から被覆樹脂層203に向かって、Siの含有量が増加する傾斜組成膜となっている。上部保護層107において、TaとSiとの組成比は、流路形成部材である被覆樹脂層203と接する面の方が、発熱抵抗層104と接する面と比較してSiの含有量が多くなっていることが好ましく、より密着性に対して有利となる。
実施例10〜12の比較例として、上部保護層としてTaのみの単層膜を用いた場合を示す。
図9は、本発明の実施例に係る液体吐出ヘッド用基体を形成する更に他の方法を説明する模式図である。
表3の実施例1〜3で成膜された各々の組成の金属膜上に、所定の形状にパターニングされたフォトレジストを形成した試料を作製した。これに対し、リアクティブイオンエッチング装置を用いて、Cl2ガスを流量100sccm、圧力1Paに導入し、500Wのパワーで各々の試料に対してドライエッチングを実施した。その結果、Si量が増加するとエッチングレートは増加する傾向ではあるが、実施例1〜3の膜のエッチングレートは、200〜300nm/min.程度であり、組成による依存性は低いことがわかった。
101 シリコン基板
102 蓄熱層
103 層間膜
104 発熱抵抗層
105 金属配線
106 保護層
107 上部保護層
108 熱作用部
109 液路形成部材
110 吐出口
Claims (9)
- その上に樹脂の流路形成部材が設けられる液体吐出ヘッド用基体であって、
液体を吐出するためのエネルギーを発生する発熱抵抗体と、
前記発熱抵抗体に電気的に接続する電極配線と、
前記発熱抵抗体と前記電極配線上に設けられる絶縁の保護層と、
前記保護層上に設けられる上部保護層と、
を有し、
前記上部保護層は、22at.%以上70at.%以下のSiを含有するTaSi合金からなることを特徴とする液体吐出ヘッド用基体。 - 前記上部保護層は、前記基体の側のSiの含有量よりも、前記流路形成部材の側のSiの含有量が多いことを特徴とする請求項1に記載の液体吐出ヘッド用基体。
- 前記流路形成部材と前記上部保護層との間に位置し、前記上部保護層に接し、有機物を含む有機層を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の液体吐出ヘッド用基体。
- 前記有機層が、ポリエーテルアミド樹脂であることを特徴とする請求項3に記載の液体吐出ヘッド用基体。
- 前記上部保護層の膜厚が、10nm以上、500nm以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッド用基体。
- 前記上部保護層の膜応力が、0より大きく1.0×1010dyn/cm2以下の圧縮応力であることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッド用基体。
- 前記発熱抵抗体に対応する前記上部保護層の上側にTa層が設けられていることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッド用基体。
- 前記上部保護層の下側にTa層が設けられていること特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッド用基体。
- 請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッド用基体と、
前記液体吐出ヘッド用基体上に設けられる流路形成部材と、を有し、
前記流路形成部材には、液体を吐出する吐出口が形成されていることを特徴とする液体吐出ヘッド。
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