JP4182035B2 - インクジェットヘッド用基板、該基板の製造方法および前記基板を用いるインクジェットヘッド - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 76
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 26
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 160
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 47
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 10
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 8
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims description 6
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 6
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 claims description 5
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 65
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 47
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 15
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 13
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 7
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 7
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 5
- 238000005338 heat storage Methods 0.000 description 5
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 5
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004200 TaSiN Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1628—Manufacturing processes etching dry etching
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14016—Structure of bubble jet print heads
- B41J2/14072—Electrical connections, e.g. details on electrodes, connecting the chip to the outside...
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14016—Structure of bubble jet print heads
- B41J2/14088—Structure of heating means
- B41J2/14112—Resistive element
- B41J2/14129—Layer structure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1603—Production of bubble jet print heads of the front shooter type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/164—Manufacturing processes thin film formation
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Description
前記発熱部を形成するための間隙を有する電極配線層と、
前記間隙を含め前記電極配線層の上層として配置される発熱抵抗体層と、
前記電極配線層および前記発熱抵抗体層の上層として配置され、前記発熱部上で前記間隙より広い間隙を有する第1保護層と、
該第1保護層が有する間隔を含め前記第1保護層の上層として配置される第2保護層と、
前記第1保護層と前記第2保護層との間に配置されて前記電極配線層と電気的に接続される第2電極配線層と、
を具え、前記第1保護層より前記第2保護層の方が厚みが小であり、かつ、前記電極配線層より前記第2電極配線層の方が厚みが小であることを特徴とする。
基体上に、前記発熱部を形成するための間隙を有する電極配線層を配置する工程と、
前記間隙を含め前記電極配線層の上層として発熱抵抗体層を配置する工程と、
前記電極配線層および前記発熱抵抗体層の上層として第1保護層を配置し、該第1保護層を前記発熱部上で前記間隙より広い間隙を有する範囲で除去する工程と、
前記範囲を含め前記第1保護層の上層として当該第1保護層の厚さより薄い第2保護層を配置する工程と、
を具えるとともに、前記第1保護層を配置する工程後に、前記第2保護層が配置されるに先立って、前記第1保護層の上層として配置されるとともに前記電極配線層と電気的に接続される第2電極配線層であって、前記電極配線層より厚みが小さい第2電極配線層を配置する工程をさらに具えたことを特徴とする。
図6および図7は、それぞれ、本発明の第1の実施形態によるインクジェットヘッド用基板の発熱部の模式的平面図およびそのVII−VII線断面図である。ここで、図1〜図4の各部と同様に機能する部分については対応箇所に同一符号を付してある。
このように逆スパッタ(高周波エッチング)を実施することにより、清浄な表面を露出させると共に、電極配線層の端部におけるエッジを削り落として、より滑らかなテーパ形状を形成し、電極配線層に対するカバレッジ性を向上することができる。そして、フォトリソグラフィ法を用いて、リアクティブイオンエッチング(RIE)法によりエッチングを実施し、図9(a)および(b)に示すように、電極配線層103および発熱部102上に対応する発熱抵抗層107の所定パターンを得た。
上記第1の実施形態は、図6に示したように、1ノズルに対する電極配線上に発熱部が一つ設けられる形態のインクジェットヘッド用基板に係るものであるが、本発明は、1ノズルに対する電極配線上に2つ以上の発熱部が設けられる形態のインクジェットヘッド用基板に対しても適用することができ、かつ有効である。
ところで、熱エネルギを利用してインクを吐出する方式によるインクジェットヘッドでは、記録の高解像化、高画質化、高速化に応えるため、ノズル数を増加し、さらに高精細かつ高密度化していくことが求められている。これに対応して、基体上に配設される発熱部の数も増加し、かつこれらを高精細かつ高密度に形成することが求められている。また、これに伴って、熱効率を上げて消費電力を下げる省力化も求められている。かかる省力化の観点からは、発熱抵抗体に接続される電極配線の抵抗の低減を図ることが強く望ましい。通常、電極配線の低抵抗化は基板上に形成される電極配線の幅を広げることにより行われる。しかしながら、基板上に形成されるエネルギ発生部の数が上述した理由により膨大になってくると、基板の大型化を伴わずには電極配線の幅を広げるだけの十分なスペースを確保できなくなる。
同図(a)の場合、基板(不図示)の端部に配置される端子205Tに近い発熱部102Nに対する配線パターン205NがY方向に延在する配線部分において幅Wを有しているとき、端子205Tから遠い発熱部102Fに対する配線パターン205Fは、図のY方向に延在する配線部分において幅x・W(x>1)を有することになる。端子205Tから各発熱部までの距離すなわち配線の長さは一様ではなく、端子205Tからの距離に応じて抵抗値が変化するからである。このように、同一平面において配線抵抗の低減ないしは均等化を図る構成では、各発熱部に対する上記配線部分の幅(端子から遠い発熱部に対するものほど大となる)の合計値に見合う面積が基板に求められることになるのである。
続いて、以上のいずれかの実施形態に係る基板を用いたインクジェットヘッドについて説明する。
図19はインクジェットヘッドの模式的な斜視図である。
このインクジェットヘッドは、所定のピッチで発熱部102が形成された発熱部列を2列、並列させてなる基板1を有している。ここで、上記製造工程を経て製造された2枚の基板を、発熱部102が配列されている側の縁部を対向配置することで当該並列化が行われるようにしてもよいし、1枚の基体上に予め発熱部が2列並列するように上記製造工程を実施してもよい。
このインクジェットヘッドは、プリンタ、複写機、通信システムを有するファクシミリ、プリンタ部を有するワードプロセッサなどの装置、更には各種処理装置と複合的に組み合わせた産業記録装置に搭載可能である。そして、このインクジェット記録ヘッドを用いることによって、紙、糸、繊維、布帛、皮革、金属、プラスチック、ガラス、木材、セラミックスなど種々の記録媒体に記録を行うことができる。なお、本明細書において、「記録」とは、文字や図形などの意味を持つ画像を記録媒体に対して付与することだけでなく、パターンなどの意味を持たない画像を付与することも意味する。
103 第1電極配線層
104 第2電極配線層
106 蓄熱層
107 発熱抵抗体層
108、108a 第1保護絶縁膜
108b、109 第2保護絶縁膜
110 耐キャビテーション膜
120 Si基体
410 インクジェットヘッド
Claims (9)
- 通電に応じてインクを吐出するために利用される熱エネルギを発生する発熱部を有するインクジェットヘッド用基板であって、
前記発熱部を形成するための間隙を有する電極配線層と、
前記間隙を含め前記電極配線層の上層として配置される発熱抵抗体層と、
前記電極配線層および前記発熱抵抗体層の上層として配置され、前記発熱部上で前記間隙より広い間隙を有する第1保護層と、
該第1保護層が有する間隔を含め前記第1保護層の上層として配置される第2保護層と、
前記第1保護層と前記第2保護層との間に配置されて前記電極配線層と電気的に接続される第2電極配線層と、
を具え、前記第1保護層より前記第2保護層の方が厚みが小であり、かつ、前記電極配線層より前記第2電極配線層の方が厚みが小であることを特徴とするインクジェットヘッド用基板。 - 前記電極配線層はAlもしくはAl合金で形成されていることを特徴とする請求項1に記載のインクジェット記録ヘッド用基板。
- 前記発熱部が前記電極配線層に対して直列に複数形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のインクジェット記録ヘッド用基板。
- 通電に応じてインクを吐出するために利用される熱エネルギを発生する発熱部を有するインクジェットヘッド用基板の製造方法であって、
基体上に、前記発熱部を形成するための間隙を有する電極配線層を配置する工程と、
前記間隙を含め前記電極配線層の上層として発熱抵抗体層を配置する工程と、
前記電極配線層および前記発熱抵抗体層の上層として第1保護層を配置し、該第1保護層を前記発熱部上で前記間隙より広い間隙を有する範囲で除去する工程と、
前記範囲を含め前記第1保護層の上層として当該第1保護層の厚さより薄い第2保護層を配置する工程と、
を具えるとともに、前記第1保護層を配置する工程後に、前記第2保護層が配置されるに先立って、前記第1保護層の上層として配置されるとともに前記電極配線層と電気的に接続される第2電極配線層であって、前記電極配線層より厚みが小さい第2電極配線層を配置する工程をさらに具えたことを特徴とするインクジェットヘッド用基板の製造方法。 - 前記除去工程では、前記発熱抵抗層をエッチングストッパー層として前記第1保護層を除去することを特徴とする請求項4に記載のインクジェットヘッド用基板の製造方法。
- 前記電極配線層を配置する工程は、ドライエッチングによりパターニングを行う工程を有することを特徴とする請求項4または請求項5に記載のインクジェット記録ヘッド用基板の製造方法。
- 前記発熱抵抗体層を配置する工程に先立って逆スパッタを実施する工程を具えたことを特徴とする請求項4ないし請求項6に記載のインクジェットヘッド用基板の製造方法。
- 前記発熱抵抗体層を配置する工程後に、前記第1保護層の配置を含め前記基体が400℃以上にさらされる工程が存在することを特徴とする請求項4ないし請求項7のいずれかに記載のインクジェット記録ヘッド用基板の製造方法。
- 請求項1ないし請求項3のいずれかに記載のインクジェットヘッド用基板と、
前記発熱部に対応したインク吐出口と、
を具えたことを特徴とするインクジェットヘッド。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004236607A JP4182035B2 (ja) | 2004-08-16 | 2004-08-16 | インクジェットヘッド用基板、該基板の製造方法および前記基板を用いるインクジェットヘッド |
DE602005013864T DE602005013864D1 (de) | 2004-08-16 | 2005-08-12 | Schaltungsplatte für Tintenstrahldruckkopf, Verfahren zu ihrer Herstellung und damit ausgestatteter Tintenstrahldruckkopf |
EP05017617A EP1627742B1 (en) | 2004-08-16 | 2005-08-12 | Ink jet head circuit board, method of manufacturing the same, and ink jet head using the same |
US11/203,130 US7641316B2 (en) | 2004-08-16 | 2005-08-15 | Ink jet head circuit board, method of manufacturing the same and ink jet head using the same |
CNB2005100926025A CN100406256C (zh) | 2004-08-16 | 2005-08-16 | 喷墨头用基板、该基板的制造方法和使用上述基板的喷墨头 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004236607A JP4182035B2 (ja) | 2004-08-16 | 2004-08-16 | インクジェットヘッド用基板、該基板の製造方法および前記基板を用いるインクジェットヘッド |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006051772A JP2006051772A (ja) | 2006-02-23 |
JP2006051772A5 JP2006051772A5 (ja) | 2007-03-01 |
JP4182035B2 true JP4182035B2 (ja) | 2008-11-19 |
Family
ID=35058718
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004236607A Expired - Fee Related JP4182035B2 (ja) | 2004-08-16 | 2004-08-16 | インクジェットヘッド用基板、該基板の製造方法および前記基板を用いるインクジェットヘッド |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7641316B2 (ja) |
EP (1) | EP1627742B1 (ja) |
JP (1) | JP4182035B2 (ja) |
CN (1) | CN100406256C (ja) |
DE (1) | DE602005013864D1 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4537246B2 (ja) * | 2004-05-06 | 2010-09-01 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッド用基体の製造方法及び該方法により製造された前記基体を用いた記録ヘッドの製造方法 |
JP4137027B2 (ja) * | 2004-08-16 | 2008-08-20 | キヤノン株式会社 | インクジェットヘッド用基板、該基板の製造方法および前記基板を用いるインクジェットヘッド |
JP4646602B2 (ja) * | 2004-11-09 | 2011-03-09 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッド用基板の製造方法 |
US8142678B2 (en) * | 2005-08-23 | 2012-03-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Perovskite type oxide material, piezoelectric element, liquid discharge head and liquid discharge apparatus using the same, and method of producing perovskite type oxide material |
JP4926669B2 (ja) | 2005-12-09 | 2012-05-09 | キヤノン株式会社 | インクジェットヘッドのクリーニング方法、インクジェットヘッドおよびインクジェット記録装置 |
US8438729B2 (en) * | 2006-03-09 | 2013-05-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of producing liquid discharge head |
WO2008146894A1 (en) * | 2007-05-29 | 2008-12-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate for liquid discharge head, method of manufacturing the same, and liquid discharge head using such substrate |
JP4963679B2 (ja) * | 2007-05-29 | 2012-06-27 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド用基体及びその製造方法、並びに該基体を用いる液体吐出ヘッド |
US7862156B2 (en) * | 2007-07-26 | 2011-01-04 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Heating element |
JP5311975B2 (ja) * | 2007-12-12 | 2013-10-09 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド用基体及びこれを用いる液体吐出ヘッド |
US8152279B2 (en) * | 2008-06-18 | 2012-04-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection head having substrate with nickel-containing layer |
JP5312202B2 (ja) | 2008-06-20 | 2013-10-09 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド及びその製造方法 |
JP2015080918A (ja) | 2013-10-23 | 2015-04-27 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドおよび該液体吐出ヘッドの製造方法 |
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JP3592136B2 (ja) | 1999-06-04 | 2004-11-24 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法と微小電気機械装置の製造方法 |
US6688729B1 (en) | 1999-06-04 | 2004-02-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head substrate, liquid discharge head, liquid discharge apparatus having these elements, manufacturing method of liquid discharge head, and driving method of the same |
JP2001105599A (ja) | 1999-10-05 | 2001-04-17 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド、液体吐出ヘッドの製造方法および液体吐出装置 |
JP2001138521A (ja) | 1999-11-11 | 2001-05-22 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドおよび該記録ヘッドを用いたインクジェット記録装置 |
JP2001287364A (ja) | 2000-04-05 | 2001-10-16 | Canon Inc | インクジェットヘッド用基体、インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置 |
JP4557386B2 (ja) * | 2000-07-10 | 2010-10-06 | キヤノン株式会社 | 記録ヘッド用基板の製造方法 |
JP2004195688A (ja) | 2002-12-16 | 2004-07-15 | Fuji Xerox Co Ltd | インクジェット用記録ヘッド及びその製造方法 |
JP3962719B2 (ja) | 2002-12-27 | 2007-08-22 | キヤノン株式会社 | インクジェットヘッド用基体およびこれを用いるインクジェットヘッドとその製造方法 |
JP4537246B2 (ja) | 2004-05-06 | 2010-09-01 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッド用基体の製造方法及び該方法により製造された前記基体を用いた記録ヘッドの製造方法 |
JP4137027B2 (ja) | 2004-08-16 | 2008-08-20 | キヤノン株式会社 | インクジェットヘッド用基板、該基板の製造方法および前記基板を用いるインクジェットヘッド |
JP4630680B2 (ja) | 2005-01-31 | 2011-02-09 | キヤノン株式会社 | 半導体素子の製造方法およびインクジェット記録ヘッドの製造方法 |
-
2004
- 2004-08-16 JP JP2004236607A patent/JP4182035B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-08-12 DE DE602005013864T patent/DE602005013864D1/de active Active
- 2005-08-12 EP EP05017617A patent/EP1627742B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-08-15 US US11/203,130 patent/US7641316B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-08-16 CN CNB2005100926025A patent/CN100406256C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7641316B2 (en) | 2010-01-05 |
JP2006051772A (ja) | 2006-02-23 |
CN100406256C (zh) | 2008-07-30 |
EP1627742A1 (en) | 2006-02-22 |
US20060033782A1 (en) | 2006-02-16 |
DE602005013864D1 (de) | 2009-05-28 |
EP1627742B1 (en) | 2009-04-15 |
CN1736714A (zh) | 2006-02-22 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070117 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070308 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070320 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070521 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071120 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080121 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080314 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080513 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080826 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080901 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4182035 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110905 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110905 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120905 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120905 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130905 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |