JP2006121094A - 電荷トラップ膜を有する不揮発性メモリセル構造物及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の不揮発性メモリ素子及びそのような素子を形成する方法において、電荷トラップ膜の少なくとも一つのエッジがリセスされる。このような方式で、プログラム動作中の素子のスレッショルド電圧及び消去動作中の素子のスレッショルド電圧は適切で一定した水準に維持される。これにより、素子の特性が向上される。
【選択図】図2
Description
102,310 基板
320,520,620,720,820,920,1020,1120 電荷トラップ構造物
325 トンネリング層
330 電荷トラップ層
335 遮蔽層
350 ゲート電極
360 絶縁膜
371 低濃度不純物領域
380 スペーサ
392 高濃度不純物領域
510 フォトレジストパターン
Claims (33)
- 半導体基板と、
前記基板の上層部内に空間上分離されて設けられるソース領域とドレーン領域と、
前記ソース領域と前記ドレーン領域との間の前記基板上の電荷トラップ構造物、および
前記電荷トラップ構造物上のゲート電極
を含み、
前記ゲート電極及び前記ソース領域と前記ドレーン領域のうち少なくともいずれか一つの一部との間の前記電荷トラップ構造物内にリセスが存在することを特徴とする不揮発性メモリ素子。 - 前記ソースとドレーン領域のうち少なくとも一つの内側エッジが前記電荷トラップ構造物の外側エッジと実質的に整列されることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性メモリ素子。
- 前記リセスが前記電荷トラップ構造物のソース領域側面にあることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性メモリ素子。
- 前記リセスが前記電荷トラップ構造物のソース領域側面及びドレーン領域側面の両側面にあることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性メモリ素子。
- 前記リセス内に誘電物質をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の不揮発性メモリ素子。
- 前記電荷トラップ構造物は、シリコン酸化物及びシリコン酸窒化物より成ったグループから選択された物質を含む第1の誘電膜と、
前記第1の誘電膜上に形成され、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物及び高誘電率物質より成ったグループから選択された物質を含む第2の誘電膜、および
前記第2の誘電膜上に形成され、シリコン酸化物を含む第3の誘電膜
を含むことを特徴とする請求項1に記載の不揮発性メモリ素子。 - 前記リセスは、前記第2の誘電膜内に形成されたことを特徴とする請求項6に記載の不揮発性メモリ素子。
- 前記電荷トラップ構造物が、シリコン酸化物及びシリコン酸窒化物より成ったグループから選択された物質を含む第1の誘電膜と、
前記第1の誘電膜上に形成され、ポリシリコン量子点及びシリコン窒化物量子点より成ったグループから選択されたタイプの量子点を含む量子点アレイ、及び前記量子点アレイ上にシリコン酸化物を含む第2の誘電膜と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の不揮発性メモリ素子。 - 前記電荷トラップ構造物は、前記ソース領域から前記ソース領域及び前記ドレーン領域の間の中間領域へ延長され、
前記中間領域内の前記電荷トラップ構造物から前記ドレーン領域へ延長された前記基板上のゲート誘電膜をさらに含み、
前記ゲート電極が前記電荷トラップ構造物及び前記ゲート誘電膜上にあることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性メモリ素子。 - 前記電荷トラップ構造物は、第1の電荷トラップ構造物を含み、
前記ゲート電極は、第1の補助ゲート電極を含み、
前記ソース領域と前記ドレーン領域との間の前記基板上の主ゲート誘電膜と、
前記主ゲート誘電膜上にある主ゲート電極と、
前記ソース領域及び前記主ゲート電極の間の前記基板上にある前記第1の電荷トラップ構造物と、
前記第1の電荷トラップ構造物上にあり、前記第1の補助ゲート電極と前記ソース領域の一部との間にある前記第1の電荷トラップ構造物内に第1のリセスが存在する前記第1の補助ゲート電極と、
前記ドレーン領域と前記主ゲート電極との間にある前記基板上の第2の電荷トラップ構造物、および
前記第2の電荷トラップ構造物上にあり、前記第2の補助ゲート電極及び前記ドレーン領域の一部の間の前記第2の電荷トラップ構造物内に第2のリセスが存在する第2の補助ゲート電極、
をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の不揮発性メモリ素子。 - 半導体基板と、
前記基板の上層部内に空間上分離されて設けられるソース領域およびドレーン領域と、
前記ソース領域と前記ドレーン領域との間の前記基板上にある主ゲート誘電膜と、
前記主ゲート誘電膜上にある主ゲート電極と、
前記ソース領域と前記主ゲート電極との間の前記基板上の第1の電荷トラップ構造物と、
前記第1の電荷トラップ構造物上に存在する前記第1の補助ゲート電極であって、前記第1の補助ゲート電極と前記ソース領域の一部との間にある前記第1の電荷トラップ構造物内に第1のリセスが存在する前記第1の補助ゲート電極と、
前記ドレーン領域と前記主ゲート電極との間にある前記基板上の第2の電荷トラップ構造物、および
前記第2の電荷トラップ構造物上に存在する前記第2の補助ゲート電極であって、前記第2の補助ゲート電極と前記ドレーン領域の一部との間にある前記第2の電荷トラップ構造物内に第2のリセスが存在する前記第2の補助ゲート電極、
を含むことを特徴とする不揮発性メモリ素子。 - 前記第1及び第2の補助ゲート電極は、前記第1のゲート電極のドレーン側面とソース側面のそれぞれの前記第1の電荷トラップ構造物と前記第2の電荷トラップ構造物上に形成された伝導性の側壁スペーサを含むことを特徴とする請求項11に記載の不揮発性メモリ素子。
- 前記第1及び第2の電荷トラップ構造物は、シリコン酸化物及びシリコン酸窒化物より成ったグループから選択された物質を含む第1の誘電膜と、
前記第1の誘電膜上に形成され、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物及び高誘電率物質より成ったグループから選択された物質を含む第2の誘電膜、および
前記第2の誘電膜上に形成され、シリコン酸化物を含む第3の誘電膜
を含むことを特徴とする請求項11に記載の不揮発性メモリ素子。 - 前記第1及び第2のリセスがそれぞれ前記第1及び第2の電荷トラップ構造物の前記第2の誘電膜内に形成されることを特徴とする請求項13に記載の不揮発性メモリ素子。
- 前記第1及び第2の電荷トラップ構造物は、シリコン酸化物及びシリコン酸窒化物より成ったグループから選択された物質を含む第1の誘電膜と、
前記第1の誘電膜上に形成され、ポリシリコン量子点及びシリコン窒化物量子点より成ったグループから選択されたタイプの量子点を含む量子点アレイ、及び前記量子点アレイ上に形成され、シリコン酸化物を含む第2の誘電膜
を含むことを特徴とする請求項11に記載の不揮発性メモリ素子。 - 前記第1及び第2のリセス内に誘電物質をさらに含むことを特徴とする請求項11に記載の不揮発性メモリ素子。
- 半導体基板上の電荷トラップ構造物を提供し、
前記電荷トラップ構造物上にゲート電極を提供し、
前記電荷トラップ構造物の少なくとも一つの露出された外側エッジを選択的にエッチングして前記半導体基板と前記ゲート電極との間に少なくとも一つのリセスを形成し、
イオン注入マスクとして前記ゲート電極を使用して前記半導体基板内にソース領域とドレーン領域とを形成することを含むことを特徴とする不揮発性メモリ素子を形成する方法。 - 前記電荷トラップ構造物を提供する工程と前記ゲート電極を提供する工程は、
前記半導体基板上に電荷トラップ膜を提供し、
前記電荷トラップ膜上にゲート電極膜を提供し、
前記ゲート電極膜と前記電荷トラップ膜とをパターニングして前記ゲート電極と前記電荷トラップ構造物とを形成することを含むことを特徴とする請求項17に記載の不揮発性メモリ素子を形成する方法。 - 前記電荷トラップ構造物を提供する工程と前記ゲート電極を提供する工程は、
前記半導体基板上に電荷トラップ膜を提供し、
前記電荷トラップ膜をパターニングして前記ソース領域と前記ドレーン領域との間にある中間領域と前記ソース領域との間の前記基板上に延長される電荷トラップ構造物を形成し、
前記中間領域内の前記電荷トラップ膜から前記ドレーン領域へ延長される前記基板上のゲート誘電膜を提供し、
前記電荷トラップ膜上及び前記ゲート誘電膜上にゲート電極膜を提供し、
前記ゲート電極膜と前記ゲート誘電膜とをパターニングして前記ゲート電極と前記電荷トラップ構造物とを形成することを含むことを特徴とする請求項17に記載の不揮発性メモリ素子を形成する方法。 - 前記ソース及びドレーン領域の少なくとも一つの内側エッジが前記電荷トラップ構造物の外側エッジと実質的に整列されるときまで拡散を遂行することを特徴とする請求項17に記載の不揮発性メモリ素子を形成する方法。
- 前記選択的にエッチングする工程は、前記電荷トラップ構造物のソース領域側面にリセスを形成することを特徴とする請求項17に記載の不揮発性メモリ素子を形成する方法。
- 前記選択的にエッチングする工程は、前記電荷トラップ構造物のソース領域とドレーン領域の両側面にリセスを形成することを特徴とする請求項17に記載の不揮発性メモリ素子を形成する方法。
- 前記電荷トラップ構造物を提供する工程は、シリコン酸化物及びシリコン酸窒化物より成ったグループから選択された物質を含む第1の誘電膜を提供し、
前記第1の誘電膜上に、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物及び高誘電率物質より成ったグループから選択された物質を含む第2の誘電膜を提供し、
前記第2の誘電膜上にシリコン酸化物を含む第3の誘電膜を提供することを含むことを特徴とする請求項17に記載の不揮発性メモリ素子を形成する方法。 - 前記選択的にエッチングする工程は、前記第2の誘電膜内に形成される前記リセスを得ることを特徴とする請求項23に記載の不揮発性メモリ素子を形成する方法。
- 前記電荷トラップ構造物を提供する工程は、
シリコン酸化物及びシリコン酸窒化物より成ったグループから選択された物質を含む第1の誘電膜を提供し、
前記第1の誘電膜上にポリシリコン量子点とシリコン窒化物量子点より成ったグループから選択されたタイプの量子点を含む量子点アレイを提供し、
前記量子点アレイ上にシリコン酸化物を含む第2の誘電膜を提供することを含むことを特徴とする請求項17に記載の不揮発性メモリ素子を形成する方法。 - 前記リセス内に誘電物質を提供する工程をさらに含むことを特徴とする請求項17に記載の不揮発性メモリ素子を形成する方法。
- 半導体基板上に主ゲート誘電膜を提供し、
前記主ゲート誘電膜上に主ゲート電極を提供し、
前記半導体基板上及び前記主ゲート電極上に電荷トラップ構造物を提供し、
前記主ゲート誘電膜上であって前記主ゲート電極の第1及び第2の側壁に第1及び第2の補助ゲート電極を提供し、
前記電荷トラップ構造物の少なくとも一つの露出された外側エッジを選択的にエッチングして前記半導体基板と前記第1の補助ゲート電極との間に第1のリセスを形成し、
イオン注入マスクとして前記主ゲート電極と前記第1及び第2の補助ゲート電極を用いて前記半導体基板内にソース領域とドレーン領域とを提供することを含むことを特徴とする不揮発性メモリ素子を形成する方法。 - 前記選択的エッチングは、前記半導体基板及び前記第2の補助ゲート電極の間に第2のリセスをさらに形成することを特徴とする請求項27に記載の不揮発性メモリ素子を形成する方法。
- 前記第1及び第2の補助ゲート電極を提供する工程は、
前記主ゲート電極の側壁上の前記電荷トラップ構造物上に伝導性物質の第1及び第2の側壁スペーサを形成し、前記第1及び第2の側壁スペーサは、それぞれ前記第1及び第2の補助ゲート電極を含み、
イオン注入マスクとして前記主ゲート電極と第1及び第2の側壁スペーサとを使用して前記半導体基板内に前記ソース領域と前記ドレーン領域とを形成することを含むことを特徴とする請求項27に記載の不揮発性メモリ素子を形成する方法。 - 前記電荷トラップ構造物を提供する工程は、
第1の誘電膜を提供し、
前記第1の誘電膜上に第2の誘電膜を提供し、
前記第2の誘電膜上に第3の誘電膜を提供すること
を含み、
前記第1の誘電膜がシリコン酸化物及びシリコン酸窒化物より成ったグループから選択された物質を含み、
前記第2の誘電膜が、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物及び高誘電率物質より成ったグループから選択された物質を含み、
前記第3の誘電膜がシリコン酸化物を含むことを特徴とする請求項27に記載の不揮発性メモリ素子を形成する方法。 - 前記選択的エッチングは、前記第2の誘電膜内に形成されたリセスを得ることを特徴とする請求項30に記載の不揮発性メモリ素子を形成する方法。
- 前記電荷トラップ構造物を提供することは、
第1の誘電膜を提供し、
前記第1の誘電膜上に量子点アレイを提供し、
前記量子点アレイ上に第2の誘電膜を提供し、
前記第1の誘電膜がシリコン酸化物及びシリコン酸窒化物より成ったグループから選択された物質を含み、
前記量子点アレイは、ポリシリコン量子点及びシリコン窒化物量子点より成ったグループから選択されたタイプの量子点を含み、
前記第2の誘電膜は、シリコン酸化物を含むことを特徴とする請求項27に記載の不揮発性メモリ素子を形成する方法。 - 前記リセス内に誘電物質を提供することをさらに含むことを特徴とする請求項27に記載の不揮発性メモリ素子を形成する方法。
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